CN113224254A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。显示面板包括：基板；像素定义层；辅助电极；辅助电极遮挡块，位于过孔内且遮挡辅助电极，辅助电极遮挡块设有贯穿至辅助电极的开口，开口靠近辅助电极一端的尺寸大于远离辅助电极一端的尺寸；第一电极；发光层；第一功能层，在辅助电极遮挡块的开口位置被截断；第二电极，在辅助电极遮挡块的开口位置被截断；以及导电填充体，位于开口与过孔内，并与辅助电极、第二电极电连接。本发明技术方案的显示面板实现了辅助电极与第二电极之间的良好接触，改善显示面板的压降问题，提高显示面板的亮度均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(OLED)因其色域广、对比度高、响应迅速、视角大、功耗低等优点，近年来作为下一代显示技术而倍受关注。有机发光二极管显示面板可以分为顶发射和底发射两种结构，其中底发射结构受到开口率的限制，难以满足消费者对于高分辨率的需求，因此顶发射结构的有机发光二极管显示面板是未来发展的主要方向。
顶发射结构中，采用较薄的透明金属或氧化物作为阴极，并且需要通过阴极实现与屏幕边缘电路的连接。因为要兼顾到透过率，所以通常透明阴极的厚度较薄，导电性较差。当顶发射结构的显示面板尺寸达到10英寸以上时，由于屏幕中心区域离屏幕边缘电极接口较远，长距离的电流传输会使阴极分压增大，从而造成屏幕边缘和屏幕中心有机发光二极管中注入的载流子数目有差异，即压降现象(IR Drop)。这导致屏幕中心的有机发光二极管的亮度整体低于屏幕边缘，使得显示面板的亮度均匀性较低，严重影响了显示效果。同时，阴极分压增大提高了显示面板的能耗，也会造成发热等不良影响。
目前，被广泛采用来解决压降问题的方法，是在有机发光二极管下方的薄膜晶体管层中设置辅助阴极(本质是导线)，辅助阴极通过预留的过孔与阴极进行搭接，从而提高阴极的导电性，改善显示面板的亮度均匀性。请参见图1，传统的显示面板结构100’包括为基板1、像素定义层3、阳极4、辅助阴极5、空穴注入层6、空穴传输层7、发光层8、电子传输层9和阴极10(有时在电子传输层9和阴极10之间还有一层电子注入层)。其中，像素定义层3对应辅助阴极5的位置设有过孔11。
由于电子传输层9和阴极10都是在显示面板上进行整面镀膜，因此在过孔11中的搭接位置上，辅助阴极5和阴极10之间并非直接接触，二者中间还有一层相对绝缘的电子传输层9，如图1所示。为了实现辅助阴极5和阴极10之间的良好导通，需要施加大电压对电子传输层9进行烧穿(burn in)。然而，即使电子传输层9被烧穿，由于辅助阴极5和阴极10的接触面上有电子传输层9残留，因此辅助阴极5与阴极10之间的导通依旧不够理想。同时，因为辅助阴极5和阴极10的电压输入都在显示面板的四周，所以显示面板边缘的过孔将会率先烧穿导通，引发分流压降，从而使得显示面板中间区域的过孔的烧穿效果较差，则中间区域的辅助阴极5与阴极10之间的导通较差，无法彻底改善压降导致的显示面板中心亮度低于四周亮度的现象。
发明内容
基于此，有必要针对如何改善压降的问题，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置。
一种显示面板，所述显示面板包括：
基板；
像素定义层，位于所述基板上，所述像素定义层具有贯穿至所述基板的若干个像素坑与位于相邻所述像素坑之间的过孔；
辅助电极，位于所述过孔内；
辅助电极遮挡块，位于所述过孔内且遮挡所述辅助电极，所述辅助电极遮挡块设有贯穿至所述辅助电极的开口，所述开口靠近所述辅助电极一端的尺寸大于远离所述辅助电极一端的尺寸；
第一电极，位于所述像素坑内；
发光层，位于所述第一电极上；
第一功能层，位于所述发光层、所述像素定义层以及所述辅助电极遮挡块上，并在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；
第二电极，位于所述第一功能层上，并在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；以及
导电填充体，位于所述开口与所述过孔内，并与所述辅助电极、所述第二电极电连接。
应用本发明技术方案的显示面板，由于第一功能层与第二电极在辅助电极遮挡块的开口位置被截断，且辅助电极与第二电极之间通过导电填充体连接，实现了辅助电极与第二电极之间的良好接触，从而改善显示面板的压降问题，提高显示面板的亮度均匀性，改善整体显示效果。
在其中一个实施例中，所述辅助电极遮挡块内部开口到所述辅助电极上表面的深度大于所述第一功能层与所述第二电极的厚度的总和；和/或
所述辅助电极遮挡块自所述基板向所述辅助电极方向上的厚度为300nm～600nm。
在其中一个实施例中，所述开口自所述辅助电极向所述基板方向的截面为正梯形，所述正梯形的锐角为55°～75°。
在其中一个实施例中，所述导电填充体远离所述基板的表面与所述像素定义层上的所述第二电极远离所述基板的表面平齐。
在其中一个实施例中，所述导电填充体由导电墨水固化得到。
在其中一个实施例中，所述显示面板还包括第二功能层，所述第二功能层位于所述第一电极与所述发光层之间；
所述第二功能层与所述第一功能层选自空穴功能层与电子功能层中的一种，且所述第二功能层与所述第一功能层不同；
所述空穴功能层选自空穴注入层与空穴传输层中的至少一种，所述电子功能层选自电子传输层与电子注入层中的至少一种。
一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：
提供基板；
在所述基板上形成第一电极、辅助电极、辅助电极遮挡块和像素定义层；其中，所述像素定义层具有若干个像素坑与位于相邻所述像素坑之间的过孔；所述第一电极位于所述像素坑内；所述辅助电极位于所述过孔内；所述辅助电极遮挡块位于所述过孔内且遮挡所述辅助电极，所述辅助电极遮挡块设有贯穿至所述辅助电极的开口，所述开口靠近所述辅助电极一端的尺寸大于远离所述辅助电极一端的尺寸；
在所述第一电极上形成发光层；
在所述发光层、所述像素定义层与所述辅助电极遮挡块的表面形成整面第一功能层，所述第一功能层在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；
在所述第一功能层上形成整面第二电极，所述第二电极在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；以及
在所述开口与所述过孔内形成用于电连接所述辅助电极与所述第二电极的导电填充体，得到显示面板。
在其中一个实施例中，形成所述辅助电极遮挡块的步骤为：
在所述基板、所述第一电极与所述辅助电极的表面涂布整面的负性光刻胶，之后对所述负性光刻胶进行曝光、显影，得到辅助电极遮挡块。
在其中一个实施例中，在所述开口与所述过孔内形成用于电连接所述辅助电极与所述第二电极的导电填充体的步骤为：
采用喷墨打印的方式，在所述开口与所述过孔内沉积导电墨水，直至导电墨水填满所述开口与所述过孔，固化处理，得到导电填充体。
本发明的显示面板的制备方法至少具有如下优点：
(1)由于第二电极和辅助电极之间的第一功能层无法完整覆盖辅助电极的表面，省去了对第一功能层进行烧穿(burn in)的制程；
(2)通过喷墨打印来制备导电填充体，因此只在需要的地方沉积墨水，不会对像素坑内的OLED材料造成影响；
(3)制备得到的显示面板，由于辅助电极与第二电极之间通过导电填充体连接，实现了辅助电极与第二电极之间的良好接触，从而改善显示面板的压降问题，提高显示面板的亮度均匀性，改善整体显示效果。
本发明一实施方式的显示装置，包括上述的显示面板或者采用上述的显示面板的制备方法制备得到的显示面板。
应用本发明技术方案的显示装置，包括上述的显示面板，由于第一功能层与第二电极在辅助电极遮挡块的开口位置被截断，且辅助电极与第二电极之间通过导电填充体连接，实现了辅助电极与第二电极之间的良好接触，从而改善显示面板的压降问题，提高显示面板的亮度均匀性，改善整体显示效果。
附图说明
图1为传统的显示面板的结构示意图；
图2为本发明一实施方式的显示面板的制备过程中对负性光刻胶进行曝光的示意图；
图3为本发明一实施方式的显示面板的制备过程中形成辅助电极遮挡块后的结构示意图；
图4为本发明一实施方式的显示面板的制备过程中形成像素定义层后的结构示意图；
图5为本发明一实施方式的显示面板的制备过程中在像素坑内形成第二功能层与发光层后的结构示意图；
图6为本发明一实施方式的显示面板的制备过程中形成第一功能层和第二电极后的结构示意图；
图7为本发明一实施方式的显示面板的制备过程中在开口与过孔内沉积导电墨水的示意图；
图8为本发明一实施方式的显示面板的结构示意图；
图9为图8的局部放大示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本发明一实施方式的显示面板的制备方法，包括如下步骤：
S10、提供基板。
请参见图2～图9，基板110用于为其上各层提供支撑。基板110可以为玻璃基板、硅片基板或者柔性基板，柔性基板的材质例如可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)以及聚酰亚胺(PI)等。可以理解的是，基板110上还可以设置缓冲层等。缓冲层可以具有包括PET、PEN、聚丙烯酸酯和/或聚酰亚胺等材料中合适的材料，以单层或多层堆叠的形式层状结构。缓冲层还可以由氧化硅或氮化硅形成，或者可以包括有机材料和/或无机材料的复合层。基板110的表面还可以设有薄膜晶体管层。
S20、在基板上形成第一电极、辅助电极、辅助电极遮挡块和像素定义层；其中，像素定义层具有若干个像素坑与位于相邻像素坑之间的过孔；第一电极位于像素坑内；辅助电极位于过孔内；辅助电极遮挡块位于过孔内且遮挡辅助电极，辅助电极遮挡块设有贯穿至辅助电极的开口，开口靠近辅助电极一端的尺寸大于远离辅助电极一端的尺寸。
可以采用化学或者物理沉积的方式在基板110上形成导电层，并对导电层进行图案化处理形成辅助电极120和第一电极140，如图2所示。本实施方式以显示面板为正置结构为例对显示面板的制备方法进行说明，因此第一电极140为阳极，辅助电极120为辅助阴极。
优选地，形成图3中辅助电极遮挡块130的步骤为：
在基板110、第一电极140与辅助电极120的表面涂布整面的负性光刻胶200，之后对负性光刻胶200进行曝光、显影，得到辅助电极遮挡块130，如图2和图3所示，形成的辅助电极遮挡块130具有贯穿至辅助电极12的开口，开口靠近辅助电极120一端的尺寸大于远离辅助电极120一端的尺寸。图2中，利用掩膜板300对负性光刻胶200进行曝光，掩膜板300的开口形状与尺寸与辅助电极遮挡块130的形状与尺寸相匹配，其中，箭头所指的方向为光照的方向。
图3中辅助电极遮挡块130同时设于基板110与辅助电极120的外边缘上，但本发明的显示面板的制备方法中，辅助电极遮挡块不限于此，只要辅助电极遮挡块130遮挡所述辅助电极120的边缘，并将中间区域的辅助电极120暴露在过孔内即可。在其他实施方式中，辅助电极遮挡块还可以位于基板上并设于辅助电极的外周、或者位于辅助电极的外边缘上并暴露中间区域的辅助电极。此时，根据不同辅助电极遮挡块的尺寸、形状与位置来对应调节掩膜板300开口的形状、尺寸以及位置即可。
之后在辅助电极遮挡块130、第一电极140以及未被辅助电极遮挡块130与第一电极140覆盖的基板110上形成像素定义层前体。请参见图4，对像素定义层前体进行图案化处理，以在对应第一电极140的位置形成像素坑151，在对应辅助电极120的位置形成过孔152，图案化处理之后得到像素定义层150。
上述步骤中，形成像素坑151与过孔152的先后顺序不做限制。可以先在像素定义层前体对应第一电极140的位置形成像素坑151，之后在像素定义层前体对应辅助电极120的位置形成过孔152；亦或先在像素定义层前体对应辅助电极120的位置形成过孔152，之后在像素定义层前体对应第一电极140的位置形成像素坑151；当然，还可以在像素定义层前体对应第一电极140的位置形成像素坑151，同时在像素定义层前体对应辅助电极120的位置形成过孔152。
S30、在第一电极上形成发光层。
请一并参见图5，优选地，在第一电极140上发光层170之前，还包括在第一电极140上形成第二功能层160的步骤，第二功能层160位于第一电极140与发光层170之间。可以通过蒸镀或者喷墨打印的方式在第一电极140上形成第二功能层160与发光层170。本实施方式的第二功能层160包括依次层叠的空穴注入层161与空穴传输层162，得到的结构如图5所示。
当然，第二功能层160的结构不限于此。当显示面板为倒置结构时，第二功能层160为电子功能层，且电子功能层选自电子传输层与电子注入层中的至少一种。
S40、在发光层、像素定义层与辅助电极遮挡块的表面形成整面第一功能层，第一功能层在辅助电极遮挡块的开口位置被截断。
通过蒸镀或者溅射的方法，在发光层170、像素定义层150与辅助电极遮挡块130的表面形成整面第一功能层180，如图6所示。
优选地，第二功能层160与第一功能层180选自空穴功能层与电子功能层中的一种，且第二功能层160与第一功能层180不同。其中，空穴功能层选自空穴注入层与空穴传输层中的至少一种，电子功能层选自电子传输层与电子注入层中的至少一种。
也就是说，第二功能层160与第一功能层180分别可以为一层或者两层。当器件为正置结构时，第一电极140为阳极，第二电极190为阴极，第二功能层160为空穴功能层，第一功能层180为电子功能层。当器件为倒置结构时，第一电极140为阴极，第二电极190为阳极，第二功能层160为电子功能层，第一功能层180为空穴功能层。本实施方式中的第一功能层180为电子传输层。
S50、在第一功能层上形成整面第二电极，第二电极在辅助电极遮挡块的开口位置被截断。
通过蒸镀或者溅射的方法，在第一功能层180上形成整面第二电极190，如图6所示。
S60、在开口与过孔内形成用于电连接辅助电极与第二电极的导电填充体，得到显示面板。
导电填充体具有导电作用。具体的，导电填充体的下表面与辅助电极120接触，用于电连接辅助电极120与第二电极190。导电填充体选自导电金属或导电聚合物，导电金属包括银、铜或者金，导电聚合物可以为PEDOT:PSS。当然，导电填充体的材质不限于此，还可以为其他能够起到导电作用的物质。在一实施方式中，导电填充体由导电墨水固化得到。导体墨水中所含的金属优选为银、铜或者金。导电墨水的材质选自导电聚合物、纳米银墨水(silver nanoparticles ink)与金属有机物分解型银墨水(silver metal-organicdecomposition ink)中的至少一种。当然，导电填充体的材质不限于此，还可以为其他能够起到导电作用的物质。
请参见图7～图9，在一实施方式中，在开口与过孔内形成用于电连接辅助电极与第二电极的导电填充体的步骤为：
通过喷墨打印的方式，在开口131与过孔152内沉积导电墨水1101，直至导电墨水1101填满开口131与过孔152，固化处理，得到导电填充体1100。
具体的，在开口131与过孔152内沉积导电墨水1101的过程如图7所示。利用液体良好的流动性和填充能力，能够使导电墨水完全填满开口131与过孔152。当然，导电墨水1101亦可以不填满过孔152。
之后在160℃～230℃下对导电墨水进行加热固化，得到导电填充体1100，如图8和图9所示。导电墨水固化之后得到的导电填充体1100的材质对应为导电聚合物或者导电金属。并最终在阴极和辅助阴极之间形成图9中箭头所示的导电通道，从而改善显示面板的压降问题。
本发明的显示面板的制备方法至少具有如下优点：
(1)由于第二电极和辅助电极之间的第一功能层无法完整覆盖辅助电极的表面，省去了对第一功能层进行烧穿(burn in)的制程；
(2)通过喷墨打印来制备导电填充体，因此只在需要的地方沉积墨水，不会对像素坑内的OLED材料造成影响；
(3)制备得到的显示面板，由于辅助电极与第二电极之间通过导电填充体连接，实现了辅助电极与第二电极之间的良好接触，从而改善显示面板的压降问题，提高显示面板的亮度均匀性，改善整体显示效果。
请参见图8，本发明一实施方式的显示面板100包括基板110、辅助电极120、辅助电极遮挡块130、第一电极140、像素定义层150、发光层170、第一功能层180、第二电极190以及导电填充体1100。
其中，基板110用于为其上各层提供支撑。基板110可以为玻璃基板、硅片基板或者柔性基板，柔性基板的材质例如可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)以及聚酰亚胺(PI)等。可以理解的是，基板110上还可以设置缓冲层等。缓冲层可以具有包括PET、PEN、聚丙烯酸酯和/或聚酰亚胺等材料中合适的材料，以单层或多层堆叠的形式层状结构。缓冲层还可以由氧化硅或氮化硅形成，或者可以包括有机材料和/或无机材料的复合层。基板110的表面还可以设有薄膜晶体管层。
其中，像素定义层150位于基板110上，像素定义层150具有贯穿至基板110的若干个像素坑151与位于相邻像素坑151之间的过孔152。
其中，辅助电极120位于过孔152内。辅助电极120的极性与第二电极190的极性相同。
其中，辅助电极遮挡块130位于过孔152内且遮挡辅助电极120，辅助电极遮挡块130设有贯穿至辅助电极120的开口，开口靠近辅助电极120一端的尺寸大于远离辅助电极120一端的尺寸。
其中，第一电极140位于像素坑151内。辅助电极120与第一电极140位于同一层，如图8所示。第一电极140可以为阳极或者阴极。
其中，发光层170位于第一电极140上。
其中，第一功能层180位于发光层170上，并在辅助电极遮挡块130的开口位置被截断。
其中，第二电极190位于第一功能层180上。并在辅助电极遮挡块130的开口位置被截断。被截断指的是，第二电极190与第一功能层180在辅助电极遮挡块130的开口131位置被完全隔断，被截断的部分落入开口131的内部，如图8和图9所示。
其中，导电填充体1100位于开口131与过孔152内，并与辅助电极120、第二电极190电连接。
本发明的显示面板中，为充分保证第二电极190与第一功能层180在辅助电极遮挡块130的开口131位置被截断，同时保证过孔152与开口131相连通，辅助电极遮挡块130内部开口131到辅助电极120上表面的深度应大于第一功能层180与第二电极190的厚度的总和。
本发明的显示面板中，辅助电极遮挡块设于过孔内，只要辅助电极遮挡块遮挡所述辅助电极的边缘，并将中间区域的辅助电极暴露在过孔内即可。在一实施方式中，辅助电极遮挡块同时设于基板与辅助电极的外边缘上，此时辅助电极遮挡块遮挡辅助电极的边缘，并将中间区域的辅助电极暴露在过孔内。暴露在过孔内的辅助电极通过导电填充体与第二电极电连接。在其他实施方式中，辅助电极遮挡块还可以位于基板上并设于辅助电极的外周、或者位于辅助电极的外边缘上。
在前述实施方式的基础上，辅助电极遮挡块130自基板110向辅助电极120方向上的厚度为300nm～600nm。这样能够保证第二电极190与第一功能层180在辅助电极遮挡块130的开口131位置被截断。
在前述实施方式的基础上，开口131自辅助电极120向基板110方向的截面为正梯形，正梯形的锐角为55°～75°。这样有利于使第二电极190与第一功能层180在辅助电极遮挡块130的开口131位置被充分截断。
在前述实施方式的基础上，导电填充体1100远离基板110的表面与像素定义层150上的第二电极190远离基板110的表面平齐。也就是说，导电填充体1100填满过孔152，有利于辅助电极120与第二电极190的充分导通。
在前述实施方式的基础上，导电填充体1100选自导电金属或导电聚合物，导电金属包括银、铜或者金，导电聚合物可以为PEDOT:PSS。当然，导电填充体1100的材质不限于此，还可以为其他能够起到导电作用的物质。在一实施方式中，导电填充体1100由导电墨水固化得到。导电墨水具有良好的流动性和填充能力，固化之后能够完全填满过孔152。导体墨水中所含的金属优选为银、铜或者金。当然，导电填充体1100的材质不限于此，还可以为其他能够起到导电作用的物质。进一步地，导电墨水的材质选自导电聚合物、纳米银墨水(silvernanoparticles ink)与金属有机物分解型银墨水(silver metal-organicdecomposition ink)中的至少一种。导电聚合物例如可以为PEDOT:PSS。导电墨水固化之后得到的导电填充体的材质对应为导电聚合物或者导电金属。
在前述实施方式的基础上，显示面板100还包括第二功能层160，第二功能层160位于第一电极120与发光层170之间。第二功能层160与第一功能层180选自空穴功能层与电子功能层中的一种，且第二功能层160与第一功能层180不同。空穴功能层选自空穴注入层与空穴传输层中的至少一种，电子功能层选自电子传输层与电子注入层中的至少一种。
也就是说，第二功能层160与第一功能层180分别可以为一层或者两层。当器件为正置结构时，第一电极140为阳极，第二电极190为阴极，第二功能层160为空穴功能层，第一功能层180为电子功能层。当器件为倒置结构时，第一电极140为阴极，第二电极190为阳极，第二功能层160为电子功能层，第一功能层180为空穴功能层。
应用本发明技术方案的显示面板，由于第一功能层与第二电极在辅助电极遮挡块的开口位置被截断，且辅助电极与第二电极之间通过导电填充体连接，实现了辅助电极与第二电极之间的良好接触，从而改善显示面板的压降问题，提高显示面板的亮度均匀性，改善整体显示效果。
本发明可以被应用于大尺寸的OLED、QLED显示面板，来解决压降的问题。
本发明一实施方式的显示装置，包括上述的显示面板或者采用上述的显示面板的制备方法制备得到的显示面板。
应用本发明技术方案的显示装置，包括上述的显示面板，由于第一功能层与第二电极在辅助电极遮挡块的开口位置被截断，且辅助电极与第二电极之间通过导电填充体连接，实现了辅助电极与第二电极之间的良好接触，从而改善显示面板的压降问题，提高显示面板的亮度均匀性，改善整体显示效果。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
基板；
像素定义层，位于所述基板上，所述像素定义层具有贯穿至所述基板的若干个像素坑与位于相邻所述像素坑之间的过孔；
辅助电极，位于所述过孔内；
辅助电极遮挡块，位于所述过孔内且遮挡所述辅助电极，所述辅助电极遮挡块设有贯穿至所述辅助电极的开口，所述开口靠近所述辅助电极一端的尺寸大于远离所述辅助电极一端的尺寸；
第一电极，位于所述像素坑内；
发光层，位于所述第一电极上；
第一功能层，位于所述发光层、所述像素定义层以及所述辅助电极遮挡块上，并在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；
第二电极，位于所述第一功能层上，并在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；以及
导电填充体，位于所述开口与所述过孔内，并与所述辅助电极、所述第二电极电连接。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极遮挡块内部开口到所述辅助电极上表面的深度大于所述第一功能层与所述第二电极的厚度的总和；和/或
所述辅助电极遮挡块自所述基板向所述辅助电极方向上的厚度为300nm～600nm。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开口自所述辅助电极向所述基板方向的截面为正梯形，所述正梯形的锐角为55°～75°。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导电填充体远离所述基板的表面与所述像素定义层上的所述第二电极远离所述基板的表面平齐。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导电填充体由导电墨水固化得到。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括第二功能层，所述第二功能层位于所述第一电极与所述发光层之间；
所述第二功能层与所述第一功能层选自空穴功能层与电子功能层中的一种，且所述第二功能层与所述第一功能层不同；
所述空穴功能层选自空穴注入层与空穴传输层中的至少一种，所述电子功能层选自电子传输层与电子注入层中的至少一种。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供基板；
在所述基板上形成第一电极、辅助电极、辅助电极遮挡块和像素定义层；其中，所述像素定义层具有若干个像素坑与位于相邻所述像素坑之间的过孔；所述第一电极位于所述像素坑内；所述辅助电极位于所述过孔内；所述辅助电极遮挡块位于所述过孔内且遮挡所述辅助电极，所述辅助电极遮挡块设有贯穿至所述辅助电极的开口，所述开口靠近所述辅助电极一端的尺寸大于远离所述辅助电极一端的尺寸；
在所述第一电极上形成发光层；
在所述发光层、所述像素定义层与所述辅助电极遮挡块的表面形成整面第一功能层，所述第一功能层在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；
在所述第一功能层上形成整面第二电极，所述第二电极在所述辅助电极遮挡块的开口位置被截断；以及
在所述开口与所述过孔内形成用于电连接所述辅助电极与所述第二电极的导电填充体，得到显示面板。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，形成所述辅助电极遮挡块的步骤为：
在所述基板、所述第一电极与所述辅助电极的表面涂布整面的负性光刻胶，之后对所述负性光刻胶进行曝光、显影，得到辅助电极遮挡块。
9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述开口与所述过孔内形成用于电连接所述辅助电极与所述第二电极的导电填充体的步骤为：
采用喷墨打印的方式，在所述开口与所述过孔内沉积导电墨水，直至导电墨水填满所述开口与所述过孔，固化处理，得到导电填充体。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～6中任一项所述的显示面板或者采用权利要求7～9中任一项所述的显示面板的制备方法制备得到的显示面板。
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