CN113182270A - 一种生产新材料用基片预处理设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了新材料生产领域的一种生产新材料用基片预处理设备，其主要包括内置超声波发射器的清洗盒，清洗盒的上端滑动安装有清理机构，所述清理机构用于清理清洗盒内清洗液液面悬浮的污物，沿着清理机构的滑动方向，在清理盒的一端还设置有污物收集桶和清洗液补充桶。本发明能够对悬浮在超声波清洗液液面上的污物进行自动清理，使其离开超声波清理盒中并自动向超声波清理盒中补液，保证超声波清理盒中的清理液充足且干净，避免污染基片，影响新材料的生产效率。

Description

一种生产新材料用基片预处理设备

技术领域

本发明为新材料生产领域，具体涉及到的是一种生产新材料用基片预处理设备。

背景技术

CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法，随着科学技术的发展，CVD法已应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一种颇具特征的新材料生产设备方法。

CVD法在制备新材料时，需要与基片为底，通入反应气体在基片上进行反应，使新材料粉末附着在基片的表面，但是由于基片上通常有油污、灰尘等其他杂质，影响了新材料在基片表面的附着，现有的清洁装置在对基片进行清洗时，通常利用超声波进行空化作用，使气泡带走气泡表面的污物上浮到清洗液的液面上，这样做虽然暂时实现了对基片的清洁，但是，当人们将基片从清洗液中取出时，基片离开液面，此时，液面上的部分杂质仍会附在基片的表面，导致后序的CVD生产工序中，新材料难以附着在被杂质遮挡的基片上，进而降低了新材料的生产效率。如果对其在用清水冲洗不仅浪费水资源，而且也无法准确地判断基片是否冲洗干净，可能会影响后续生产，降低了新材料的生产效率。

所以目前有必要提供一种生产新材料用基片预处理设备，能够对悬浮在超声波清洗液液面上的污物进行自动清理，使其离开超声波清理盒中并自动向超声波清理盒中补液，保证超声波清理盒中的清理液充足且干净，避免污染基片，影响新材料的生产效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种生产新材料用基片预处理设备，以解决上述背景技术中提出了现有技术缺点的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种生产新材料用基片预处理设备，包括内置超声波发射器的清洗盒，清洗盒的上端滑动安装有清理机构，所述清理机构用于清理清洗盒内清洗液液面悬浮的污物，沿着清理机构的滑动方向，在清理盒的一端还设置有污物收集桶和清洗液补充桶。

作为本发明的进一步方案，所述清理机构包括转动安装在清理盒盒体上的两相互平行的螺杆，螺杆外接驱动电源，所述螺杆上滑动安装有过滤筛板；所述清理盒在靠近污物收集桶的一端设置有用于连通清理盒与污物收集桶的流出口，在清洗液补充桶上设置有用于连通清理盒与清洗液补充桶的流入口，所述流出口上设置有开关单元。

作为本发明的进一步方案，所述开关单元包括滑动安装在流入口上方的开关板，所述开关板的滑动方向与过滤筛板的滑动方向一致，沿着开关板的滑动方向，开关板与清理盒盒体之间设置有第一压缩弹簧。

CVD法在制备新材料时，需要与基片为底，通入反应气体在基片上进行反应，使新材料粉末附着在基片的表面，但是由于基片上通常有油污、灰尘等其他杂质，影响了新材料在基片表面的附着，现有的清洁装置在对基片进行清洗时，通常利用超声波进行空化作用，使气泡带走气泡表面的污物上浮到清洗液的液面上，这样做虽然暂时实现了对基片的清洁，但是，当人们将基片从清洗液中取出时，基片离开液面，此时，液面上的部分杂质仍会附在基片的表面，导致后序的CVD生产工序中，新材料难以附着在被杂质遮挡的基片上，进而降低了新材料的生产效率。如果对其再用清水冲洗不仅浪费水资源，而且也无法准确地判断基片是否冲洗干净，可能会影响后续生产，降低了新材料的生产效率。如图1、图3所示，本发明在工作时先将基片放入清理盒中进行超声波清洗，清洗完毕后，污物漂浮在清理盒中清洗液液面上。此时，开启电机使螺杆转动，驱动过滤筛板从清洗盒的一端向另一端移动。因为过滤筛板的下半部分浸没在液面下，所以在过滤筛板移动时，清洗液通过过滤筛板上的筛孔，污物被过滤筛板过滤并随着过滤筛板移动。当过滤筛板移动到流出口时，过滤筛板挤压开关板，第一压缩弹簧收缩。此时原本封闭流出口的开关板移动，流出口开启，所以清洗液携带污物经过流出口进入污物收集桶中，直至清洗液液面低于流出口的高度，清理机构完成工作，电机反转带动过滤筛板回位，开关板失去挤压，在第一压缩弹簧的回复力下重新封闭流出口。

本发明采用过滤筛板而不采用刮板是因为若是采用刮板，刮动时部分污物会随着清洗液的流动绕过刮板，仍然残留在清洗盒中，可能后续污染基片，影响新材料的生产效率。

本发明采用过滤筛板可以保证在清理液面时，清洗液通过过滤筛板上的筛孔，污物被过滤筛板过滤并随着过滤筛板移动，这样可以保证污物不会在清理时没有被过滤筛板携带。同时在清洗液经过流出口流出时，清洗液在流动，清洗液会通过过滤筛板的滤孔，对滤孔进行疏通，避免污物残留在滤孔处并随着过滤筛板的复位继续残留在清洗盒内，由此可以保证在经过清理后，清洗盒内的清洗液液面是干净的，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

作为本发明的进一步方案，所述清理盒在靠近污物收集桶的一端滑动安装有喷气块，所述喷气块用于喷气将清洗液液面悬浮的污物集中至流入口处，其滑动方向与过滤筛板的滑动方向一致，沿着喷气块的滑动方向，喷气块与清理盒盒体之间设置有第二压缩弹簧，所述喷气块下方设置有条形气囊，所述条形气囊内部与喷气块相连通。

本发明在实际使用中，即使污物被过滤筛板携带至靠近流出口的一端，但在流出口打开时部分污物可能停留在清洗盒的边缘，不会从流出口流出。如图1、图7所示，本发明在工作时，过滤筛板向流出口所在的方向移动，当过滤筛板靠近流出口时，过滤筛板会挤压喷气块和喷气块下方的条形气囊，喷气块随过滤筛板移动，第二压缩弹簧压缩；同时条形气囊压缩，空气从喷气块喷出。因为喷气块的角度对准液面边缘处，清洗盒边缘的污物被吹动集中至流出口，随后被水流带动从流出口流出。本发明能够自动清理液面上位于清理盒边缘处的污物，使其集中在流出口附近被水流带出。本发明通过过滤筛板的移动，挤压条形气囊使其向喷气块供气，同时过滤筛板挤压喷气块移动，可以增大吹气范围，避免死角，这样可以保证污物能够被集中至流出口，被水流带出，保证清洗盒中清洗液干净，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

作为本发明的进一步方案，所述污物收集桶和清洗液补充桶底部通过连通管相连通，且污物收集桶内滑动安装有第一挤压板，所述第一挤压板的上方用于盛放污水，下方用于安装干净的清洗液，所述流入口高度高于清洗盒内液面高度。

本发明在污物清理时，部分清理液也会随着流出，造成清理盒内的清洗液液面下降，为了后续的清理，必须对其进行补液。如图3、图5所示，本发明在工作时，污物随着液体通过流出口进入污物收集桶中，落在第一挤压板上，第一挤压板所受重力增加所以向下移动，挤压下方的干净的清洗液。因为污物收集桶和清洗液补充桶底部通过连通管向连通，所以随着第一挤压板的下移，清洗液补充桶内的干净清洗液的液面升高，从流入口重新流入清洗盒内，完成补液。且流入口和流出口的流量比为1:1。本发明能够在污物清理后进行自动补液。本发明利用气压的原理，使流入口和流出口的流量比为1:1，保证清洗盒中的清洗液不减少，由此可以保证超声波清理的清洗效果，避免人工补液，降低了工人的劳动强度，提高了效率。

作为本发明的进一步方案，所述过滤筛板上还设置有吸水单元，所述吸水单元用于在过滤筛板滑动时从清洗盒中吸水，并在过滤筛板靠近流出口时将水喷出，对过滤筛板进行洗刷。

作为本发明的进一步方案，所述吸水单元包括设置在过滤筛板远离流出口的一侧储水管，所述储水管内转动安装有转动轴，转动轴转动安装在过滤筛板上，所述转动轴上固定安装有齿轮和卷弹簧，所述齿轮与固定安装在清理盒侧面的齿条相啮合，所述齿条在靠近流出口的一端和远离流出口的一端均为空白段；所述储水管内被隔板分为相互连通吸水部和挤压部，所述吸水部上安装有吸水管，所述挤压部内滑动安装有第二挤压板，所述转动轴的中部开有螺纹段，第二挤压板滑动安装转动轴的螺纹段上；所述储水管的端面上固定安装有转动拨杆，在清理盒在靠近流出口的一端滑动安装有滑动拨板，所述滑动拨板的滑动方向与过滤筛板的滑动方向一致，沿着滑动拨板的滑动方向，滑动拨板与清理盒盒体之间设置有第三压缩弹簧，所述滑动拨板用于拨动转动拨杆使储水管转动。

本发明在实际工作中，即使有流动水疏通过滤筛板的滤孔，但因为流动的水的力量较小，污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒内的清洗液。所以如图6、图8所示，本发明在工作时，随着过滤筛板的移动，设置在过滤筛板上的储水管也随着移动。此时，固定在转动轴上的齿轮会与固定安装在清理盒侧面的齿条相啮合，齿轮转动，转动轴转动，卷弹簧收紧，滑动安装在转动轴螺纹段上的第二挤压板也在挤压部内滑动。再如图4所示，初始状态时，储水管因为吸水管重力的影响，吸水管竖直向下，吸水管的管口没入液面下。随着第二挤压板的滑动，如图9所示，第二挤压板向上滑动，吸水管吸水，清理液通过吸水管进入储水管中。随着过滤筛板的移动，当过滤筛板靠近流出口时，齿条与齿轮失去啮合，转动轴在卷弹簧的回复力下开始反转。如图7、图8所示，在转动轴反转的同时，因为过滤筛板带动储水管的移动，储水管上的转动拨杆与清理盒上的滑动拨板想接触，滑动拨板驱动转动拨板转动，储水管转动，吸水管对准过滤筛板。此时随着转动轴在卷弹簧的作用力下反转，第二挤压板复位，储水管内的水通过吸水管喷出，对过滤筛板进行冲洗。初始状态时，第二挤压板位于储水管中部。本发明能够在过滤筛板对清理液液面进行清理时吸水，并在污物从流出口排出时对过滤筛板进行冲洗，避免污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒内的清洗液，后续污染基片，影响新材料的生产效率。本发明利用过滤筛板的移动，通过齿条驱动储水管吸水，再通过卷弹簧复位驱动储水管喷水，对过滤筛板进行冲刷，避免污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒内的清洗液，后续污染基片，影响新材料的生产效率。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1.本发明能够对悬浮在超声波清洗液液面上的污物进行自动清理，使其离开超声波清理盒中并自动向超声波清理盒中补液，保证超声波清理盒中的清理液充足且干净，避免污染基片，影响新材料的生产效率。本发明采用过滤筛板可以保证在清理液面时，清洗液通过过滤筛板上的筛孔，污物被过滤筛板过滤并随着过滤筛板移动，这样可以保证污物不会在清理时没有被过滤筛板携带。同时在清洗液经过流出口流出时，清洗液在流动，清洗液会通过过滤筛板的滤孔，对滤孔进行疏通，避免污物残留在滤孔处并随着过滤筛板的复位继续残留在清洗盒内，由此可以保证在经过清理后，清洗盒内的清洗液液面是干净的，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

2.本发明能够自动清理液面上位于清理盒边缘处的污物，使其集中在流出口附近被水流带出。本发明通过过滤筛板的移动，挤压条形气囊使其向喷气块供气，同时过滤筛板挤压喷气块移动，可以增大吹气范围，避免死角，这样可以保证污物能够被集中至流出口，被水流带出，保证清洗盒中清洗液干净，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

3.本发明能够在污物清理后进行自动补液。本发明利用气压的原理，使流入口和流出口的流量比为1:1，保证清洗盒中的清洗液不减少，由此可以保证超声波清理的清洗效果，避免人工补液，降低了工人的劳动强度，提高了效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一种生产新材料用基片预处理设备的结构示意图；

图2为本发明图1的剖视图；

图3为本发明图2中A部分的局部放大图；

图4为本发明图2中B部分的局部放大图；

图5为本发明污物收集桶和清洗液补充桶的结构示意图；

图6为本发明图5中C部分的局部放大图；

图7为本发明喷气块的结构示意图；

图8为本发明图7中D部分的局部放大图；

图9为本发明储水管的结构示意图。

附图中，各标号所代表的部件列表如下：

1-清洗盒、2-污物收集桶、3-清洗液补充桶、4-螺杆、5-过滤筛板、6-流出口、7-流入口、8-开关板、9-第一压缩弹簧、10-喷气块、11-第二压缩弹簧、12-条形气囊、13-连通管、14-第一挤压板、15-储水管、16-转动轴、17-齿轮、18-卷弹簧、19-齿条、20-隔板、21-吸水部、22-挤压部、23-吸水管、24-第二挤压板、25-转动拨杆、26-滑动拨板、27-第三压缩弹簧。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-9，本发明提供一种技术方案：一种生产新材料用基片预处理设备，包括内置超声波发射器的清洗盒1，清洗盒1的上端滑动安装有清理机构，所述清理机构用于清理清洗盒1内清洗液液面悬浮的污物，沿着清理机构的滑动方向，在清理盒的一端还设置有污物收集桶2和清洗液补充桶3。

作为本发明的进一步方案，所述清理机构包括转动安装在清理盒盒体上的两相互平行的螺杆4，螺杆4外接驱动电源，所述螺杆4上滑动安装有过滤筛板5；所述清理盒在靠近污物收集桶2的一端设置有用于连通清理盒与污物收集桶2的流出口6，在清洗液补充桶3上设置有用于连通清理盒与清洗液补充桶3的流入口7，所述流出口6上设置有开关单元。

作为本发明的进一步方案，所述开关单元包括滑动安装在流入口7上方的开关板8，所述开关板8的滑动方向与过滤筛板5的滑动方向一致，沿着开关板8的滑动方向，开关板8与清理盒盒体之间设置有第一压缩弹簧9。

CVD法在制备新材料时，需要与基片为底，通入反应气体在基片上进行反应，使新材料粉末附着在基片的表面，但是由于基片上通常有油污、灰尘等其他杂质，影响了新材料在基片表面的附着，现有的清洁装置在对基片进行清洗时，通常利用超声波进行空化作用，使气泡带走气泡表面的污物上浮到清洗液的液面上，这样做虽然暂时实现了对基片的清洁，但是，当人们将基片从清洗液中取出时，基片离开液面，此时，液面上的部分杂质仍会附在基片的表面，导致后序的CVD生产工序中，新材料难以附着在被杂质遮挡的基片上，进而降低了新材料的生产效率。如果对其再用清水冲洗不仅浪费水资源，而且也无法准确地判断基片是否冲洗干净，可能会影响后续生产，降低了新材料的生产效率。如图1、图3所示，本发明在工作时先将基片放入清理盒中进行超声波清洗，清洗完毕后，污物漂浮在清理盒中清洗液液面上。此时，开启电机使螺杆4转动，驱动过滤筛板5从清洗盒1的一端向另一端移动。因为过滤筛板5的下半部分浸没在液面下，所以在过滤筛板5移动时，清洗液通过过滤筛板5上的筛孔，污物被过滤筛板5过滤并随着过滤筛板5移动。当过滤筛板5移动到流出口6时，过滤筛板5挤压开关板8，第一压缩弹簧9收缩。此时原本封闭流出口6的开关板8移动，流出口6开启，所以清洗液携带污物经过流出口6进入污物收集桶2中，直至清洗液液面低于流出口6的高度，清理机构完成工作，电机反转带动过滤筛板5回位，开关板8失去挤压，在第一压缩弹簧9的回复力下重新封闭流出口6。

本发明采用过滤筛板5而不采用刮板是因为若是采用刮板，刮动时部分污物会随着清洗液的流动绕过刮板，仍然残留在清洗盒1中，可能后续污染基片，影响新材料的生产效率。

本发明采用过滤筛板5可以保证在清理液面时，清洗液通过过滤筛板5上的筛孔，污物被过滤筛板5过滤并随着过滤筛板5移动，这样可以保证污物不会在清理时没有被过滤筛板5携带。同时在清洗液经过流出口6流出时，清洗液在流动，清洗液会通过过滤筛板5的滤孔，对滤孔进行疏通，避免污物残留在滤孔处并随着过滤筛板5的复位继续残留在清洗盒1内，由此可以保证在经过清理后，清洗盒1内的清洗液液面是干净的，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

作为本发明的进一步方案，所述清理盒在靠近污物收集桶2的一端滑动安装有喷气块10，所述喷气块10用于喷气将清洗液液面悬浮的污物集中至流入口7处，其滑动方向与过滤筛板5的滑动方向一致，沿着喷气块10的滑动方向，喷气块10与清理盒盒体之间设置有第二压缩弹簧11，所述喷气块10下方设置有条形气囊12，所述条形气囊12内部与喷气块10相连通。

本发明在实际使用中，即使污物被过滤筛板5携带至靠近流出口6的一端，但在流出口6打开时部分污物可能停留在清洗盒1的边缘，不会从流出口6流出。如图1、图7所示，本发明在工作时，过滤筛板5向流出口6所在的方向移动，当过滤筛板5靠近流出口6时，过滤筛板5会挤压喷气块10和喷气块10下方的条形气囊12，喷气块10随过滤筛板5移动，第二压缩弹簧11压缩；同时条形气囊12压缩，空气从喷气块10喷出。因为喷气块10的角度对准液面边缘处，清洗盒1边缘的污物被吹动集中至流出口6，随后被水流带动从流出口6流出。本发明能够自动清理液面上位于清理盒边缘处的污物，使其集中在流出口6附近被水流带出。本发明通过过滤筛板5的移动，挤压条形气囊12使其向喷气块10供气，同时过滤筛板5挤压喷气块10移动，可以增大吹气范围，避免死角，这样可以保证污物能够被集中至流出口6，被水流带出，保证清洗盒1中清洗液干净，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

作为本发明的进一步方案，所述污物收集桶2和清洗液补充桶3底部通过连通管13相连通，且污物收集桶2内滑动安装有第一挤压板14，所述第一挤压板14的上方用于盛放污水，下方用于安装干净的清洗液，所述流入口7高度高于清洗盒1内液面高度。

本发明在污物清理时，部分清理液也会随着流出，造成清理盒内的清洗液液面下降，为了后续的清理，必须对其进行补液。如图3、图5所示，本发明在工作时，污物随着液体通过流出口6进入污物收集桶2中，落在第一挤压板14上，第一挤压板14所受重力增加所以向下移动，挤压下方的干净的清洗液。因为污物收集桶2和清洗液补充桶3底部通过连通管13向连通，所以随着第一挤压板14的下移，清洗液补充桶3内的干净清洗液的液面升高，从流入口7重新流入清洗盒1内，完成补液。且流入口7和流出口6的流量比为1:1。本发明能够在污物清理后进行自动补液。本发明利用气压的原理，使流入口7和流出口6的流量比为1:1，保证清洗盒1中的清洗液不减少，由此可以保证超声波清理的清洗效果，避免人工补液，降低了工人的劳动强度，提高了效率。

作为本发明的进一步方案，所述过滤筛板5上还设置有吸水单元，所述吸水单元用于在过滤筛板5滑动时从清洗盒1中吸水，并在过滤筛板5靠近流出口6时将水喷出，对过滤筛板5进行洗刷。

作为本发明的进一步方案，所述吸水单元包括设置在过滤筛板5远离流出口6的一侧储水管15，所述储水管15内转动安装有转动轴16，转动轴16转动安装在过滤筛板5上，所述转动轴16上固定安装有齿轮17和卷弹簧18，所述齿轮17与固定安装在清理盒侧面的齿条19相啮合，所述齿条19在靠近流出口6的一端和远离流出口6的一端均为空白段；所述储水管15内被隔板20分为相互连通吸水部21和挤压部22，所述吸水部21上安装有吸水管23，所述挤压部22内滑动安装有第二挤压板24，所述转动轴16的中部开有螺纹段，第二挤压板24滑动安装转动轴16的螺纹段上；所述储水管15的端面上固定安装有转动拨杆25，在清理盒在靠近流出口6的一端滑动安装有滑动拨板26，所述滑动拨板26的滑动方向与过滤筛板5的滑动方向一致，沿着滑动拨板26的滑动方向，滑动拨板26与清理盒盒体之间设置有第三压缩弹簧27，所述滑动拨板26用于拨动转动拨杆25使储水管15转动。

本发明在实际工作中，即使有流动水疏通过滤筛板5的滤孔，但因为流动的水的力量较小，污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒1内的清洗液。所以如图6、图8所示，本发明在工作时，随着过滤筛板5的移动，设置在过滤筛板5上的储水管15也随着移动。此时，固定在转动轴16上的齿轮17会与固定安装在清理盒侧面的齿条19相啮合，齿轮17转动，转动轴16转动，卷弹簧18收紧，滑动安装在转动轴16螺纹段上的第二挤压板24也在挤压部22内滑动。再如图4所示，初始状态时，储水管15因为吸水管23重力的影响，吸水管23竖直向下，吸水管23的管口没入液面下。随着第二挤压板24的滑动，如图9所示，第二挤压板24向上滑动，吸水管23吸水，清理液通过吸水管23进入储水管15中。随着过滤筛板5的移动，当过滤筛板5靠近流出口6时，齿条19与齿轮17失去啮合，转动轴16在卷弹簧18的回复力下开始反转。如图7、图8所示，在转动轴16反转的同时，因为过滤筛板5带动储水管15的移动，储水管15上的转动拨杆25与清理盒上的滑动拨板26想接触，滑动拨板26驱动转动拨板转动，储水管15转动，吸水管23对准过滤筛板5。此时随着转动轴16在卷弹簧18的作用力下反转，第二挤压板24复位，储水管15内的水通过吸水管23喷出，对过滤筛板5进行冲洗。初始状态时，第二挤压板24位于储水管15中部。本发明能够在过滤筛板5对清理液液面进行清理时吸水，并在污物从流出口6排出时对过滤筛板5进行冲洗，避免污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒1内的清洗液，后续污染基片，影响新材料的生产效率。本发明利用过滤筛板5的移动，通过齿条19驱动储水管15吸水，再通过卷弹簧18复位驱动储水管15喷水，对过滤筛板5进行冲刷，避免污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒1内的清洗液，后续污染基片，影响新材料的生产效率。

工作原理：如图1、图3所示，本发明在工作时先将基片放入清理盒中进行超声波清洗，清洗完毕后，污物漂浮在清理盒中清洗液液面上。此时，开启电机使螺杆4转动，驱动过滤筛板5从清洗盒1的一端向另一端移动。因为过滤筛板5的下半部分浸没在液面下，所以在过滤筛板5移动时，清洗液通过过滤筛板5上的筛孔，污物被过滤筛板5过滤并随着过滤筛板5移动。当过滤筛板5移动到流出口6时，过滤筛板5挤压开关板8，第一压缩弹簧9收缩。此时原本封闭流出口6的开关板8移动，流出口6开启，所以清洗液携带污物经过流出口6进入污物收集桶2中，直至清洗液液面低于流出口6的高度，清理机构完成工作，电机反转带动过滤筛板5回位，开关板8失去挤压，在第一压缩弹簧9的回复力下重新封闭流出口6。

本发明采用过滤筛板5而不采用刮板是因为若是采用刮板，刮动时部分污物会随着清洗液的流动绕过刮板，仍然残留在清洗盒1中，可能后续污染基片，影响新材料的生产效率。

本发明采用过滤筛板5可以保证在清理液面时，清洗液通过过滤筛板5上的筛孔，污物被过滤筛板5过滤并随着过滤筛板5移动，这样可以保证污物不会在清理时没有被过滤筛板5携带。同时在清洗液经过流出口6流出时，清洗液在流动，清洗液会通过过滤筛板5的滤孔，对滤孔进行疏通，避免污物残留在滤孔处并随着过滤筛板5的复位继续残留在清洗盒1内，由此可以保证在经过清理后，清洗盒1内的清洗液液面是干净的，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

如图1、图7所示，本发明在工作时，过滤筛板5向流出口6所在的方向移动，当过滤筛板5靠近流出口6时，过滤筛板5会挤压喷气块10和喷气块10下方的条形气囊12，喷气块10随过滤筛板5移动，第二压缩弹簧11压缩；同时条形气囊12压缩，空气从喷气块10喷出。因为喷气块10的角度对准液面边缘处，清洗盒1边缘的污物被吹动集中至流出口6，随后被水流带动从流出口6流出。本发明能够自动清理液面上位于清理盒边缘处的污物，使其集中在流出口6附近被水流带出。本发明通过过滤筛板5的移动，挤压条形气囊12使其向喷气块10供气，同时过滤筛板5挤压喷气块10移动，可以增大吹气范围，避免死角，这样可以保证污物能够被集中至流出口6，被水流带出，保证清洗盒1中清洗液干净，避免后续污染基片，影响新材料的生产效率。

如图3、图5所示，本发明在工作时，污物随着液体通过流出口6进入污物收集桶2中，落在第一挤压板14上，第一挤压板14所受重力增加所以向下移动，挤压下方的干净的清洗液。因为污物收集桶2和清洗液补充桶3底部通过连通管13向连通，所以随着第一挤压板14的下移，清洗液补充桶3内的干净清洗液的液面升高，从流入口7重新流入清洗盒1内，完成补液。且流入口7和流出口6的流量比为1:1。本发明能够在污物清理后进行自动补液。本发明利用气压的原理，使流入口7和流出口6的流量比为1:1，保证清洗盒1中的清洗液不减少，由此可以保证超声波清理的清洗效果，避免人工补液，降低了工人的劳动强度，提高了效率。如图6、图8所示，本发明在工作时，随着过滤筛板5的移动，设置在过滤筛板5上的储水管15也随着移动。此时，固定在转动轴16上的齿轮17会与固定安装在清理盒侧面的齿条19相啮合，齿轮17转动，转动轴16转动，卷弹簧18收紧，滑动安装在转动轴16螺纹段上的第二挤压板24也在挤压部22内滑动。再如图4所示，初始状态时，储水管15因为吸水管23重力的影响，吸水管23竖直向下，吸水管23的管口没入液面下。随着第二挤压板24的滑动，如图9所示，第二挤压板24向上滑动，吸水管23吸水，清理液通过吸水管23进入储水管15中。随着过滤筛板5的移动，当过滤筛板5靠近流出口6时，齿条19与齿轮17失去啮合，转动轴16在卷弹簧18的回复力下开始反转。如图7、图8所示，在转动轴16反转的同时，因为过滤筛板5带动储水管15的移动，储水管15上的转动拨杆25与清理盒上的滑动拨板26想接触，滑动拨板26驱动转动拨板转动，储水管15转动，吸水管23对准过滤筛板5。此时随着转动轴16在卷弹簧18的作用力下反转，第二挤压板24复位，储水管15内的水通过吸水管23喷出，对过滤筛板5进行冲洗。初始状态时，第二挤压板24位于储水管15中部。本发明能够在过滤筛板5对清理液液面进行清理时吸水，并在污物从流出口6排出时对过滤筛板5进行冲洗，避免污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒1内的清洗液，后续污染基片，影响新材料的生产效率。本发明利用过滤筛板5的移动，通过齿条19驱动储水管15吸水，再通过卷弹簧18复位驱动储水管15喷水，对过滤筛板5进行冲刷，避免污物仍然有可能残留在滤孔中，污染清洗盒1内的清洗液，后续污染基片，影响新材料的生产效率。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (7)

1.一种生产新材料用基片预处理设备，其特征在于：包括内置超声波发射器的清洗盒(1)，清洗盒(1)的上端滑动安装有清理机构，所述清理机构用于清理清洗盒(1)内清洗液液面悬浮的污物，沿着清理机构的滑动方向，在清理盒的一端还设置有污物收集桶(2)和清洗液补充桶(3)。

2.根据权利要求1所述的一种生产新材料用基片预处理设备，其特征在于：所述清理机构包括转动安装在清理盒盒体上的两相互平行的螺杆(4)，螺杆(4)外接驱动电源，所述螺杆(4)上滑动安装有过滤筛板(5)；所述清理盒在靠近污物收集桶(2)的一端设置有用于连通清理盒与污物收集桶(2)的流出口(6)，在清洗液补充桶(3)上设置有用于连通清理盒与清洗液补充桶(3)的流入口(7)，所述流出口(6)上设置有开关单元。

3.根据权利要求2所述的一种生产新材料用基片预处理设备，其特征在于：所述开关单元包括滑动安装在流入口(7)上方的开关板(8)，所述开关板(8)的滑动方向与过滤筛板(5)的滑动方向一致，沿着开关板(8)的滑动方向，开关板(8)与清理盒盒体之间设置有第一压缩弹簧(9)。

4.根据权利要求3所述的一种生产新材料用基片预处理设备，其特征在于：所述清理盒在靠近污物收集桶(2)的一端滑动安装有喷气块(10)，所述喷气块(10)用于喷气将清洗液液面悬浮的污物集中至流入口(7)处，其滑动方向与过滤筛板(5)的滑动方向一致，沿着喷气块(10)的滑动方向，喷气块(10)与清理盒盒体之间设置有第二压缩弹簧(11)，所述喷气块(10)下方设置有条形气囊(12)，所述条形气囊(12)内部与喷气块(10)相连通。

5.根据权利要求4所述的一种生产新材料用基片预处理设备，其特征在于：所述污物收集桶(2)和清洗液补充桶(3)底部通过连通管(13)相连通，且污物收集桶(2)内滑动安装有第一挤压板(14)，所述第一挤压板(14)的上方用于盛放污水，下方用于安装干净的清洗液，所述流入口(7)高度高于清洗盒(1)内液面高度。

6.根据权利要求5所述的一种生产新材料用基片预处理设备，其特征在于：所述过滤筛板(5)上还设置有吸水单元，所述吸水单元用于在过滤筛板(5)滑动时从清洗盒(1)中吸水，并在过滤筛板(5)靠近流出口(6)时将水喷出，对过滤筛板(5)进行洗刷。

7.根据权利要求6所述的一种生产新材料用基片预处理设备，其特征在于：所述吸水单元包括设置在过滤筛板(5)远离流出口(6)的一侧储水管(15)，所述储水管(15)内转动安装有转动轴(16)，转动轴(16)转动安装在过滤筛板(5)上，所述转动轴(16)上固定安装有齿轮(17)和卷弹簧(18)，所述齿轮(17)与固定安装在清理盒侧面的齿条(19)相啮合，所述齿条(19)在靠近流出口(6)的一端和远离流出口(6)的一端均为空白段；所述储水管(15)内被隔板(20)分为相互连通吸水部(21)和挤压部(22)，所述吸水部(21)上安装有吸水管(23)，所述挤压部(22)内滑动安装有第二挤压板(24)，所述转动轴(16)的中部开有螺纹段，第二挤压板(24)滑动安装转动轴(16)的螺纹段上；所述储水管(15)的端面上固定安装有转动拨杆(25)，在清理盒在靠近流出口(6)的一端滑动安装有滑动拨板(26)，所述滑动拨板(26)的滑动方向与过滤筛板(5)的滑动方向一致，沿着滑动拨板(26)的滑动方向，滑动拨板(26)与清理盒盒体之间设置有第三压缩弹簧(27)，所述滑动拨板(26)用于拨动转动拨杆(25)使储水管(15)转动。

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