CN113167477A - 用于运行家用烹饪器具的方法和家用烹饪器具 - Google Patents

Abstract

本发明涉及用于运行家用烹饪器具（1）的方法（S1‑S11），该家用烹饪器具具有：至少一个用多种参数配置（S_q）处理处在烹饪室（2）中的烹饪物（G）的烹饪物处理装置（6），其中，通过至少两种参数配置（S_q）能局部不同地处理烹饪物（G）；和至少一个用于确定所述烹饪物（G）的表面特性的测量值分布<V>的指向烹饪室（2）的传感器（9），其中，在方法中，至少一个烹饪物处理装置在预定的持续时间（Δt）内用参数配置（S_q）中其中一种参数配置运行，以便处理烹饪物（G），在持续时间（Δt）结束之后借助至少一个传感器（9）确定烹饪物（G）的表面特性的测量值分布<V>，由测量值分布<V>确定了品质值（Q），并且倘若品质值（Q）不满足预定的品质标准，那么烹饪物处理装置（6）接下来就用另一种参数配置（S_q）运行，其中，由至少两个从相同的测量值分布<V>计算出的不同的标量参量（x_arithm、x_med）的比较确定品质值（Q）。

Description

用于运行家用烹饪器具的方法和家用烹饪器具

技术领域

本发明涉及一种用于运行家用烹饪器具的方法，该家用烹饪器具具有：烹饪室；至少一个用于用参数配置处理处在烹饪室中的烹饪物的烹饪物处理装置，其中，通过至少两种参数配置能局部不同地处理所述烹饪物；和用于确定烹饪物的表面特性的测量值分布<V>的至少一个指向烹饪室的传感器，其中，在所述方法中，至少一个烹饪物处理装置在预定的持续时间内用参数配置中的其中一种参数配置运行，以便处理处在烹饪室中的烹饪物，在持续时间结束之后，借助至少一个传感器确定了烹饪物的表面特性的测量值分布<V>。本发明也涉及一种用于执行所述方法的家用烹饪器具。本发明尤其能有利地应用于微波器具。

背景技术

US 2018/0098381 A1和US 2017/0290095 A1公开了一种用计算机运行的用于将在电子炉的烹饪室中的物体加热到目标状态的方法。所述方法包括，在炉处于特定的配置时，用涉及到烹饪室的一组能量应用来加热物体。该组能量应用和所述配置限定了在腔室中的相应的可变的能量分布组。所述方法也包括检测传感器数据，所述传感器数据限定了烹饪物对能量应用组的相应的响应组。所述方法也包括生成用于加热腔室内的物体的计划。所述计划由炉的控制系统产生并且使用所述传感器数据。

WO 2012/109634 A1公开了一种用于用HF能量处理对象的装置。所述装置可以包含显示器，以便向用户显示有待处理的对象的图像，其中，所述图像包括物体的至少一个第一部分和第二部分。所述装置也可以包括输入单元和至少一个处理器，处理器配置用于：基于输入接收在输入单元处提供的信息，并且产生在基于所接收的信息处理对象时所使用的处理信息，以便达到在对象的第一区段中的第一处理结果和在对象的第二区段中的第二处理结果。

发明内容

本发明的任务是，至少部分克服现有技术的缺点并且特别是提供一种能尤为简单地付诸实践的和有效的可能性以将烹饪物自动处理到期望的表面特性。

该任务按照独立权利要求的特征解决。有利的实施方式是从属权利要求、说明书和附图的主题。

该任务通过一种用于运行家用烹饪器具的方法解决，该家用烹饪器具具有：

- 烹饪室，

- 用于用多种参数配置处理处在烹饪室中的烹饪物的至少一个烹饪物处理装置，其中，通过至少两种参数配置能局部不同地处理烹饪物，和

-用于确定烹饪物的表面特性的测量值分布<V>的至少一个指向烹饪室的传感器，

其中，在所述方法中，

- 至少一个烹饪物处理装置在预定的持续时间内用所述参数配置中的其中一种参数配置运行，以便处理处在烹饪室中的烹饪物，

- 在持续时间结束后接着借助所述至少一个传感器确定烹饪物的表面特性的测量值分布<V>，

- 由所述测量值分布<V>确定品质值，并且

- 倘若品质值不满足预定的标准（“品质标准”），那么接下来就用所述参数配置中的另一种参数配置来运行烹饪物处理装置，

其中，

- 由至少两个不同的标量参量的比较确定所述品质值，所述参量从相同的至少一个测量值分布<V>计算得出。

所述方法产生的优点是，能这样有效和在短时间内处理烹饪物，使得烹饪物获得了期望的表面特性、特别是均匀的表面特性。

所述方法尤其使得能凭借至少一个传感器的数据在使用处理烹饪物的辐射的情况下（例如微波辐射、热辐射等）有针对性地控制在烹饪物的表面上的特性分布。因此能用很小的耗费实现对烹饪器具的智能控制，智能控制可以动态地并且仅涉及到当前的持续时间或当前的时刻地达到尽可能最佳的烹饪结果。相关的计算耗费尤为少，因而能特别快速地执行所述方法。也不需要用来储存大数据量的存储器。因此也能在传统的烹饪器具中设置有针对性的特性模式和特性分布，更确切地说仅凭借至少一个简单的传感器。

表面特性可以例如是在烹饪物的表面处测得的温度、湿度或褐变程度，但并不局限于此。分布<V>在下文中也称为“测量值分布”并且是烹饪物的所测得的实际分布。它然后可以视所测得的表面特性的类型而定称为温度分布、褐变度分布等。表面特性的期望的额定分布可以称为目标测量值分布或简单地称为目标分布<Z>。

参数配置{S_q}通常设置特定的值域，该值域由相应的设置参数或运行参数给定。参数配置S_q换句话说对应家用烹饪器具的特定的第q组设置值或运行值。参数配置S_q包括来自家用烹饪器具的至少一个设置参数或运行参数的各至少两个可能的设置值的一个设置值。每个运行参数因此可以占据至少两个值或状态。在最为简单的情况下，这两个状态可以是“打开”和“关闭”。通过使至少两种参数配置局部不同地处理烹饪物，在通过两种参数配置相应地影响烹饪物时产生了表面特性的不同的分布。

标量参量例如可以包括：

- 测量值分布<V>的最小的测量值，

- 测量值分布<V>的最大的测量值，

- 测量值分布<V>的至少一个平均值，

- 平均值的以及测量值分布<V>的标准偏差，以及

- 诸如加法关联或减法关联等的关联。

这样做得到的优点是，可以由正好一个测量值分布<V>计算出或确定标量参量。

标量参量也可以包括这些测量值的时间变化，例如上面的标量参量，如最小的和/或最大的测量值的时间变化，以及它们的关联。在这种情况下，品质值可以由两个不同的标量参量的比较确定，所述两个不同的标量参量由相同的多个在不同时间上采集的测量值分布<V>计算得出。

一种扩展设计方案在于，标量参量是针对测量值分布<V>的中央的趋势的特性值。这使得能在很小的计算功率下使用实际上可以使用的或有说服力的品质值。

一种设计方案在于，由正好两个不同的、由同一个测量值分布<V>计算得出的标量参量的比较确定了品质值，其中，两个标量参量是不同的平均值或者是有不同的计算法则的不同类型的平均值。这使得能在特别小的计算功率下使用实际上能使用的或有说服力的品质值。平均值的类型原则上不受限制。因此平均值例如可以包括：模态平均值或众数作为有最高频率的显示形式的度量、中位数、算术平均值、几何平均值、调和平均值、平方平均值、立方平均值。平均值也可以例如包括：加权平均值（例如加权的算术平均值、加权的几何平均值、加权的调和平均值）、对数平均值、温莎平均值和修整的平均值（getrimmtesMittel）、四分位数、最短的一半的平均值、Gastwirth-Cohen平均值、移动平均值、另外的普遍的平均值，如Hölder（赫尔德）平均值、lehner平均值、Stolarsky平均值等。

一种设计方案在于，所述两个标量参量包括算术平均值和中位值。这两种平均值的使用是能特别简单地计算的并且得出了品质值，品质值可以特别良好和有效地接近烹饪物的表面特性的期望的目标分布。当应当达到均匀的目标分布时，使用算术平均值和中位值的比较特别有利，因为这时算术平均值对应中位值。因此能通过在算术平均值和中位值之间的简单的比较来评估测量值分布<V>到目标分布<Z>的接近：差别越小，则越接近。为了表面特性的均匀的分布，基础性的目标值Z_i是相同的，这就是说，

。

平均值x_arithm可以由基于测量值分布<V>的k个测量值V_i（i=1,...,k）例如根据

计算得出。中位值x_med可以由相同的品质分布<V>针对经分类的值V_i例如根据

计算得出。

一种设计方案是，品质值包括两个标量参量的差，特别是差值。这实现了完全特别简单的计算并且得出了品质值，所述品质值可以完全特别良好和有效地接近烹饪物的表面特性的期望的目标分布。品质值Q因此可以特别是根据

计算得出。当表面特性的均匀的目标分布是期望的时，品质值尤其具有对实践所述方法有利的特性，即，它是针对测量值分布<V>接近恒定的或均匀的目标分布的自然的度量。在达到均匀的目标分布时，Q = 0。这极大地方便了将品质值用作控制器具的标准。

一种设计方案在于，品质标准包括达到预定的阈值（下文中不受普遍性限制地称为“品质阈值”）。因此达到的优点是，提供用于此的能简单地付诸实践的度量，即，应当何时从当前的参数配置转到或者转换到另一种参数配置，以便极大可能更快地达到烹饪物的表面特性的期望的目标分布。倘若品质值被确定为两个平均值之间的、特别是算术平均值和中位值之间的差值，那么例如就可以转换到其它的参数配置（当品质值大于品质阈值或者在其它变型方案中至少和品质阈值一样大时）。

一种扩展设计方案在于，品质标准包括达到预定的品质阈值，其中，阈值对应直接在之前（例如在之前的持续时间△t结束时）确定的品质值，必要时加上或减去预定的偏移因子。这也可以这样列出式子，即，品质标准包括，当前确定的品质值小于直接在之前（例如在之前的持续时间△t结束时）确定的品质值，必要时加上或减去偏移因子。遵循品质标准因此尤其对应这样的情况，即，在处理烹饪物之后，在烹饪物的最后的持续时间△t期间到目标分布<Z>的接近优于之前。这种扩展设计方案的优点是，可以特别快速和可靠地对烹饪物的表面特性与期望的目标分布的协调一致变差作出反应。当品质值被定义为或计算为在两个平均值之间、特别是在算术平均值和中位值之间的差值时，这是能特别简单和有效地付诸实践的。一种扩展设计方案在于，品质阈值是固定地预定的值。但它也可以是可变的值，其例如取决于至少一个烹饪参数、至少一个调整参数和/或烹饪物的类型等。

若Q_p例如指的是当前的或最终确定的品质值并且Q_p-1指的是时间上在此前确定的品质值，那么用于保持参数配置的品质标准在一种扩展设计方案中也描述为

，

，或者，

，

其中，a指的是偏移因子并且a·Q_p-1对应品质阈值。偏移因子可以例如为1、0.995、0.99、0.98等。偏移因子可以是任意的，但也可以固定地选择或者可以动态地匹配。这种扩展设计方案通常也可以这样说明，即，倘若针对品质值Q_p产生了比针对品质值Q_p-1足够小的与目标分布<Z>的偏差，在保持当前的参数配置S_q的情况下推进所述方法。

取代偏移因子的是也可以使用加法偏移。通过使用偏移因子可以有利地防止出现准静态的状态，在所述准静态的状态中仅产生了无穷小的烹饪进展。

一种扩展设计方案在于，至少一个传感器包括至少一个红外传感器和/或至少一个光学的（在可见光谱内敏感的）传感器。因此能特别可靠地确定和有效地评估表面特性。光学的传感器尤其适用于确定褐变度和/或确定在烹饪物的表面上的湿度，而红外传感器则尤其适用于确定在烹饪物的表面上的温度分布。红外传感器尤其在近红外区（NIR）内是敏感的。

因此一种扩展设计方案是，由至少一个传感器的测量值提供了烹饪物的表面特性的空间分辨的、特别是像点状的测量值分布<V>，特别是作为二维的图像。为此，至少一个传感器可以是空间分辨地测量的传感器。这有利地实现了所述方法的特别快速的执行。

一种扩展设计方案在于，至少一个光学的传感器包括或者是相机，其采集烹饪物的像点状的组装的图像。相机、特别是数码相机，有利地是彩色相机，但也可以是黑白相机。为每个像点配设相应的测量值V_i，例如褐变度。

一种设计方案在于，至少一个红外传感器包括用于采集至少一个像点状的热图像的至少一个像点状地测量的IR相机（也称为“热成像相机”）。为每个像点配设形式为温度测量值的相应的测量值V_i。烹饪物的所测得的表面特性然后是其表面温度。

至少一个传感器备选或附加地能相对烹饪物运动（例如通过固定在能移动的托架上）并且在不同的空间位置处执行测量，所述测量聚集成了一个总图像。因此达到的优点是，能更为完整地检测或测出特别是也大体积的或非扁平的烹饪物的表面。也可以备选或附加地使用多个从不同的视角和/或在不同的位置处指向烹饪室的传感器，传感器的测量例如可以聚集成一个总图像。至少一个红外传感器然后可以例如构造成至少一个所谓的热柱或“热堆”等。至少一个红外传感器也可以构造成IR分光镜。

烹饪物附加或备选地可以运动，以便测量其表面特性。烹饪物例如可以放置在转盘上。烹饪物附加或备选地可以在烹饪室中进行高度调整，例如通过用于烹饪物托架的特别是能马达式地调整高度的夹持装置或通过能调整高度的烹饪物托架。烹饪物的高度调整尤其自动地通过家用烹饪器具完成。

一种扩展设计方案在于，至少一个传感器包括至少一个用于确定在烹饪物上的像点状的测量值分布<V>的指向烹饪室的传感器并且标量参量可以由至少一个、特别是正好一个测量值分布<V>的k个单独的像点计算得出。每个像点的值在此对应测量值V_i。因此达到的优点是，可以特别简单地由测量值分布<V>确定标量参量。另一个优点在于，测量值分布<V>典型地由多个像点并且因此多个测量值V_i构成并且由此计算出的标量参量、特别是平均值因此尤其是可靠的。

像点在它们的原始分辨率下用于执行所述方法，因此所述方法能特别可靠地执行。但也可以为了减小计算耗费而也降低原始分辨率。

一种可能的设计方案在于，至少一个传感器包括用于确定形式为烹饪物上的温度分布的像点状的测量值分布<V>的至少一个指向烹饪室的红外传感器并且标量参量可以由温度分布的各个像点V_i计算得出。但标量参量也可以类似地由褐变分布、湿度分布等确定。

一种设计方案在于，倘若品质值Q达到了预定的中断标准和/或烹饪物或其测量值分布<V>达到了预定的目标值V_Ziel，那么结束所述方法。因此可以有利地使已经处理好的烹饪物特别可靠地接近期望的最终状态。中断标准尤其可以取决于最后采集的测量值分布<V>。

倘若所述标准包括，烹饪物达到了预定的目标值V_Ziel，那么可以将这个目标值与测量值分布<V>相比较，但这并不需要。因此所述标准也可以例如包括达到由用户或程序侧预定的烹饪持续时间、核心温度等。

一种设计方案在于，当满足

或

时，烹饪物达到了预定的目标值V_Ziel。因此可以特别可靠地达到烹饪物的不同的期望的最终状态。标准

例如说明，当仅一个像点达到目标值V_Ziel时，应当结束所述方法。因此可以有利地防止对烹饪物的过强或过长的处理。标准

说明，当所有的像点均达到目标值V_Ziel时，应当结束所述方法。因此可以有利地防止对烹饪物的不连贯的处理。

一种设计方案在于，中断标准包括达到、特别是达到或低于目标品质值Q_Ziel。前提是，测量值分布<V>越是良好地接近目标分布<Z>，那么Q越小，当Q_p≤Q_Ziel时，例如满足中断标准。

一种设计方案在于，至少一个烹饪物处理装置包括至少一个用于将微波导入到烹饪室中的微波装置，其中，通过微波装置的至少两种参数配置S_q能产生微波在烹饪室内的不同的场分布。

家用烹饪器具因此可以是微波器具，其中，烹饪物处理装置然后可以具有至少一个用于将微波带入到烹饪室中的微波装置。微波装置尤其具有至少一个微波发生器（例如磁控管、逆变器控制的微波发生器、基于固体的微波发生器（“固态微波发生器”）等）。可以（特别是在基于半导体地产生微波功率时）例如使用运行频率、在多个微波发生器和/或馈入点时使用运行频率的相对相位等作为微波发生器的改变了烹饪室内的场分布的设置参数或运行参数。

微波装置还可以具有用于将由微波发生器产生的微波导入到烹饪室中的微波导引结构。微波导引结构可以例如是或者具有空心导体或HF缆线。

微波装置还可以具有至少一个能调整的、改变场的部件，这就是说，视改变场的部件的位置而定，微波在烹饪室中的场分布是不同的。根据对这个改变场的部件的设置参数或运行参数的设置，产生了特定的场分布并且因此产生了烹饪物中的特定的加热模式或改变模式。

至少一个改变场的部件可以例如具有或者是至少一个能转动的天线，所述天线将微波能量耦合输出到烹饪室中，例如从微波导引结构。这些转动天线典型地没有旋转对称地成形，因而对它们而言可以给出一个角位置作为设置参数或运行参数，其例如能通过步进马达有针对性地加以设置。至少一个能转动的天线在一种扩展设计方案中也可以就其高度位置进行设置。

至少一个改变场的部件可以附加或备选地具有至少一个就其空间位置能设置的微波反射器。微波反射器可以是能转动的和/或能移动的。能转动的微波反射器可以构造成模式搅拌器（“摆动器”）。能移动的微波发射器可以构造成空间上能移动的电介质（例如由特氟龙制成）。

针对至少一个烹饪物处理装置具有或者包括微波装置的情形，至少一个设置参数或运行参数可以包括来自由

- 至少一个能转动的天线的相应的转动角，

- 至少一个能转动的天线的相应的高度位置，

- 至少一个微波反射器的空间位置，

- 微波频率，

- 在不同的微波发生器之间的相对相位

构成的组中的至少一个运行参数。这并不排除，还可以设置微波装置的能改变场分布的另外的运行参数。

但家用烹饪器具也可以是烤炉，其中，烹饪物处理装置然后具有用于将热辐射带入到烹饪室中的至少一个特别是电气地运行的辐射加热体，例如至少一个下热加热体、至少一个上热加热体和/或至少一个烧烤加热体。

一种扩展设计方案在于，针对烤炉的情形，至少一个烹饪物处理单元包括来自具有

- 至少一个电气的辐射加热体，

- 至少一个感应线圈，

- 至少一个喷射定向的冷却空气风扇，

- 至少一个喷射定向的热空气装置，和/或

- 至少一个喷射定向的供水装置

的组的至少一个烹饪物处理单元。因此达到的优点是，可以用多种装置（倘若在家用烹饪器具中存在的话）单独地或任意组合地统一表面特性或者设置到表面特性的另一种目标分布。这又提高了所述方法的效果。喷射定向的装置尤其可以指的是带入物质的单元，其设置用于，将用于局部处理烹饪物的至少一个局部限界的定向的物质流带入到烹饪室中。

至少一个电气的辐射加热体用于通过输出热辐射加热烹饪室或在烹饪室中存在的烹饪物。该至少一个电气的辐射加热体可以是相应的管式加热体，备选或附加地例如是印制导线、电阻表面加热元件等。若家用烹饪器具装备有至少一个电气的辐射加热体，那么烹饪室也可以称为炉腔。

至少一个辐射加热体可以例如包括用于产生下热或下热功能的至少一个下热加热体、用于产生上热或上热功能的至少一个上热加热体、用于（必要时和至少一个上热加热体一起）产生烧烤功能的烧烤加热体、用于产生热空气或热空气功能的环形加热体等。辐射加热体的设置参数或运行参数可以尤其包括不同的电功率或功率级，例如< 0 W、200W、…、800 W >。

一种设计方案在于，至少一个电气的辐射加热体包括至少两个辐射加热体并且所述参数配置包括用于至少两个辐射加热体的设置值。换句话说，为了执行所述方法，可以使用对应至少两个辐射加热体的不同的设置参数组的不同的功率分布。

一种扩展设计方案在于，辐射加热体能单独地或个性化地运行，更确切地说，尤其与多个辐射加热体在选择特定的运行方式（例如烧烤运行方式）时是否一起运行无关。这样做获得的优点是，能提供与达到表面特性的期望的分布协调一致的功率分布。

一种扩展设计方案在于，辐射加热体（特别是仅）作为功能性的“运行方式”组或加热方式进行激活，它们配属于特定的运行方式。在此，在一种变型方案中，在至少一种运行方式中能激活正好一个辐射加热体或者为这种运行方式配设正好一个辐射加热体。在至少一种另外的运行方式中，激活至少两个辐射加热体或者为这种另外的运行方式配设至少两个辐射加热体。预定的空间的功率分布然后可以由属于不同的运行方式的辐射加热体的功率输入得出。

家用烹饪器具也可以是由烤炉和微波器具构成的组合，例如带有附加的微波功能的烤炉或者带有附加的烤炉功能的微波器具，其中，所述组合器具然后具有至少一个微波装置和至少一个辐射加热体。

一种设计方案在于，为了确定烹饪物的测量值分布< V >，在借助至少一个传感器从烹饪室采集的图像中、特别是热图像中隔绝该烹饪物的测量值分布< V >，这就是说，仅针对所述方法考虑到烹饪物的测量值分布，而忽视或忽略烹饪物的周围环境的（例如烹饪物托架的、烹饪室壁等的）表面特性。换句话说，烹饪物的表面的测量值与其它表面的或图像区域的测量值分离。为了达到这一点，通过传感器采集的图像可能例如经受图像评估、特别是对象识别。这使得能特别精确地自动地确定烹饪物在烹饪室中的位置。

烹饪物在烹饪室中的表面可以备选或附加地通过评估烹饪过程开始时的热变化加以确定。因此烹饪物的表面通常比典型地为金属的烹饪物托架更为缓慢地变热，这例如能在热图像序列中识别到和加以评估。在与波长相关的反射中可以备选或附加地评估时间变化。

备选能以其它方式、例如在用户侧确定烹饪物在烹饪室中的位置。例如在一种扩展设计方案中可以采集烹饪室的光学图像并且例如在例如家用烹饪器具的触敏的屏幕上和/或诸如智能手机、笔记本电脑之类的用户终端上提供给用户观看。用户现在可以确定对应烹饪物的图像面。这可以例如通过借助手指或笔在触敏的屏幕上沿着用户识别到的烹饪物的轮廓的移动完成。所采集的图像备选也可以在图像上划分成若干分区，并且用户可以选择其上显示烹饪物、特别是其上大部分显示烹饪物的、特别是其上仅显示烹饪物的那些分区。家用烹饪器具接下来可以仅使用用户侧选择的分区来执行所述方法。

一种设计方案在于，以如下方式迭代地运行所述方法，即，

- 至少一个烹饪物处理装置在第p个迭代步骤（p）（p≥1）中在预定的持续时间（Δt）内用第q种参数配置（S_q）（q≤p）运行，以便处理处在所述烹饪室中的烹饪物，

- 在持续时间Δt结束之后接着借助至少一个传感器确定烹饪物的表面特性的第p个测量值分布< V_p >，

- 为第p个测量值分布< V_p >计算品质值Q_p，并且

- 倘若对品质值Q_p而言满足预定的品质标准，那么至少一个烹饪物处理装置在接下来的第（p+1）个迭代步骤中用相同的第q种参数配置S_q运行，并且

- 倘若对品质值Q_p而言不满足预定的品质标准，那么设置另一种参数配置S_q+1并且至少一个烹饪物处理装置（6）在接下来的第（p+1）个迭代步骤中用该另一种参数配置S_q+1运行。

一种设计方案在于，

a）至少一个烹饪物处理装置在第p个迭代步骤p（p≥1）中在预定的持续时间Δt内用第q种参数配置S_q（q≤p）运行，以便处理处在烹饪室2中的烹饪物G，

b）在持续时间Δt结束之后借助至少一个传感器9确定所述烹饪物G的表面特性的第p个测量值分布< V_p >，

c）由第p个测量值分布< V_p >与在步骤a）之前采集的第p-1个测量值分布

的比较计算出变化模式< E(S_q) >并且储存该变化模式，

d）针对迄今为止在这个方法的运行中储存的所有的变化模式{< ES_q >}计算相应的评估值B_q，评估值表示在目标分布< Z >与测量值分布< V_p >的偏差和目标分布< Z >与预测模式< V´_p >的偏差之间的差异，其中，预测模式< V´_p >表示测量值分布< V_p >与相关的变化模式< ES_q >的重叠，

e）设置这样一种参数配置S_q，该参数配置的评估值B_q满足至少一个预定的标准，

f）针对第p个测量值分布< V_p >计算品质值Q_p，

g）倘若对品质值Q_p而言满足预定的品质标准，那么在保持当前的参数配置S_q的情况下迭代地分支到步骤a），并且

h）倘若对品质值Q_p而言不满足预定的品质标准，那么设置另一种参数配置S_q+1并且然后迭代地分支到步骤a）。

通过导入预测模式和评估值达到的优点是，能完全特别有效地接近期望的目标分布。

步骤g）尤其针对这样的情形实施，即，第p个测量值分布< V_p >相比之前的第（p-1）个测量值分布< V_p-1 >更好地与目标分布< Z >相匹配，即实际分布< V >的改进促使达到目标分布< Z >。步骤h）然后尤其针对这样的情形实施，即，第p个测量值分布< V_p >相比之前的测量值分布< V_p-1 >没有任何改进。

这种方法因此也可以包括，测量值分布< V_p >必要时甚至比之前的< V_p-1 >更差地（或至少不够更好地）与目标分布< Z >相匹配，尽管对按照参数配置的评估值B_q的基础性的参数配置S_q而言，所有迄今为止设置的参数配置S_q的可能最好的结果是可期的。因此现在可以选择和设置在之前还没有使用的新的参数配置S_q+1。用于执行所述方法的参数配置{S_q}的储存因此被连续地并且以需求为导向地扩展。但新的参数配置S_q+1实际上是否产生了比之前的测量值分布< V_p >要更加好的测量值分布< V_p+1 >，则不是公知的。

一种扩展设计方案在于，所述另一种参数配置S_q+1被有针对性地预定或者随机地或伪随机地选择。

对均匀的目标分布而言，

或者

。

变化模式< E(S_q) >是在第p个迭代步骤中采集的品质分布< V_p >和在之前的第（p-1）个迭代步骤中采集的测量值分布< V_p-1 >的函数，这也可以表达为

，其中，测量值分布< V_p >和< V_p-1 >又基于可以是相同的或不同的相应的参数配置S_q。比较尤其可以是通用的差。

针对表面特性是温度的情形，变化模式< E(S_q) >描绘了温度冲程，该温度冲程在特定的参数配置S_q时获得并且能以如下方式确定，即，相互比较在迭代步骤（p-1）和p时的温度分布。

此外，针对所有迄今为止在这种方法的运行中储存的变化模式{< E(S_q) >}计算相应的评估值B_q，该评估值表示在目标分布< Z >与测量值分布< V_p >的偏差和目标分布<Z >与预测模式< V´_p >的偏差之间的差异，其中，预测模式< V´_p >表示测量值分布< V_p >与相关的变化模式< E(S_q) >的重叠。预测模式< V´_p >对应在所述变化模式< E(S_q) >变到< V_p >时会产生的测量值分布。

评估值B_q又说明，涉及到当前的测量值分布< V_p >的相关的变化模式< E(S_q) >的使用使得这个测量值分布< V_p >可能有多强烈地接近目标分布< Z >。由此达到的优点是，能以简单的方式估计设置所提供的参数配置S_q对下一个迭代步骤的影响。

设置这样的参数配置S_q，该参数配置的评估值B_q满足至少一个预定的标准，包括了得出正好一个这种评估值B_q，即这样的评估值B_q，该评估值的使用在下一个迭代步骤中可能实现对目标分布< Z >的最佳的接近。

针对家用烹饪器具具有微波功能的情形，一种扩展设计方案在于，

- 至少一个烹饪物处理装置包括用于将微波带入到所述烹饪室（2）中的微波装置（6），其中，通过该微波装置（6）的至少两种参数配置（S_q）能在所述烹饪室（2）中产生微波的不同的场分布，

- 表面特性是所述烹饪物（G）的表面温度，并且

- 至少一个传感器（9）包括用于确定在所述烹饪物（G）上的温度分布

的至少一个指向烹饪室（2）的红外传感器（9），

其中，在该方法中，

a）微波装置（6）在第p个迭代步骤中在预定的持续时间（Δt）内用第q种参数配置（S_q）运行，以便用微波处理处在烹饪室（2）中的烹饪物（G），其中p≥1，q≤p，

b）在持续时间（Δt）结束之后接着借助至少一个红外传感器（9）确定烹饪物（G）的第p个温度分布< V_p >，

c）由第p个温度分布< V_p >与在步骤a）之前采集的第p-1个温度分布< V_p-1 >的比较计算出变化模式< E(S_q) >并且储存该变化模式，

d）针对迄今为止在这个方法的运行中储存的所有的变化模式{< E(S_q) >}计算相应的评估值B_q，该评估值表示在目标温度分布< Z >与温度分布< V_p >的偏差和目标温度分布< Z >与预测模式< V´_p >的偏差之间的差异，其中，预测模式< V´_p >表示温度分布< V_p>与相关的变化模式< E(S_q) >的重叠，

e）设置这样一种参数配置（S_q），该参数配置的评估值B_q满足至少一个预定的标准，

f）针对第p个测量值分布< V_p >计算品质值（Q_p），

g）倘若对品质值Q_p而言满足预定的品质标准，那么在保持当前的参数配置（S_q）的情况下迭代地分支到步骤a），并且

h）倘若对品质值Q_p而言不满足预定的品质标准，那么设置所述另一种参数配置（S_q+1）并且然后迭代地分支到步骤a）。

一种设计方案在于，所述变化模式< E(S_q) >像点状地作为在第p个测量值分布<V_p >和第p-1个分布< V_p-1 >之间的差计算得出，特别是根据

计算得出或者参考第i个像点根据

计算得出。变化模式< E(S_q) >表达了在设置参数配置S_q时对烹饪物的处理效果。变化模式< E(S_q) >也可以称为变化分布。

一种设计方案在于，根据

或者针对i = 1, … ,k个像点根据

计算评估值

，其中，例如可以根据

计算预测模式< V´_p >并且预定指数因子d。< E(S_q) >、< V´_p >和< V_p >在下文中可以具有绝对温度作为分量并且然后尤其不具有例如标准化的相对分布。

< Z* >指的是目标分布，其在涉及到当前的测量值分布< V_p >和< V_p >的k个分量的由此推导出的算术平均值x_arithm时在考虑到温度值的情况下旨在作为瞬时的目标状态。x_arithm尤其是℃为单位的温度说明。当目标分布< Z >是无量纲的时，那么用℃说明< Z* >。因此目标分布< Z* >可以逐个分量地针对所有的Z*_i根据

进行定义，这也可以写成

。指数因子d说明，应当考虑目标分布< Z >的偏差到什么程度。对d＞1而言，评估值B_q偏向加热模式< E(S_q) >，其补偿了实际测量值分布< V_p >与目标分布< Z >的巨大差异。

同样可以导入标准化的品质值Q_p,norm。这个标准化的品质值尤其具有的优点是，其与绝对温度无关并且始终处在0至1的值域中。为此，全部k个分量V_i从

朝着最大值

标准化，因此，根据

逐个分量地确定

；

类似地可以根据

定义Q_{p_norm}。接下来可以相同地使用标准化的和非标准化的值，如Q_{p_norm}和Q_p。所述方法通常可以相同地用标准化的（特别是无单位的）值或参量以及用非标准化的值或参量执行。

根据有待处理的烹饪物，个性化地选择d可能是有利的。尤其可以区分要快速加热但热容量低的烹饪物（例如爆米花）或者有更高热容量和相应更为迟缓的响应特性的烹饪物（例如较大的烤物块）。

但也能用其它方式计算预测模式< V´_p >，例如通过变化模式< E(S_q) >与测量值分布< V_p >的加权相加。

所述任务也通过一种家用烹饪器具解决，其设计用于如上所述那样执行所述方法。该家用烹饪器具可以与所述方法类似地构造并且具有相同的优点。

一种设计方案在于，具有：用于用多种参数配置处理处在烹饪室中的烹饪物的至少一个烹饪物处理装置，其中，通过至少两种参数配置能局部不同地处理烹饪物；用于确定烹饪物的表面特性的分布< V >的至少一个指向烹饪室的传感器；和用于执行所述方法的数据处理装置。

附图说明

本发明的上述特性、特征和优点以及如何达到这些特性、特征和优点的方式，结合接下来对结合附图更为详细地阐释的实施例的示意性的说明，变得更为清晰好理解：

图1示出了家用烹饪器具的简化的草图，该家用烹饪器具设置用于执行上述的方法；并且

图2示出了上述方法的不同的流程步骤。

具体实施方式

图1作为侧视的剖面图示出了形式为微波器具1的家用烹饪器具的草图，该微波器具设置用于运行在图2中更为详细地说明的方法。微波器具1具有带前侧的装料开口3的烹饪室2，该装料开口能借助门4封闭。在烹饪室2中，烹饪物G布置在烹饪物托架5上。

家用烹饪器具1还具有至少一个形式为微波产生装置6的烹饪物处理单元。微波产生装置6可以例如具有逆变器控制的微波发生器、能转动的和/或能调整高度的旋转天线7和/或能转动的和/或能调整高度的摆动器（未示出）。微波器具1额外可以具有红外辐射加热体（未示出），例如下热加热体、上热加热体和/或烧烤加热体。

微波产生装置6借助控制单元8加以驱控。微波产生装置6尤其可以根据至少两种有在烹饪室2中的不同的场分布的参数配置S_q、S_q+1进行设置。不同的参数配置S_q、S_q+1可以例如对应旋转天线7的不同的转动角。转动角因此对应微波器具1的有至少两个形式为转动角值的设置值的场变化的设置参数或运行参数。

此外，控制单元8还与形式为热成像相机9的光学的传感器连接。因此这样来布置热成像相机9，使得该热成像相机指向烹饪室2并且可以采集烹饪物G的像点状的热图像。热成像相机9因此可以用于采集或确定在烹饪物G的表面处的温度分布< V >。

控制单元8可以设置用于执行上述方法并且也可以用作评估装置。评估备选也可以在诸如网络计算机或所谓的“云”之类的在器具外部的实体上运行（未示出）。

图2示出了上述方法的不同的流程步骤，所述流程步骤例如能在图1所说明的微波器具1中运行。这个方法构造成迭代方法，其中，迭代的次数由步骤或迭代指数p说明。

在将烹饪物G带入到烹饪室2中之后，开始所述方法并且为此先执行起始步骤或初始步骤S0。可以将迭代指数p = 0配设给这个初始步骤S0。

在初始步骤S0的第一个分步骤S0-1中，为烹饪物G设置目标温度T_Ziel。

接下来在分步骤S0-2中为旋转天线7设置第一参数配置S_q = S₁并且然后在预定的持续时间Δt（例如在2秒和15秒之间）内借助由微波产生装置6发出的微波来处理烹饪物G。迄今为止在所述方法的范畴内设置的参数配置S_q的数量用指数q标注。因此一开始q = 1。第一参数配置S₁可以预定或随机地或伪随机地选择。

在持续时间Δt结束之后，在第三分步骤S0-3中借助热感相机确定了烹饪物G的最初的温度分布< V_p=0 >。

烹饪物G的温度分布< V_p >是片段的温度分布，其具有有相应的统一的温度值的不同的分区。由热成像相机采集的图像例如可以被分成有特定的边长或特定数量的像点的图形片段。通过一个片段示出的值是对这个片段而言恒定不变的温度值并且可以例如通过包含在相应的片段中的像点值或像素值的求平均值确定。在极端情况下，片段对应单独的像点，这就是说，烹饪物的用于执行所述方法的温度分布是像点状的温度分布。下文中例如假设，烹饪物G的温度分布< V_p >被划分成了k个片段V_p;i（i =1,…,k），这就是说

。

在方法步骤S1中，微波装置在预定的持续时间Δt内用第q种参数配置S_q（q≤p）运行，以便用微波处理处在烹饪室中的烹饪物G。若在初始步骤S0之后第一次运行步骤S1或者步骤S1紧接在初始步骤S0之后，那么p = q =1。因为能从最多p种参数配置的一组参数配置中选出参数配置S_q，所以那么当第一次运行步骤S1时，先是仅存在在步骤S0-2中设置的参数配置S₁。

在步骤S2中，在持续时间Δt结束之后，借助热感相机确定了烹饪物G的第p个温度分布< V_p >。确定温度分布可以包括单个像点的配设给相应的片段V_p;i的温度测量值取平均值（倘若片段V_p;i包括多于一个的像点）。

在有k= 4个片段的最为简单的例子中，迭代步骤p中的温度分布< V_p >可能看起来如下：

其中，各个温度值V_p;i用摄氏度说明。

在步骤S3中询问，在步骤S2中测得的温度分布< V_p >是否达到或超过了目标温度值T_Ziel。倘若是（“J”），那么在步骤S4中结束所述方法。在步骤S3中的条件或询问通常可以写成< V_p > ≥ T_Ziel并且在例子中表达为

这就是说，当温度分布< V_p >的至少一个片段V_p;i超过了目标温度时，结束所述方法。当特定数量的片段V_p;i、片段V_p;i的特定的百分比或者所有的片段V_p;i达到或超过了目标温度值T_Ziel时，备选可以例如结束所述方法。最后的条件也可以称为

。

倘若在步骤S3中执行的询问没有满足条件（“N”），那么分支到步骤S5。

在步骤S5中，将之前所测得的第p个温度分布< V_p >与之前所测得的温度分布<V_p-1 >相比较或相关联并且由此计算出特定于当前所设置的参数配置S_q的变化模式< E(S_q)>，并且然后储存这个变化模式< E(S_q) >。尤其可以这样执行这一点，即，片段地比较温度分布< V_p-1 >和< V_p >，即，将有相同的指数i的两个温度分布< V_p-1 >和< V_p >的相应的片段彼此关联。

变化模式< E(S_q) >尤其可以作为两个温度分布< V_p-1 >和< V_p >的差进行计算，这就是说，确定了< E(S_q) > = < V_p > - < V_p-1 >。变化模式< E(S_q) >因此同样被划分成了k个片段E_i(S_q)。在此，尤其将有相同的指数i的片段V_p;i和V_p-1;i彼此相减，这就是说，针对所有片段E_i(S_q)计算关联

；

变化模式< E(S_q) >对应在两个时间上连续相继的温度分布< V_p-1 >和< V_p >之间的温度差的片段的分布并且因此在内容上对应由这个所设置的参数配置S_q促成的到烹饪物G上的效果。

就上面的例子而言，当

时，就根据

产生了变化模式

；

变化模式< E(S_q) >除了说明为温度差之外例如也可以说明为每单位时间的温度升高。物理单位在这种情况下例如是℃/s。

在步骤S6中，针对所有迄今为止所储存的变化模式< E(S) > = { < E(S_q) >}计算相应的评估值B(S_q)。在第一次运行步骤S5时，仅存在变化模式< E(S₁) >，因而那么也仅计算评估值B(S₁)。

评估值B(S_q)在此基于温度分布< V_p >和预测模式< V´_p >与针对烹饪物G的目标模式< Z >的相应的关联。在此，预测模式< V´_p >对应片段状的温度分布，其对应近似或接近下一个迭代步骤的温度分布（倘若使用参数配置S_q的话）。

预测模式< V´_p >可以针对特定的变化模式< E(S_q) >例如片段地根据

计算。在上面的例子中，在此得出了

评估值B(S_q)是预测模式< V´_p >与针对烹饪物G的目标模式< Z >的可能的偏差的优度或度量。“最好的”计算值B(S_q)说明，当微波装置设置到属于此的参数配置S_q时，相比用其它已经设置的或试用的参数配置S_q预计更好地接近目标模式< Z >。评估值B_q = B(S_q)也可以称为“预测优度”。

尤其可以根据

计算评估值B(S_q)，这在计算的涉及到片段的表达式中

k对应片段的数量i。在这种情况下，越是更好地接近目标分布< Z >，B_q的值就越大。

指数d的值是预设的值，其确定了，对目标分布< Z >的偏差考虑得有多强烈。针对d＞1，评估值B更偏向这种变化模式< E(S_q) >，该变化模式补偿了当前的温度分布< V_p >与目标分布< Z >的大的差异。

在上面的例子中，针对伴随T_Ziel = 80 ℃的均匀的温度分布期望作为（标准化的）目标分布< Z >的情形，这就是说

，

因而在d =1时并且算术平均值x_arithm(< V_p >)伴随

时，得出了

并且由此得出了评估值

为了比较，现在确定了另一个更旧的加热模式< E_j >（j＜q）的评估值B_j：

后来选择了变化模式

，因为

。通过使用

产生的模式

和通过使用

产生的模式

的比较表明，结果

是更为均匀的：

。

在所述方法的一种变型方案中，可以取代

地使用平均值

，该平均值在使用变化模式

时已经一起考虑到了待预期的加热，这能以

的形式表达。

和

能用℃说明。

在再另一种变型方案中，同样可以一起考虑到了变化模式

的通常的加热，特别是与所有变化模式的整体的通常的加热相比。

一种扩展设计方案在于，排除在它们的通常的加热中不具有一定的最小阈值的变化模式。因此可以防止错误地控制所述方法，因为在极限情况

时，

，并且针对

，由此

。

在步骤S7中，设置来自迄今为止已经至少设置一次的参数配置{S_q}的可用组的参数配置S_q，该参数配置最为接近目标分布< Z >。这尤其可以是对应最大的评估值B(S_q)的参数配置S_q。

在步骤S8中，还针对第p个温度分布< V_p >计算出相关的（第p个）标量品质值

，该标量品质值测量当前所测得的第p个温度分布< V_p >与目标分布< Z >的偏差或者表达当前所测得的第p个温度分布< V_p >与目标分布< Z >的相似度。在当前，例如选择均匀的或均等的目标分布< Z >（< Z > = 常数），并且品质值Q_p是两个标量参量即算术平均值x_arithm和中位值x_med的差、特别是差值。这实现了完全特别简单的计算并且导致了能完全特别良好和有效地接近烹饪物的表面特性的期望的目标分布的品质值。品质值Q因此尤其根据

计算出，其中，

并且

Q_p越小，x_arithm通常越接近x_med并且因此< V_p >接近< Z >。与此相似的是也可以取代Q_p使用标准化的品质值Q_p,norm。

在这个计算步骤中，在一种变型方案中，有利地取代温度分布< V_p >地使用标准化到片段V_p,i的最大的温度值V_p,max的温度分布< V*_p >，该温度分布的片段V*_p,i= 比如V_p,i/V_p,max。

在也可能是可选的步骤S9中，检查是否Q_p≤Q_Ziel，这就是说，品质值Q_p是否达到了预定的目标值Q_Ziel，即是否充分准确地达到了目标分布< Z >或< Z* >。倘若是（“J”），那么分支回到步骤S1。

若品质值Q_p没有达到品质值Q_Ziel（“N”），那么分支到步骤S10。

在步骤S10中询问，品质值Q_p是否比针对之前的第（p-1）个步骤计算出的品质值Q_p-1更好或更差，这通过表达式

象征性表示。在使用计算法则

其中

并且

时，用

取代表达式

，其中，

对应品质阈值并且a≤1。因此尤其达到的是，品质值Q_p相对之前的迭代的品质值Q_p-1的改进必须达到或超过特定的最低限度，特别是倘若a＜1，例如a = 0.995时。因此可以有利地防止出现准静态的状态，其中仅产生了无穷小的烹饪进展。最低限度a可以是任意的，但也可以固定地选择或者可以动态地进行匹配。倘若品质值Q_p优于品质值Q_p-1（“J”），即特别是满足条件

，那么在保持当前的参数配置Sq的情况下分支回到步骤S1。在此，迭代指数p根据p := p + 1增加了值1。但倘若不满足条件（“N”），那么品质值Q_p并不比品质值Q_p-1更好或甚至更差，那么分支到步骤S11。

倘若在步骤S10中（“N”）（即特别是

），在步骤S11中设置了新的参数配置S_q+1并且然后分支回到步骤S1。在此，迭代指数p根据p := p + 1增加了1（“迭代的返回分支”）。新的参数配置S_q+1在所述方法的范畴内迄今为止还未被设置。它可以被预定或者随机地或伪随机地选择。因此参数配置S_q的群组{S_q}的组成员的数量提高了1。

上述方法使得能在使用微波辐射或HF辐射时在借助热成像相机的数据的情况下有针对性地控制烹饪物的加热分布。因此能用很小的耗费实现对微波烹饪器具的智能控制，智能控制可以动态地并且仅涉及当前时刻地达到尽可能最佳的烹饪结果。因此在传统的微波器具中也能设置有针对性的温度模式和分布，这一直被认为几乎是不可能的，更确切地说，仅借助简单的热感相机和用于旋转天线的步进马达。

本发明当然并不局限于所示的实施例。

因此上述方法步骤也能按其它顺序或必要时并行地执行。步骤S5至S7以及S8至S10的顺序例如可以反过来，步骤S3和S4可以直接在步骤S8之前或者之后执行等。

步骤S7和S8也可以已经针对步骤p = 1 执行，倘若存在品质值Q₀，例如因为其在初始步骤S0的范畴内计算得出。

在另一种也能普遍使用的修改方案中，步骤S10可以直接紧接着步骤S7执行（因此取消了步骤S8和S9）。然后能以

的形式预测性地执行品质评估，还在之前实际设置参数配置S_q。

也可以考虑到的是，基于烹饪物和整个系统的可变性而可能的是，在过去确定的变化模式< E(S_q) >不再有效。通常可能有利的是，动态地更新较长时间（例如从一分钟起）不再使用的变化模式< E(S_q) >或者偶尔检查它的有效性。这可以例如通过中间步骤发生，在中间步骤中，微波器具1设置到相关的参数配置S_q并且然后在用这种参数配置S_q处理烹饪物之后计算相关的变化模式< E(S_q) >并且取代旧的变化模式< E(S_q) >地储存所述相关的变化模式。

此外，步骤顺序S3、S4可以与步骤顺序S1、S2交换。然后取代分支回到步骤S1地分支回到步骤S3。

此外，可以使用标准化的或者非标准化的值和参量。

所述方法通常能用标准化的或非标准化的值和分布执行。

通常而言，“一个”等可以指的是单数或复数，特别是在“至少一个”或“一个或多个”等的意义上，只要没有例如通过措辞“正好一个”等排除这一点。

数字说明也可以正好包括所说明的数字和通常的公差范围，只要没有明确排除这一点。

附图标记列表

1 微波器具

2 烹饪室

3 装料开口

4 门

5 烹饪物托架

6 微波产生装置

7 旋转天线

8 控制单元

9 热成像相机

B(S_q) 评估值

< E(S_q) > 变化模式

G 烹饪物

p 迭代步骤

Q_p 第p个迭代的品质值

Q_Ziel 目标品质值

S_q 参数配置

S1-S11 方法步骤

T_Ziel 目标温度

Δt 持续时间

< V > 在烹饪物的表面上的温度分布

< V_p > 在第p个迭代中的温度分布

x_arithm 算术平均值

x_med 中位值。

Claims (17)

1.用于运行家用烹饪器具（1）的方法（S1-S11），该家用烹饪器具具有：

- 烹饪室（2），

- 至少一个用多种参数配置（S_q、S_q+1）处理处在烹饪室（2）中的烹饪物（G）的烹饪物处理装置（6），其中，通过至少两种参数配置（S_q、S_q+1）能局部不同地处理烹饪物（G），和

- 至少一个用于确定烹饪物（G）的表面特性的测量值分布< V >的指向烹饪室（2）的传感器（9），

其中，在方法中，

- 至少一个烹饪物处理装置（6）在预定的持续时间（Δt）内用参数配置（S_q）中其中一种参数配置运行，以便处理处在烹饪室（2）中的烹饪物（G），

- 在持续时间（Δt）结束之后接着借助至少一个传感器（9）确定烹饪物（G）的表面特性的测量值分布< V >，

- 由测量值分布< V >确定了品质值（Q），并且

- 倘若品质值（Q）不满足预定的品质标准，那么烹饪物处理装置（6）接下来就用其中另一种参数配置（S_q+1）运行，

其中，

-由至少两个从相同的至少一个测量值分布< V >计算出的不同的标量参量（x_arithm、x_med）的比较确定品质值（Q）。

2.按照权利要求1所述的方法（S1-S11），其中，所述两个标量参量（x_arithm、x_med）是不同的平均值。

3.按照权利要求2所述的方法（S1-S11），其中，所述两个标量参量（x_arithm、x_med）包括算术平均值（x_arithm）和中位值（x_med）。

4.按照前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S11），在该方法中，品质值包括所述两个标量参量（x_arithm、x_med）的差、特别是差值。

5.按照权利要求4所述的方法（S1-S11），在该方法中，所述品质标准包括达到或低于预定的品质阈值。

6.按照前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S11），其中，至少一个传感器（9）包括至少一个用于确定在所述烹饪物（G）上的像点状的温度分布< V >的指向所述烹饪室（2）的传感器（9），并且由所述测量值分布< V >的各个像点计算出所述标量参量（x_arithm、x_med）。

7.按照前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S11），在该方法中，倘若

- 所述品质值（Q）达到了预定的中断标准，和/或

- 所述测量值分布< V >达到了预定的目标值（V_Ziel），

就结束所述方法。

8.按照权利要求7所述的方法，在该方法中，若满足

或

，则所述烹饪物（G）达到了所述预定的目标值（V_Ziel）。

9.按照前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S11），在该方法中，所述至少一个烹饪物处理装置（6）包括用于将微波带入到所述烹饪室（G）中的至少一个微波装置（6），其中，通过微波装置（6）的至少两种参数配置（S_q）能在所述烹饪室（2）中产生微波的不同的场分布。

10.按照权利要求9所述的方法，在该方法中，参数配置（S_q）分别包括所述微波装置（6）的来自由

- 至少一个能转动的天线（7）的相应的转动角，

- 至少一个能转动的天线（7）的相应的高度位置，

- 至少一个微波反射器的空间位置，

- 微波频率，

- 在不同的微波发生器之间的相对相位

构成的组中的至少一个运行参数（S_q）的值。

11.按照前述权利要求中任一项所述的方法，在该方法中，所述方法通过下列方式迭代地运行，即

- 所述至少一个烹饪物处理装置（6）在第p个迭代步骤（p）中在预定的持续时间（Δt）内用第q种参数配置（S_q）运行，以便处理处在所述烹饪室（2）中的烹饪物（G），其中p≥1，q≤p，

- 在所述持续时间（Δt）结束之后接着借助所述至少一个传感器（9）确定所述烹饪物（G）的表面特性的第p个测量值分布< V_p >，

- 为第p个测量值分布< V_p >计算品质值（Q_p），并且

- 倘若对品质值（Q_p）而言满足预定的品质标准，那么所述至少一个烹饪物处理装置（6）在接下来的第（p+1）个迭代步骤中用相同的第q种参数配置（S_q）运行，并且

- 倘若对品质值（Q_p）而言不满足预定的品质标准，那么设置另一种参数配置（S_q+1）并且所述至少一个烹饪物处理装置（6）在接下来的第（p+1）个迭代步骤中用该另一种参数配置（S_q+1）运行。

12.按照前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S11），在该方法中，

a）所述至少一个烹饪物处理装置（6）在第p个迭代步骤（p）中在所述预定的持续时间（Δt）内用第q种参数配置（S_q）运行，以便处理处在所述烹饪室（2）中的烹饪物（G），其中p≥1，q≤p，

b）在所述持续时间（Δt）结束之后接着借助至少一个传感器（9）确定所述烹饪物（G）的表面特性的第p个测量值分布< V_p >，

c）由第p个测量值分布< V_p >与在步骤a）之前采集的第（p-1）个测量值分布

的比较计算出变化模式< E(S_q) >并且储存该变化模式，

d）针对迄今为止在这个方法的运行中储存的所有的变化模式{< E(S_q) >}计算相应的评估值B_q，该评估值表示在目标分布< Z >与测量值分布< V_p >的偏差和目标分布< Z >与预测模式< V´_p >的偏差之间的差异，其中，预测模式< V´_p >表示测量值分布< V_p >与相关的变化模式< E(S_q) >的重叠，

e）设置这样一种参数配置（S_q），该参数配置的评估值B_q满足至少一个预定的标准，

f）针对第p个测量值分布< V_p >计算品质值（Q_p），

g）倘若对品质值（Q_p）而言满足预定的品质标准，那么在保持当前的参数配置（S_q）的情况下迭代地分支到步骤a），并且

h）倘若对品质值（Q_p）而言不满足预定的品质标准，那么设置所述另一种参数配置（S_q+1）并且然后迭代地分支到步骤a）。

13.按照权利要求12所述的方法，在该方法中，

- 所述至少一个烹饪物处理装置包括至少一个用于将微波带入到所述烹饪室（G）中的微波装置（6），其中，通过该微波装置（6）的至少两种参数配置（S_q）能在所述烹饪室（2）中产生微波的不同的场分布，

- 所述表面特性是所述烹饪物（G）的表面温度，并且

- 所述至少一个传感器（9）包括用于确定在所述烹饪物（G）上的温度分布

的至少一个指向所述烹饪室（2）的红外传感器（9）、特别是热成像相机，

其中，在该方法中，

a）所述至少一个微波装置（6）在第p个迭代步骤中在所述预定的持续时间（Δt）内用第q种参数配置（S_q）运行，以便用微波处理处在所述烹饪室（2）中的烹饪物（G），其中p≥1，q≤p，

b）在所述持续时间（Δt）结束之后接着借助所述至少一个红外传感器（9）确定所述烹饪物（G）的第p个温度分布< V_p >，

c）由第p个温度分布< V_p >与在步骤a）之前采集的第（p-1）个温度分布< V_p-1 >的比较计算出变化模式< E(S_q) >并且储存该变化模式，

d）针对迄今为止在这个方法的运行中储存的所有的变化模式{< E(S_q) >}计算相应的评估值B_q，该评估值表示在目标温度分布< Z >与温度分布< V_p >的偏差和目标温度分布<Z >与预测模式< V´_p >的偏差之间的差异，其中，预测模式< V´_p >表示温度分布< V_p >与相关的变化模式< E(S_q) >的重叠，

e）设置这样一种参数配置（S_q），该参数配置的评估值B_q满足至少一个预定的标准，

f）针对第p个测量值分布< V_p >计算品质值（Q_p），

g）倘若对品质值Q_p而言满足预定的品质标准，那么在保持当前的参数配置（S_q）的情况下迭代地分支到步骤a），并且

h）倘若对品质值（Q_p）而言不满足预定的品质标准，那么设置另一种参数配置（S_q+1）并且然后迭代地分支到步骤a）。

14.按照权利要求12至13中任一项所述的方法，在该方法中，所述变化模式< E(S_q) >像点状地作为在第p个测量值分布< V_p >和第p-1个分布< V_p-1 >之间的差计算得出，特别是根据

计算。

15.按照权利要求12至14中任一项所述的方法，在该方法中，根据

用预测模式

和指数因子d计算所述评估值B_q。

16.按照前述权利要求中任一项所述的方法，在该方法中，为了确定所述烹饪物（G）的测量值分布< V >，在借助所述至少一个传感器（9）从所述烹饪室（2）采集的图像中隔绝测量值分布< V >。

17.家用烹饪器具（1），具有

- 烹饪室（2），

- 至少一个用多种参数配置（S_q）处理处在烹饪室（2）中的烹饪物（G）的烹饪物处理装置（6），其中，通过至少两种参数配置（S_q）能局部不同地处理烹饪物（G），

- 至少一个用于确定烹饪物（G）的表面特性的测量值分布< V >的指向烹饪室（2）的传感器（9），和

- 用于执行按照前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S11）的数据处理装置（10）。

Images