CN112588669A - 一种节水型硅片切割生产清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了硅片清洗技术领域的一种节水型硅片切割生产清洗设备，包括清洗部和节水部，清洗部包括清洗箱，清洗箱内转动连接有一组内辊，内辊之间套有安装带，安装带侧壁固定连接有硅片架，硅片架前端转动连接有弹性挡辊，硅片架与清洗箱内壁滑动连接，清洗箱两侧分别开设有进料窗和出料窗，节水部包括底部沉淀箱，底部沉淀箱顶部固定连接有清洗沉淀箱，清洗沉淀箱中间滑动连接有活动封底，清洗沉淀箱顶部固定连接有清水箱，清洗沉淀箱与清水箱之间连通有过滤管，清水箱与清洗箱内的清洗喷头连通，本发明可以连续在线清洗，清洗完毕自动出料，提高清洗效率，水处理后循环使用，减少水资源浪费。
Description
技术领域
本发明涉及硅片清洗技术领域，具体为一种节水型硅片切割生产清洗设备。
背景技术
硅片的表面清洁度能够影响半导体元件的质量，因此硅片的清洗工艺是半导体元件生产中的重要工序。将晶棒切割成硅片后，各硅片的表面粘着切割时使用的砂浆液体，由于砂浆液体中含有研磨剂和油，因此具有一定的粘黏性，会把相邻的硅片黏在一起。现有技术中，将切割后的硅片放入清洗槽内清洗，现有的硅片清洗装置一般采用带有超声波发生设备的槽式清洗设备处理，但槽式清洗设备通常带有大花篮，导致硅片清洗时自动化程度低，进而严重制约了产能，且清洗后的水没有设有回收处理装置造成了水资源浪费。
基于此，本发明设计了一种节水型硅片切割生产清洗设备，以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种节水型硅片切割生产清洗设备，以解决上述背景技术中提出的槽式清洗设备通常带有大花篮，导致硅片清洗时自动化程度低，进而严重制约了产能，且清洗后的水没有设有回收处理装置造成了水资源浪费的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种节水型硅片切割生产清洗设备，包括清洗部和节水部，所述清洗部包括清洗箱，所述清洗箱内转动连接有一组内辊，所述内辊之间套有安装带，所述安装带侧壁固定连接有硅片架，所述硅片架前端转动连接有弹性挡辊，所述硅片架与清洗箱内壁滑动连接，所述清洗箱两侧分别开设有进料窗和出料窗，所述节水部包括底部沉淀箱，所述底部沉淀箱顶部固定连接有清洗沉淀箱，所述清洗沉淀箱中间滑动连接有活动封底，所述清洗沉淀箱顶部固定连接有清水箱，所述清洗沉淀箱与清水箱之间连通有过滤管，所述清水箱与清洗箱内的清洗喷头连通。
优选的，所述安装带设有两组且内壁均固定连接有传动齿，所述内辊外壁固定连接有内齿圈，所述内齿圈与传动齿啮合。
优选的，所述硅片架中间开设有多个通窗，所述硅片架内部弹性连接有内推板，所述硅片架后端穿过安装带为开放状态。
优选的，所述硅片架侧壁固定连接有侧支架，所述侧支架通过反力弹簧和转动连接有弹性挡杆，所述弹性挡杆之间转动连接有弹性挡辊。
优选的，所述清洗箱内壁固定连接有导向滑轨，所述硅片架侧壁固定连接有导向滑辊，所述导向滑辊位于导向滑轨内与之滑动配合，可维持硅片架4在竖直段的水平状态方便硅片的置入和出料。
优选的，所述清洗箱内部固定连接有出料推杆，所述出料推杆活动端朝向出料窗且与之对应，所述清洗箱外壁固定连接有延展料台分别位于出料窗和进料窗下方。
优选的，所述清洗沉淀箱包括初步箱和二次箱，所述初步箱和二次箱之间通过上弯管连通，所述活动封底包括底部实板和上层活动板。
优选的，所述底部实板和上层活动板之间通过连板固定连接，所述上层活动板之间滑动连接有多组密封板，所述上层板上下表面开设有多条透水通窗，所述密封板顶部固定连接有闭合推板，所述清洗沉淀箱内壁和闭合推板之间固定连接有换底推杆。
优选的，所述清水箱底部固定连接有升降推杆，所述升降推杆底部固定连接有活动封底，所述清水箱侧壁固定连接有补充箱。
优选的，所述过滤管包括芯管和过水弯管，所述芯管顶部与过水弯管螺纹连接，所述芯管和过水弯管外壁均固定连接有密封圆台，所述芯管外壁转动连接有压紧螺圈，所述压紧螺圈与过水弯管的密封圆台螺纹连接。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过内辊、安装带和硅片架的配合使得硅片清洗可以连续在线清洗，清洗完毕自动出料，提高清洗效率；通过设有的清洗沉淀箱、过滤管及清水箱使得清洗后的液体能够进行二次沉淀经过滤后再次投入使用，减少水资源浪费；通过设有的活动封底和可更换的芯管，使得沉淀和芯管可以在线清除和更换，不用抽干箱体，不用停机，提高水循环处理效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明前视角结构示意图；
图2为本发明侧视角结构示意图；
图3为本发明A部放大结构示意图；
图4为本发明主视角半剖结构示意图；
图5为本发明安装带侧视角结构示意图；；
图6为本发明安装带仰视角结构示意图。
附图中，各标号所代表的部件列表如下：
1-清洗箱，2-内辊，3-安装带，4-硅片架，5-弹性挡辊，6-进料窗，7-出料窗，8-底部沉淀箱，9-清洗沉淀箱，10-清水箱，11-清洗喷头，12-传动齿，13-内齿圈，14-通窗，15-内推板，16-侧支架，17-弹性挡杆，18-导向滑轨，19-导向滑辊，20-出料推杆，21-延展料台，22-上弯管，23-底部实板，24-上层活动板，25-密封板，26-闭合推板，27-换底推杆，28-升降推杆，29-芯管，30-过水弯管，31-密封圆台，32-压紧螺圈。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：
一种节水型硅片切割生产清洗设备，包括清洗部和节水部，清洗部包括清洗箱1，清洗箱1内转动连接有一组内辊2，内辊2之间套有安装带3，安装带3侧壁固定连接有硅片架4，硅片架4前端转动连接有弹性挡辊5，硅片架4与清洗箱1内壁滑动连接，清洗箱1两侧分别开设有进料窗6和出料窗7，节水部包括底部沉淀箱8，底部沉淀箱8顶部固定连接有清洗沉淀箱9，清洗沉淀箱9中间滑动连接有活动封底，清洗沉淀箱9顶部固定连接有清水箱10，清洗沉淀箱9与清水箱10之间连通有过滤管，清水箱10与清洗箱1内的清洗喷头11连通。
其中，安装带3设有两组且内壁均固定连接有传动齿12，内辊2外壁固定连接有内齿圈13，内齿圈13与传动齿12啮合。硅片架4中间开设有多个通窗14，硅片架4内部弹性连接有内推板15，硅片架4后端穿过安装带3为开放状态。硅片架4侧壁固定连接有侧支架16，侧支架16通过反力弹簧和转动连接有弹性挡杆17，弹性挡杆17之间转动连接有弹性挡辊5。清洗箱1内壁固定连接有导向滑轨18，硅片架4侧壁固定连接有导向滑辊19，导向滑辊19位于导向滑轨18内与之滑动配合。
其中，清洗箱1内部固定连接有出料推杆20，出料推杆20活动端朝向出料窗7且与之对应，清洗箱1外壁固定连接有延展料台21分别位于出料窗7和进料窗6下方。清洗沉淀箱9包括初步箱和二次箱，初步箱和二次箱之间通过上弯管22连通，活动封底包括底部实板23和上层活动板24。底部实板23和上层活动板24之间通过连板固定连接，上层活动板24之间滑动连接有多组密封板25，上层板上下表面开设有多条透水通窗，密封板25顶部固定连接有闭合推板26，清洗沉淀箱9内壁和闭合推板26之间固定连接有换底推杆27。清水箱10底部固定连接有升降推杆28，升降推杆28底部固定连接有活动封底，清水箱10侧壁固定连接有补充箱。
其中，过滤管包括芯管29和过水弯管30，芯管29顶部与过水弯管30螺纹连接，芯管29和过水弯管30外壁均固定连接有密封圆台31，芯管29外壁转动连接有压紧螺圈32，压紧螺圈32与过水弯管30的密封圆台31螺纹连接。
本实施例的一个具体应用为：
如图所示，本发明通过将硅片通过进料窗6插入到与之对应的硅片架4内，插入时硅片边缘将弹性挡棍5向内挤压，当硅片插入到底端与内推板1接触并达到最内端时，弹性挡棍5回复原位将硅片架4进口挡住使其不能出来，再冲洗的同时可以安装硅片，节省时间。
然后接通清洗喷头11和内辊2的驱动电机，内辊2旋转经内齿圈13和传动齿12的啮合带动安装带3回转移动，在喷水的同时，新安装的硅片被向下带入到清洗箱1内底部，在喷淋后浸洗而后上升继续喷淋使得硅片表面带有的杂质等被清洗干净。而后在出料推杆20的活动端伸入硅片架4内，作用于内推板15将清洗后的硅片从出料窗7中推出，完成清洗，过程简单高效。
清洗完毕的水通过连通管进入初步箱内，经其沉淀一定时间后通过上弯管22将上清液导入到二次箱内，二次沉淀使得二次箱内能够获得杂质较少的水降低后续过滤除杂压力，在初步箱和二次箱内沉淀一定时间后，底部实板23堆满沉淀，此时通过接通换底推杆27使其活动端伸出，带动闭合推板26和密封板25前移，使得密封板25盖住透水通窗，上层活动板24形成密封底，然后接通升降推杆28使其活动端伸出将活动封底下移，使得底部实板23伸出清洗沉淀箱9位于底部沉淀箱8内，在其下移过程中由于水流动作用其上的沉淀进入底部沉淀箱8中，然后再将底部实板23提起重新进入清洗沉淀箱9内，使得密封板25收回原位继续使用，清底不用抽干水，不影响沉淀的继续进行，且对上层清液影响较小。
沉淀后，将上层清液抽至清水箱10内，上层清液通过水泵经过滤管除去少量杂质，芯管29可以通过关闭其所在过水弯管30，然后将压紧罗圈32向上旋转拧开，再将芯管29上端拧下，即可取下芯管29进行更换，上端螺纹连接，下端通过压紧螺圈32压紧两密封圆台31即可安装完毕，安装牢靠，更换拆卸简单，且设有多组在更换的同时不影响其他管道的正常使用。
过滤后的水经清水箱10流到补水箱内，若水不够则通过外部供水向补水箱补水，进而通过补水箱向清洗箱1内的清洗喷头11供水，实现清洗水的循环使用降低水的使用量避免浪费。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (10)
1.一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：包括清洗部和节水部，所述清洗部包括清洗箱（1），所述清洗箱（1）内转动连接有一组内辊（2），所述内辊（2）之间套有安装带（3），所述安装带（3）侧壁固定连接有硅片架（4），所述硅片架（4）前端转动连接有弹性挡辊（5），所述硅片架（4）与清洗箱（1）内壁滑动连接，所述清洗箱（1）两侧分别开设有进料窗（6）和出料窗（7），所述节水部包括底部沉淀箱（8），所述底部沉淀箱（8）顶部固定连接有清洗沉淀箱（9），所述清洗沉淀箱（9）中间滑动连接有活动封底，所述清洗沉淀箱（9）顶部固定连接有清水箱（10），所述清洗沉淀箱（9）与清水箱（10）之间连通有过滤管，所述清水箱（10）与清洗箱（1）内的清洗喷头（11）连通。
2.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述安装带（3）设有两组且内壁均固定连接有传动齿（12），所述内辊（2）外壁固定连接有内齿圈（13），所述内齿圈（13）与传动齿（12）啮合。
3.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述硅片架（4）中间开设有多个通窗（14），所述硅片架（4）内部弹性连接有内推板（15），所述硅片架（4）后端穿过安装带（3）为开放状态。
4.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述硅片架（4）侧壁固定连接有侧支架（16），所述侧支架（16）通过反力弹簧和转动连接有弹性挡杆（17），所述弹性挡杆（17）之间转动连接有弹性挡辊（5）。
5.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述清洗箱（1）内壁固定连接有导向滑轨（18），所述硅片架（4）侧壁固定连接有导向滑辊（19），所述导向滑辊（19）位于导向滑轨（18）内与之滑动配合。
6.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述清洗箱（1）内部固定连接有出料推杆（20），所述出料推杆（20）活动端朝向出料窗（7）且与之对应，所述清洗箱（1）外壁固定连接有延展料台（21）分别位于出料窗（7）和进料窗（6）下方。
7.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述清洗沉淀箱（9）包括初步箱和二次箱，所述初步箱和二次箱之间通过上弯管（22）连通，所述活动封底包括底部实板（23）和上层活动板（24）。
8.根据权利要求7所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述底部实板（23）和上层活动板（24）之间通过连板固定连接，所述上层活动板（24）之间滑动连接有多组密封板（25），所述上层板上下表面开设有多条透水通窗，所述密封板（25）顶部固定连接有闭合推板（26），所述清洗沉淀箱（9）内壁和闭合推板（26）之间固定连接有换底推杆（27）。
9.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述清水箱（10）底部固定连接有升降推杆（28），所述升降推杆（28）底部固定连接有活动封底，所述清水箱（10）侧壁固定连接有补充箱。
10.根据权利要求1所述的一种节水型硅片切割生产清洗设备，其特征在于：所述过滤管包括芯管（29）和过水弯管（30），所述芯管（29）顶部与过水弯管（30）螺纹连接，所述芯管（29）和过水弯管（30）外壁均固定连接有密封圆台（31），所述芯管（29）外壁转动连接有压紧螺圈（32），所述压紧螺圈（32）与过水弯管（30）的密封圆台（31）螺纹连接。
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