CN113157151A - 触控面板和触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种触控面板和触控显示装置。该触控面板包括触控电极，触控电极的至少部分设置为网格状电极。网格状电极包括彼此连接的非透明电极和透明电极，非透明电极为网格结构，网格结构包括第一网格线和第一网孔。透明电极的至少部分在触控面板所在面上的正投影位于第一网格线在触控面板所在面上的正投影之外。通过在该触控面板中设置透明电极以拓展网格状电极的网格线的宽度，从而在保证透光率的同时，提高触控电容的电容量，以提高触控功能的灵敏度。

Description

触控面板和触控显示装置

技术领域

本公开至少一个实施例涉及触控领域，具体地，涉及一种触控面板和触控显示装置。

背景技术

具有触控功能的电子产品的应用愈发受到市场的欢迎，具有触控功能的电子产品通常在用户的视觉场景下应用，从而在视觉效果上有一定的要求，然而，当前的具有触控功能的电子产品因受自身设计的限制，难以在保证良好的透光率的同时具有良好的触控功能。

发明内容

有鉴于此，本公开提供一种触控面板和触控显示装置，通过在该触控面板中设置透明电极以拓宽网格状电极的网格线的宽度，从而在保证网格状电极的透光率的同时，提高触控电容的电容量，以提高触控功能的灵敏度。

本公开第一方面提供一种触控面板，该触控面板包括触控电极，触控电极的至少部分设置为网格状电极。网格状电极包括彼此连接的非透明电极和透明电极，非透明电极为网格结构，网格结构包括第一网格线和第一网孔。透明电极的至少部分在触控面板所在面上的正投影位于第一网格线在触控面板所在面上的正投影之外。

在上述方案中，网格状电极的网格线可以具有大的设计宽度，从而提高由网格状电极形成的电容的电容量；此外，第一网格线可以具有小的设计宽度，从而使得非透明电极在视觉上不可见。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，非透明电极的电阻率小于透明电极的电阻率。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，触控面板包括触控侧与触控侧背离的非触控侧，沿从非触控侧至触控侧的方向，非透明电极和透明电极依次排布。例如，进一步地，非透明电极在触控面板所在面上的正投影位于透明电极在触控面板所在面上的正投影之内。

例如，在本公开第一方面的另一个具体实施方式中，触控面板包括触控侧与触控侧背离的非触控侧，沿从触控面板的非触控侧至触控侧的方向，透明电极和非透明电极依次排布。例如，进一步的，非透明电极在触控面板所在面上的正投影位于透明电极在触控面板所在面上的正投影之内。

例如，在本公开第一方面的另一个具体实施方式中，非透明电极和透明电极同层且透明电极位于第一网格线的第一网孔中。例如，进一步的，透明电极包括在每个第一网孔中设置的环状电极。

例如，在本公开第一方面的另一个具体实施方式中，透明电极包括第一子透明电极层和第二子透明电极层，非透明电极位于第一子透明电极层和第二子透明电极层之间。例如，进一步地，非透明电极在触控面板所在面上的正投影位于第一子透明电极层和第二子透明电极层中的任一个在触控面板所在面上的正投影之内。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，触控电极包括并列的多条第一电极和并列的多条第二电极，第一电极和第二电极彼此交叉以限定多个触控单元。第一电极和第二电极中的至少一个设置为网格状电极。例如，第一电极和第二电极之一为驱动电极，第一电极和第二电极之另一为感应电极。

在上述方案中，第一电极和第二电极在交叉处会形成电容，在第一电极和第二电极被施加电压之后，第一电极和第二电极中的电容充电以具有电容值，如果外物(例如手指)在触摸触控面板时靠近该交叉处，第一电极和/或第二电极会与外物形成新的电容，从而引起第一电极和第二电极的电压浮动，导致第一电极和第二电极形成的电容的电容值变化，通过确定电容值发生变化的电容的位置，即可确定外物的触摸位置。在上述过程中，第一电极和第二电极形成的电容的电容量有一定的要求，如果该电容的电容量过小，会无法实现触控检测。与第一电极和/或第二电极设置为仅包括非透明电极的情况相比，在第一电极和/或第二电极设置为具有上述网格状电极之后，第一电极和/或第二电极的网格线的宽度增加，从而形成的电容的电容量增加，从而解决电容量不足的问题。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，进一步的，第一电极和第二电极中都设置为网格状电极。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，第一电极和第二电极位于不同层，触控电极还包括位于第一电极和第二电极之间的第一绝缘层。

例如，在本公开第一方面的另一个具体实施方式中，第一电极和第二电极同层，第一电极在与第二电极的交叉处断开，触控电极还包括导电桥和第二绝缘层。导电桥位于第一电极和第二电极的交叉处，断开的第一电极通过导电桥连接。例如，进一步的，导电桥设置为网格状电极。第二绝缘层位于第二电极和导电桥之间，第二绝缘层包括过孔，导电桥通过过孔与第一电极连接。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，触控面板包括触控功能区，触控电极位于触控功能区，触控功能区包括第一区域和第二区域。第一区域中的触控单元的面积小于第二区域中的触控单元的面积。

在上述方案中，与第二区域相比，第一区域的触控单元的面积小，从而可以对更小的物体进行检测(定位)。例如，以手指为例，第二区域只能检测手指的触摸位置，第一区域即可以检测手指的触摸位置，又可以检测手指的谷和脊的位置，从而具有指纹识别功能。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，触控面板还包括显示面板。显示面板包括显示区，显示区中设置有多个子像素。触控电极位于显示面板的出光侧，网格状电极在触控面板所在面上的正投影位于相邻子像素之间的间隔区域在触控面板所在面上的正投影之内。

在上述方案中，网格状电极不会阻挡组子像素出射的光，从而提高包括显示面板的触控面板的出光亮度。

例如，在本公开第一方面的一个具体实施方式中，显示面板包括显示功能层和封装层。显示功能层包括位于每个子像素中的发光器件；封装层位于显示功能层的出光侧。触控电极位于封装层上。

在上述方案中，在显示面板的封装层上直接制备触控电极，有利于触控面板的轻薄化设计。

本公开第二方面提供一种触控显示装置，该触控显示装置包括上述第一方面中的触控面板。

附图说明

图1为本公开一实施例提供的一种触控面板的平面结构示意图；

图2为图1所示触控面板的S1区域的一种网格状电极的放大图；

图3为图2所示的触控面板中网格状电极的透明电极的结构示意图；

图4为图2所示的触控面板中网格状电极的非透明电极的结构示意图；

图5为图2所示的网格状电极沿着M1-NI的截面图；

图6为图1所示触控面板的S1区域的另一种网格状电极的放大图；

图7为图6所示的触控面板中网格状电极的透明电极的结构示意图；

图8为图6所示的触控面板中网格状电极的非透明电极的结构示意图；

图9为图6所示的网格状电极沿着M2-N2的截面图；

图10为图1所示触控面板的S1区域的另一种网格状电极的放大图；

图11为图10所示的触控面板中网格状电极的透明电极的结构示意图；

图12为图10所示的触控面板中网格状电极的非透明电极的结构示意图；

图13为图10所示的网格状电极沿着M3-N3的截面图；

图14为图1所示触控面板的S1区域的另一种网格状电极的放大图；

图15为图14所示的触控面板中网格状电极的透明电极的结构示意图；

图16为图14所示的触控面板中网格状电极的非透明电极的结构示意图；

图17为图14所示的网格状电极沿着M4-N4的截面图；

图18为本公开一实施例提供的触控面板中的一种触控电极的平面结构示意图；

图19为图18所示触控电极沿着M5-N5的截面图；

图20为本公开一实施例提供的触控面板中的另一种触控电极的平面结构示意图；

图21为图20所示触控电极沿着M6-N6的截面图；

图22为本公开一实施例提供的另一种触控面板的触控电极的部分区域截面图；

图23为图20所示的一个触控单元中的触控电极的平面结构示意图，其中触控电极为网格状电极；

图24为图20所示的一个触控单元中的导电桥的平面结构示意图，其中导电桥为网格状电极；

图25为本公开一实施例提供的另一种触控面板的平面结构示意图；

图26为本公开一实施例提供的一种触控显示装置的结构示意图；

图27为本公开一实施例提供的触控面板中的网格状电极和显示面板中的子像素的平面分布关系示意图；以及

图28为图27所示的触控面板的部分区域的截面示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

触控面板包括触控电极以形成触控电容，在外界物体(例如手指)靠近时，该触控电容的电容值改变(相当于电压改变)，据此，可以检测触摸位置。触控面板在一定的应用环境例如显示领域下是需要具有一定透光率的，但是相对于金属等非透明导电材料，透明导电材料的电阻率(或者方阻)较大，造成功耗高且压降过大而导致触控灵敏度低。如此，可以利用非透明导电材料(例如金属或者金属合金)来形成触控电极，其中，触控电极形成为网格结构，如此可以使得触控电极整体是透光的。网格结构的网格线的宽度越小，网格线在视觉上被可见的风险越小，即，视觉效果越好，但是，网格线的宽度越小，触控电极的电阻越大，且形成的触控电容的电容值越小，反而不利于触控。

本公开提供一种触控面板和触控显示装置，可以解决上述的技术问题。该触控面板包括触控电极，触控电极的至少部分设置为网格状电极。网格状电极包括彼此连接的非透明电极和透明电极，非透明电极为网格结构，网格结构包括第一网格线和第一网孔。透明电极的至少部分在触控面板所在面上的正投影位于第一网格线在触控面板所在面上的正投影之外。如此，与网格状电极只包括非透明电极的情况相比，通过设置透明电极可以使得网格状电极的网格线具有较大的宽度，从而使得由网格状电极形成的电容具有较大的电容量；此外，可以允许非透明电极的第一网格线具有更小的设计宽度，从而使得非透明电极在视觉上进一步不可见，提高触控面板的透光率和视觉效果，即，通过在该触控面板中设置透明电极以拓展网格状电极的网格线的宽度，从而在保证透光率的同时，提高触控电容的电容量，以提高触控功能的灵敏度。

下面，结合附图对根据本公开至少一个实施例中的触控面板和触控显示装置的结构进行说明。此外，在该些附图中，以触控面板所在面为参考建立空间直角坐标系，以对触控面板和触控显示装置中的结构的位置进行说明。在该空间直角坐标系中，X轴和Y轴与触控面板所在面平行，Z轴与触控面板所在面垂直。

在本公开至少一个实施例中，如图1～图5所示，触控面板10包括触控功能区11以及环绕触控功能区的边框区12，触控功能区11中设置有触控电极100，触控电极100设置为如图2所示的网格状电极，该网格状电极包括第二网孔103。网格状电极包括彼此连接的非透明电极101和透明电极102。非透明电极101为网格结构，非透明电极101包括第一网格线1011和第一网孔1012。网格状电极的第二网孔103和第一网孔1012一一对应，且第二网孔103位于对应的第一网孔1012之内，即，第二网孔103在触控面板10所在面上的正投影位于对应的第一网孔1012在触控面板10所在面上的正投影之内。如图2所示，透明电极101覆盖非透明电极101，且透明电极101的面积大于非透明电极101的面积，即，透明电极101包括未覆盖非透明电极101的部分，该部分在触控面板10所在面上的正投影位于非透明电极101的第一网格线1011在触控面板10所在面上的正投影之外，即，透明电极101包括的未覆盖非透明电极101的部分拓宽了网格状电极的宽度，使得网格状电极的宽度不受第一网格线1011的宽度限制，触控电极100的面积增加，在形成触控电容时，该触控电容的电容量也增加，从而改善触控面板的触控功能。

例如，在本公开至少一个实施例中，非透明电极101的宽度不大于3微米。

在本公开至少一个实施例提供的触控面板中，非透明电极的电阻率小于透明电极的电阻率。例如，非透明电极的材料可以为金属或者金属合金，进一步的，非透明电极可以为金属或者金属合金形成的单层或多层结构。示例性的，非透明电极的材料可以为铜、铝、银、金、钛、钼等单质或者合金。例如，非透明电极为多层结构，其可以为钛-铝-钛、钛-钼-钛形式的叠层，例如钛-铝-钛形式的叠层可以为两层钛膜层夹置一层铝膜层形成。例如，透明电极的材料可以为氧化铟锡、氧化铟锌等材料。

需要说明的是，在本公开的实施例中，透明电极和非透明电极的位置关系需要使得透明电极可以拓宽网格状电极的网格线宽度。下面，通过几个具体的实施例，对透明电极和非透明电极的几种位置关系进行说明。

在本公开一些实施例提供的触控面板中，触控面板包括触控侧与触控侧背离的非触控侧，沿从非触控侧至触控侧的方向(该方向与垂直于触控面板所在面的方向平行，即，与空间直角坐标系中的Z轴平行)，非透明电极和透明电极依次排布。示例性的，如图2～图5所示，触控电极100位于基底20上，基底20的面向触控面板的触控侧设置触控电极100，透明电极102覆盖非透明电极101的第一网格线1011，即，非透明电极101位于透明电极102和基底20之间。

例如，在实际工艺中，可以在基底20上沉积非透明导电材料膜层，然后对该非透明导电材料膜层进行图案化处理以形成第一网格线1011，然后在形成有第一网格线1011的基底20上沉积透明导电材料膜层以覆盖第一网格线1011，然后对该透明导电材料膜层进行图案化处理以形成透明电极102。

在本公开的实施例中，图案化处理的工艺可以为光刻构图工艺。该光刻构图工艺可以包括：形成膜层，在该膜层上涂覆光刻胶，然后利用掩膜板对该光刻胶进行曝光，显影工艺后，剩余的光刻胶形成特定的光刻胶图案，利用该光刻胶图案对膜层进行刻蚀(湿刻或者干刻)，去掉膜层的未覆盖有光刻胶图案的部分，以使得膜层形成为目标结构(例如网格状电极)，然后去除光刻胶图案。需要说明的是，在膜层即为光刻胶材料的情况下，可以直接曝光、显影以获得目标结构。

例如，在本公开的一些实施例中，在非透明电极和透明电极从触控面板的非触控侧至触控侧依次排布的情况下，非透明电极在触控面板所在面上的正投影位于透明电极在触控面板所在面上的正投影之内。示例性的，如图2～图5所示，透明电极102的形状为网格状，透明电极102完全覆盖非透明电极101的第一网格线1011，网格状电极的第二网孔103(此处也是透明电极的网孔)实际是由透明电极102限定，网格状电极的第二网孔103位于非透明电极101的第一网孔1012之内，即，第二网孔103在触控面板所在面上的正投影位于第一网孔1012在触控面板所在面上的正投影之内。

在本公开另一些实施例提供的触控面板中，触控面板包括触控侧与触控侧背离的非触控侧，沿从非触控侧至触控侧的方向，透明电极和非透明电极依次排布。示例性的，如图6～图9所示，触控电极100a位于基底上，基底的面向触控面板的触控侧设置触控电极100a，非透明电极101a的第一网格线1011a位于透明电极102a的面向触控面板的触控侧的一侧，即，透明电极102a位于非透明电极101a的第一网格线1011a和基底之间。

例如，在实际工艺中，可以在基底上沉积透明导电材料膜层，然后对该透明导电材料膜层进行图案化处理以形成透明电极102a，然后在形成有透明电极102a的基底上沉积非透明导电材料膜层以覆盖透明电极102a，然后对该非透明导电材料膜层进行图案化处理以形成非透明电极101a的第一网格线1011a。

例如，在本公开的一些实施例中，在透明电极和非透明电极从触控面板的非触控侧至触控侧依次排布的情况下，非透明电极在触控面板所在面上的正投影位于透明电极在触控面板所在面上的正投影之内。示例性的，如图6～图9所示，透明电极102a的形状为网格状，透明电极102a完全覆盖非透明电极101a的第一网格线1011a，网格状电极的第二网孔103a(此处也是透明电极的网孔)实际是由透明电极102a限定，网格状电极的第二网孔103a位于非透明电极101a的第一网孔1012a之内，即，第二网孔10a3在触控面板所在面上的正投影位于第一网孔1012a在触控面板所在面上的正投影之内。

在本公开另一些实施例提供的触控面板中，非透明电极和透明电极同层且位于透明电极第一网格线的第一网孔中。示例性的，如图10～图13所示，触控电极100b位于基底上，基底的面向触控面板的触控侧设置触控电极100b，非透明电极101b的第一网格线1011b和透明电极102b同层设置，透明电极102b位于非透明电极101b的第一网格线1011b的两侧。

例如，在实际工艺中，可以在基底上沉积透明导电材料膜层，然后对该透明导电材料膜层进行图案化处理以形成透明电极102b，透明电极102b中形成有网格状的凹槽，然后在形成有透明电极102b的基底上沉积非透明导电材料膜层以覆盖透明电极102b，非透明导电材料膜层填充凹槽，然后对该非透明导电材料膜层进行图案化处理，去除非透明导电材料膜层的位于凹槽之外的部分，非透明导电材料膜层的位于凹槽中的部分形成非透明电极101b的第一网格线1011b；或者，可以在基底上沉积透明非导电材料膜层，然后对该非透明导电材料膜层进行图案化处理以形成非透明电极101b的第一网格线1011b，然后在形成有非透明电极101b的第一网格线1011b的基底上沉积透明导电材料膜层以覆盖非透明电极101b的第一网格线1011b，然后对该透明导电材料膜层进行图案化处理，其中额外去除透明导电材料膜层的覆盖第一网格线1011b的部分，透明导电材料膜层剩余的部分形成透明电极102b。

例如，在本公开的一些实施例中，在非透明电极和透明电极同层且透明电极位于第一网格线的第一网孔中的情况下，透明电极包括在每个第一网孔中设置的环状电极。示例性的，如图10～图13所示，透明电极102b包括阵列排布的多个环状电极，环状电极和非透明电极101b的第一网孔1012b一一对应，即，环状电极位于非透明电极101b的第一网孔1012b之内。如此非透明电极101b的第一网格线1011b限定了环状电极的外边界，环状电极的外边界即为非透明电极101b的第一网孔1011b的边界，环状电极限定了网格状电极的第二网孔103b(此处也是透明电极的网孔)。

在本公开另一些实施例提供的触控面板中，透明电极和/或非透明电极包括至少两个膜层，以使得网格状电极为至少三个膜层构成的叠层。例如，透明电极包括第一子透明电极层和第二子透明电极层，非透明电极位于第一子透明电极层和第二子透明电极层之间。示例性的，如图14～图17所示。非透明电极101c的第一网格线1011c位于透明电极102c的第一子透明电极层1021c和第二子透明电极层1022c之间。

例如，在实际工艺中，可以在基底上沉积第一透明导电材料膜层，然后对该第一透明导电材料膜层进行图案化处理以形成第一子透明电极层1021c；然后在形成第一子透明电极层1021c的基底上沉积非透明导电材料膜层以覆盖第一子透明电极层1021c，然后对该非透明导电材料膜层进行图案化处理以形成非透明电极101c的第一网格线1011c；然后，在形成有第一网格线1011c的基底上沉积第二透明导电材料膜层，第二透明导电材料膜层覆盖第一网格线1011c，然后对该第二透明导电材料膜层进行图案化处理以形成第二子透明电极层1022c，第二子透明电极层1022c覆盖第一网格线1011c。

例如，在本公开的一些实施例中，在非透明电极位于第一子透明电极层和第二子透明电极层之间的情况下，非透明电极在触控面板所在面上的正投影位于第一子透明电极层和第二子透明电极层中的任一个在触控面板所在面上的正投影之内。示例性的，如图14～图17所示，透明电极102c的第一子透明电极层1021c和第二子透明电极层1022c的形状都为网格状，非透明电极101c的第一网格线1011c在触控面板上的正投影位于第一子透明电极层1021c在触控面板上的正投影之内，且非透明电极101c的第一网格线1011c在触控面板上的正投影位于第二子透明电极层1022c在触控面板上的正投影之内。例如，第一子透明电极层1021c在触控面板上的正投影和第二子透明电极层1022c在触控面板上的正投影重合。如此，网格状电极的第二网孔103c(此处也是透明电极的网孔)实际是由第一子透明电极层1021c和第二子透明电极层1022c限定，网格状电极的第二网孔103c位于非透明电极101c的第一网孔1012c之内，即，第二网孔103c在触控面板所在面上的正投影位于第一网孔1012c在触控面板所在面上的正投影之内。

在本公开的实施例中，对触控电极形成触控电容的方式不做限制，可以根据实际需要进行设计。下面，通过几个具体的示例，对可适用于本发明的几种触控电极的结构进行说明。

在本公开至少一个实施例提供的触控面板中，触控电极包括并列的多条第一电极和并列的多条第二电极，第一电极和第二电极彼此交叉以限定多个触控单元。第一电极和第二电极中的至少一个设置为网格状电极。例如，进一步的，第一电极和第二电极中的至少一个设置为网格状电极(具体可以参见图23所示的下述实施例中的相关描述)。例如，第一电极和第二电极之一为驱动电极，第一电极和第二电极之另一为感应电极。如此，第一电极和第二电极在交叉处会形成电容，在第一电极和第二电极被施加电压之后，第一电极和第二电极中的电容充电以具有电容值，如果外物(例如手指)在触摸触控面板时靠近该交叉处，第一电极和/或第二电极会与外物形成新的电容，从而引起第一电极和第二电极的电压浮动，导致第一电极和第二电极形成的电容的电容值变化，通过确定电容值发生变化的电容的位置，即可确定外物的触摸位置。在上述过程中，第一电极和第二电极形成的电容的电容量有一定的要求，如果该电容的电容量过小，会无法实现触控检测。与第一电极和/或第二电极设置为仅包括非透明电极的情况相比，在第一电极和/或第二电极设置为具有上述网格状电极之后，第一电极和/或第二电极的网格线的宽度增加，从而第一电极和第二电极形成的电容的电容量增加，从而解决电容量不足的问题。

示例性的，如图18和图19所示，触控电极100的第一电极110和第二电极120彼此交叉以形成多个触控单元1000。例如，第一电极110和第二电极120之一为驱动电极，第一电极110和第二电极120之另一为感应电极，驱动电极和感应电极交叉的区域可以形成触控电容。在实际应用中，可以向驱动电极施加扫描信号，如果用户的手指靠近该交叉点，驱动电极或者感应电极和用户的手指(或者手指指纹的脊和谷)之间会形成寄生电容，该寄生电容会引起触控电容的电压浮动，即驱动电极和感应电极交叉点处形成的触控电容的电容值会发生改变，通过检测电压发生改变的感应电极，可以确定电容值发生变化的触控电容的位置，即可定位触摸位置(或者指纹的脊和谷的位置)，从而实现触控(例如指纹识别)。

在本公开一些实施例提供的触控面板中，第一电极和第二电极位于不同层，触控电极还包括位于第一电极和第二电极之间的第一绝缘层。示例性的，如图18和图19所示，第一电极110和第二电极120之间设置有第一绝缘层210，第一电极110和第二电极120的交叉处形成触控电容，该触控电容的检测范围可以界定触控单元1000的范围。

需要说明的是，在触控面板中划分触控单元时，通常将触控面板的整个触控功能区都划分为触控单元，而触控单元的区域划分实际是对感应区域的界定，例如，可以根据该区域的触控灵敏度划分该区域属于哪个触控单元。例如，在相邻的第一触控电容和第二触控电容之间的一个区域，如果在被触控(例如用户的手指靠近)时，第一触控电容的电容值的变化率大于第二触控电容的电容值的变化率，那么该区域可以划分为第一触控电容所对应的触控单元中。如此，触控单元的边界实际上可能比触控电容所占的面积更大，本领域人员应当知晓的是，电容的检测范围通常会大于触控电容所占的面积，因此，即便是电容周边的区域仍可以算作该触控电容的检测区域，即，该电容及其周边的一些区域可以限定为一个触控单元。如图18所示，触控单元1000的面积实际大于第一电极110和第二电极120的重叠区域的面积。

例如，第一绝缘层的材料可以包括氧化硅、氮化硅、氧氮化硅等无机材料，以利用无机材料的致密性高这一特点提高触控面板的封装效果。需要说明的是，第一绝缘层的材料可以根据实际需要进行选择，可以不限于上述材料，例如，第一绝缘层也可以选择有机材料例如树脂等，使得触控面板的可弯折能力提高，可以应用于柔性触控领域(例如具有触控功能的柔性显示装置)。

在本公开另一些实施例提供的触控面板中，第一电极和第二电极同层，第一电极在与第二电极的交叉处断开，触控电极还包括导电桥和第二绝缘层。导电桥位于第一电极和第二电极的交叉处，断开的第一电极通过导电桥连接。第二绝缘层位于第二电极和导电桥之间，第二绝缘层包括过孔，导电桥通过过孔与第一电极连接。示例性的，如图20和图21所示，触控电极100d的第一电极110d和第二电极120d位于同一层，第一电极110d和第二电极120d所在层和导电桥130d之间设置有第二绝缘层220d。第一电极110d在与第二电极120d的交叉处断开，断开的第一电极110d通过设置在第二绝缘层220d中的过孔与导电桥130d连接，如此，第一电极110d和第二电极120d可以同层且同材料构成，即，第一电极110d和第二电极120d可以由同一导电材料膜层经同样的图案化处理形成。

例如，在本公开至少一个实施例中，导电桥设置为网格状电极。如此，可以增加导电桥的透光率，并且降低导电桥被视觉可见的风险，从而提高触控面板的视觉效果。

例如，在本公开一些实施例中，导电桥位于第一电极和第二电极所在层的面向触控面板的触控侧的一侧。示例性的，如图20和图21所示，触控电极100d位于基底上，导电桥130d位于第一电极110d(第二电极120d)的背离基底的一侧。

例如，在实际工艺中，可以在基底上沉积导电材料膜层，然后对该导电材料膜层进行图案化处理以形成网格状的第一电极110d和第二电极120d；然后在基底上沉积第二绝缘层220d，第二绝缘层220d覆盖第一电极110d和第二电极120d，对第二绝缘层220d进行图案化处理以在第二绝缘层220d中形成暴露第一电极110d的过孔；然后，在第二绝缘层220d上沉积另一导电材料膜层，该另一导电材料膜层通过过孔与第一电极110d连接，对该另一导电材料膜层进行图案化处理后，形成如图21所示的导电桥130d，导电桥130d将断开的第一电极110d连接起来。

在本公开另一些实施例中，第一电极和第二电极所在层位于导电桥的面向触控面板的触控侧的一侧。示例性的，如图22所示，触控电极位于基底上，导电桥130e位于第一电极110e(第二电极120e)的面向基底的一侧。

例如，在实际工艺中，可以在基底上沉积导电材料膜层，然后对该导电材料膜层进行图案化处理以形成导电桥130e；然后在基底上沉积第二绝缘层220e，第二绝缘层220e覆盖导电桥130e，对第二绝缘层220e进行图案化处理以在第二绝缘层220e中形成暴露导电桥130e的过孔；然后，在第二绝缘层220e上沉积另一导电材料膜层，该另一导电材料膜层通过过孔与导电桥130e连接，对该另一导电材料膜层进行图案化处理后，形成如图22所示的第一电极110e和第二电极120e，导电桥130e将断开的第一电极110e连接起来。

在本公开的实施例中，第一电极、第二电极和导电桥可以设置为前述实施例中的网格电极，下面，在一个具体的示例中，对此情况下的第一电极、第二电极和导电桥的位置关系进行说明。

如图20、图23和图24所示，在一个触控单元1000中，第一电极110d断开为两个第一子电极111d、112d，第二电极120d包括两个彼此连接的第二子电极121d、122d，第一电极110d和第二电极120d都设置为了上述实施例(如图2～图17所示的实施例)所示的网格状电极，第一子电极111d、112d以及第二子电极121d、122d都设置为了网格状电极。导电桥130d也设置为了网格状电极，例如，导电桥130d的网孔大小和第一电极110d(第二电极120d)的网孔大小一致。在实际工艺中，在形成触控电极时，可以形成一个完整的网格电极，然后对该网格电极的网格线进行选择性断开，以形成第一电极110d和第二电极120d，如此，可以使得触控电极各处的透光率一致，此外，导电桥130d可以和网格电极的网格线重叠，使得导电桥130d的设置不会阻挡光线的出射，如此，在视觉效果上，触控面板的出光均匀度高。

网格电极130d包括与第一电极110d连接的多个连接点131a～131h，连接点131a对应于网格线L1和网格线H2的交叉点，连接点131b对应于网格线L2和网格线H2的交叉点，连接点131c对应于网格线L1和网格线H1的交叉点，连接点131d对应于网格线L2和网格线H1的交叉点，连接点131e对应于网格线L3和网格线H2的交叉点，连接点131f对应于网格线L4和网格线H2的交叉点，连接点131g对应于网格线L3和网格线H2的交叉点，连接点131h对应于网格线L4和网格线H1的交叉点。

如图23所示，在每个触控单元中，在由一个完整的网格电极形成第一电极110d和第二电极120d的情况下，可以在第一电极110d和第二电极120d之间形成虚设电极140，以避免第一电极110d和第二电极120d距离过近。虚设电极140也具有网格形状，从而保证触控面板的出光均匀度。

在本公开的实施例中，对触控单元的尺寸不做限制，触控单元的尺寸和待检测的目标对象的尺寸有关。例如，仅仅是用于检测手指触摸位置，触控单元可以设置为具有较大的设计尺寸，例如触控单元的尺寸不小于400微米；如果用于检测手指的指纹，触控单元可以设置为具有较小的设计尺寸，例如触控单元的尺寸不大于100微米。

例如，在本公开的一些实施例中，可以将触控单元的尺寸设置为大小一致，从而减小触控面板的设计难度。例如，触控面板只需要对手指位置进行识别，触控单元统一设置为较大的尺寸，以降低设计难度和制造工艺成本；例如，触控面板需要具有指纹识别功能，触控单元统一设置为具有较小的尺寸，可以使得触控面板的整个触控功能区都具有指纹识别功能。

例如，在本公开另一些实施例提供的触控面板中，触控面板包括触控功能区，触控电极位于触控功能区，触控功能区包括第一区域和第二区域。第一区域中的触控单元的面积小于第二区域中的触控单元的面积。与第二区域相比，第一区域的触控单元的面积小，从而可以对更小的物体进行检测(定位)。例如，以手指为例，第二区域只能检测手指的触摸位置，第一区域既可以检测手指的触摸位置，又可以检测手指的谷和脊的位置，从而具有指纹识别功能，如此，可以尽量减小触控面板的加工工艺的难度和成本。用于指纹识别的触控单元的面积非常小(例如宽度可以不大于100微米)，这限制了触控单元中的触控电极的设计面积，使得触控电极形成的触控电容的电容量过小，导致触控功能难以提升。而本发明设计的网格状电极可以解决该技术问题，在保证不增加网格状电极被视觉可见的风险的情况下，增加了网格状电极形成的触控电容的电容量。示例性的，如图25所示，触控面板的触控功能区11包括第一区域13和第二区域14，例如，第一区域13中的触控单元的尺寸(例如宽度、长度)小于第二区域14中的触控单元的尺寸。例如，第一区域13中的触控电极可以单独制备且单独驱动，防止第一区域13和第二区域14中的触控功能之间的干扰。

在本公开至少一个实施例提供的触控面板中，触控面板还包括显示面板。触控电极位于显示面板的出光侧。示例性的，如图26所示，触控面板的触控结构40和显示面板30层叠设置，触控结构40位于显示面板30的出光侧。触控结构40可以包括上述实施例中的触控电极以及第一绝缘层、第二绝缘层等结构。

例如，在本公开至少一个实施例中，显示面板包括显示区，显示区中设置有多个子像素，触控面板中的触控电极的网格状电极(其中的网格线)在触控面板所在面上的正投影位于相邻子像素之间的间隔区域在触控面板所在面上的正投影之内。如此，网格状电极不会阻挡组子像素出射的光，从而提高包括显示面板的触控面板的出光亮度。示例性的，如图27和图28所示，显示面板30的显示区包括多个子像素31，相邻的子像素31之间存在间隔区域32，触控电极100的网格线和该间隔区域32对应，即，触控电极100的网格线在触控面板所在面上的正投影位于间隔区域32在触控面板所在面上的正投影之内。例如，触控电极的第一电极110d和第二电极120d都设置为了网格状电极，该网格状电极的网格线在触控面板所在面上的正投影位于间隔区域32在触控面板所在面上的正投影之内。需要说明的是，触控电极100的网格线在触控面板所在面上的正投影位于间隔区域32在触控面板所在面上的正投影之内，包括了触控电极100的网格线在触控面板所在面上的正投影位于间隔区域32在触控面板所在面上的正投影重合这一情况。

在本公开一些实施例中，显示面板的子像素可以设置为发出单一光线例如白光、蓝光等，如此，在显示面板的出光侧设置彩膜，以使得显示面板可以实现彩色显示。例如，该彩膜可以设置在触控面板的触控侧，即，彩膜位于触控电极的背离显示面板的一侧。

在本公开的另一些实施例中，显示面板可以包括多个像素，每个像素包括可以发出不同颜色光的子像素31，例如，图27所示的显示面板的像素包括三个子像素31，该三个子像素31分别发出红(R)、绿(G)、蓝(B)三种颜色的光线。在本公开的实施例中，对子像素31的排布方式不做限制，可以根据实际需要进行设计，例如，每个像素中的子像素31可以如图27所示呈现行、列排布，也可以呈现三角形排布。

在本公开至少一个实施例中，如图28所示，显示面板30包括阵列基板21和显示功能层，显示功能层包括像素界定层22和发光器件23，像素界定层22中设置有多个开口，发光器件23形成在该开口中，每个发光器件23可以用于形成一个子像素。例如，发光器件23包括依次层叠在阵列基板21上的阳极231、发光功能层233和阴极232。发光功能层233包括发光层，还可以进一步包括空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层等。

阳极的区域通常是大于子像素(发光区域)的面积的。例如，在本公开至少一个实施例中，网格电极的网格线在触控面板所在面上的正投影位于相邻阳极的间隔区域在触控面板所在面上的正投影之内。

例如，阵列基板包括衬底和驱动电路层，驱动电路层可以包括像素驱动电路，在每个子像素中，像素驱动电路包括多个晶体管、电容等，例如形成为2T1C(即2个晶体管(T)和1个电容(C))、3T1C或者7T1C等多种形式。像素驱动电路与发光器件连接，以控制发光器件的开关状态以及发光亮度。

在本公开至少一个实施例中，显示面板还可以包括封装层，封装层覆盖发光器件以至少对发光器件进行保护。示例性的，如图28所示，显示面板30的封装层24位于显示功能层的背离阵列基板21的一侧，封装层24覆盖发光器件23以对发光器件23和阵列基板21进行封装，防止外界水、氧等侵入发光器件23和阵列基板21的内部。

例如，封装层可以为单层结构，也可以为至少两层的复合结构。例如，封装层的材料可以包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、高分子树脂等绝缘材料。例如，封装层可以包括依次设置在发光器件上的第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。例如，第一无机封装层和第二无机封装层的材料可以包括无机材料，例如氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等，无机材料的致密性高，可以防止水、氧等的侵入；例如，有机封装层的材料可以为含有干燥剂的高分子材料或可阻挡水汽的高分子材料等，例如高分子树脂等以对显示基板的表面进行平坦化处理，并且可以缓解第一无机封装层和第二无机封装层的应力，还可以包括干燥剂等吸水性材料以吸收侵入内部的水、氧等物质。

在本公开的一些实施例中，包括触控电极的触控结构可以通过贴附的方式设置在显示面板的显示侧。

在本公开的另一些实施例中，可以在显示面板上直接制备触控结构中的触控电极等结构，从而可以减小触控面板的设计厚度，有利于触控面板的轻薄化设计。例如，前述实施例中触控面板所包括的基底可以为显示面板。示例性的，如图28所示，触控电极100形成在封装层24上。

需要说明的是，在触控电极时在封装层上制备的前提下，为避免制备触控电极的工艺损坏封装层的封装效果，可以在封装层先形成一层缓冲层，然后在缓冲层上制备触控电极。示例性的，如图28所示，触控电极400和封装层24之间设置有缓冲层140。

例如，缓冲层可以为氧化硅、氮化硅、氧氮化硅等无机材料形成的膜层，无机材料的致密性高，也可以进一步提升对显示面板的封装效果。例如，缓冲层可以进一步设置为平坦化层，从而提高保证触控电极(例如导电桥、第一电极和第二电极)的厚度均一性，提高触控效果。

本公开至少一个实施例提供一种触控显示装置，该触控显示装置包括上述实施例中的触控面板。例如，在本公开的实施例中，如图26所示，触控装置还包括柔性电路板50以及设置在柔性电路板50上的控制芯片60。触控面板中的显示面板30包括邦定区(Bonding)，邦定区中设置有端子与柔性电路板连接的端子，在通过邦定工艺将柔性电路板50固定在邦定区之后，可以通过控制芯片60控制触控面板的各项功能。

在本公开的实施例中，控制芯片可以为中央处理器、数字信号处理器、单片机、可编程逻辑控制器等。例如，控制芯片还可以包括存储器，还可以包括电源模块等，且通过另外设置的导线、信号线等实现供电以及信号输入输出功能。例如，控制芯片还可以包括硬件电路以及计算机可执行代码等。硬件电路可以包括常规的超大规模集成(VLSI)电路或者门阵列以及诸如逻辑芯片、晶体管之类的现有半导体或者其它分立的元件；硬件电路还可以包括现场可编程门阵列、可编程阵列逻辑、可编程逻辑设备等。

例如，在本公开至少一个实施例提供的触控显示装置中，触控面板的触控侧(显示侧)还可以设置分光元件(例如分光光栅等)，使得触控显示装置可以具有三维显示功能。

例如，本公开的实施例中的触控显示装置可以为电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种触控面板，其特征在于，包括触控电极，所述触控电极的至少部分设置为网格状电极，其中，

所述网格状电极包括彼此连接的非透明电极和透明电极，所述非透明电极为网格结构，所述网格结构包括第一网格线和第一网孔，以及

所述透明电极的至少部分在所述触控面板所在面上的正投影位于所述第一网格线在所述触控面板所在面上的正投影之外。

2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，

所述非透明电极的电阻率小于所述透明电极的电阻率。

3.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，

所述触控面板包括触控侧与所述触控侧背离的非触控侧，沿从所述非触控侧至所述触控侧的方向，所述非透明电极和所述透明电极依次排布，优选地，所述非透明电极在所述触控面板所在面上的正投影位于所述透明电极在所述触控面板所在面上的正投影之内；或者

所述触控面板包括触控侧与所述触控侧背离的非触控侧，沿从所述非触控侧至所述触控侧的方向，所述透明电极和所述非透明电极依次排布，优选地，所述非透明电极在所述触控面板所在面上的正投影位于所述透明电极在所述触控面板所在面上的正投影之内；或者

所述非透明电极和所述透明电极同层且所述透明电极位于所述第一网格线的所述第一网孔中，优选地，所述透明电极包括在每个所述第一网孔中设置的环状电极；或者

所述透明电极包括第一子透明电极层和第二子透明电极层，所述非透明电极位于所述第一子透明电极层和所述第二子透明电极层之间，优选地，所述非透明电极在所述触控面板所在面上的正投影位于所述第一子透明电极层和所述第二子透明电极层中的任一个在所述触控面板所在面上的正投影之内。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的触控面板，其特征在于，

所述触控电极包括并列的多条第一电极和并列的多条第二电极，所述第一电极和所述第二电极彼此交叉以限定多个触控单元，以及

所述第一电极和所述第二电极中的至少一个设置为所述网格状电极，优选地，所述第一电极和所述第二电极都设置为所述网格状电极。

5.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极位于不同层，所述触控电极还包括位于所述第一电极和所述第二电极之间的第一绝缘层。

6.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极同层，所述第一电极在与所述第二电极的交叉处断开，所述触控电极还包括：

导电桥，位于所述第一电极和所述第二电极的交叉处，断开的所述第一电极通过所述导电桥连接，优选地，所述导电桥设置为所述网格状电极；

第二绝缘层，位于所述第二电极和所述导电桥之间，所述第二绝缘层包括过孔，所述导电桥通过所述过孔与所述第一电极连接。

7.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，所述触控面板包括触控功能区，所述触控电极位于所述触控功能区，所述触控功能区包括第一区域和第二区域，以及

所述第一区域中的所述触控单元的面积小于所述第二区域中的所述触控单元的面积。

8.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，还包括：

显示面板，包括显示区，所述显示区中设置有多个子像素；

其中，所述触控电极位于所述显示面板的出光侧，所述网格状电极在所述触控面板所在面上的正投影位于相邻所述子像素之间的间隔区域在所述触控面板所在面上的正投影之内。

9.根据权利8所述的触控面板，其特征在于，所述显示面板包括：

显示功能层，包括位于每个所述子像素中的发光器件；

封装层，位于所述显示功能层的出光侧；

其中，所述触控电极位于所述封装层上。

10.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的触控面板。

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