CN113066943A

CN113066943A - 显示基板、显示面板及电子设备

Info

Publication number: CN113066943A
Application number: CN202110304917.0A
Authority: CN
Inventors: 何辉
Original assignee: Vivo Mobile Communication Co Ltd
Current assignee: Vivo Mobile Communication Co Ltd
Priority date: 2021-03-17
Filing date: 2021-03-17
Publication date: 2021-07-02
Anticipated expiration: 2041-03-17
Also published as: CN113066943B

Abstract

本申请实施例提供了一种显示基板、显示面板及电子设备。该显示基板包括依次层叠设置的衬底、像素界定层、阴极层以及封装层；封装层上设置有滤光膜层，滤光膜层用于滤除照射在封装层上的光线；像素界定层包括多个开口，每个开口中均设置有一个像素单元；阴极层包括第一区域以及第二区域，第一区域为像素单元在阴极层上的正投影重合的区域，第二区域为除第一区域之外的区域，第二区域设置为网格状。在本申请实施例中，通过在封装层上设置滤光膜层，通过滤光膜层滤除照射在封装层上的光线，并且将阴极层的第二区域设置为网格状，不仅可以增大显示基板的对比度，还可以提高显示基板的显示亮度。

Description

显示基板、显示面板及电子设备

技术领域

本申请涉及通信技术领域，具体涉及一种显示基板、显示面板及电子设备。

背景技术

随着科技的进步，电子设备已经成为人们日常生活中的常用物品。用户通过电子设备可以拍摄图像、观看视频。通常，电子设备包括显示面板，显示面板由盖板以及显示基板构成。相关技术中的显示基板的亮度较小，使得显示基板的显示效果较差。

申请内容

本申请实施例提供了一种显示基板、显示面板及电子设备，能够解决相关技术中显示基板的亮度较小，使得显示基板的显示效果较差的问题。

为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

本申请实施例提供了一种显示基板，所述显示基板包括依次层叠设置的衬底、像素界定层、阴极层以及封装层；

所述封装层上设置有滤光膜层，所述滤光膜层用于滤除照射在所述封装层上的光线；

所述像素界定层包括多个开口，每个所述开口中均设置有一个像素单元；

所述阴极层包括第一区域以及第二区域，所述第一区域为所述像素单元在所述阴极层上的正投影重合的区域，所述第二区域为除所述第一区域之外的区域，所述第二区域设置为网格状。

第二方面，本申请实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括盖板以及上述第一方面中所述显示基板；

所述盖板设置于所述滤光膜层上。

第三方面，本申请实施例提供了一种电子设备，所述电子设备包括上述第二方面中所述的显示面板。

在本申请实施例中，由于显示基板依次层叠设置的衬底、像素界定层、阴极层以及封装层，封装层上设置有滤光膜层，因此，在环境中的光线照射在显示基板上时，滤光膜层可以滤除照射在封装层上的光线，使得环境中的光线尽可能少的照射在阴极层上，从而降低环境中的光线在阴极层上的反射，使得显示基板的对比度增大。另外，由于通过滤光膜层滤除照射在封装层上的光线，从而避免使用偏光片，从而可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果。另外，将阴极层的第二区域设置为网格状，不仅可以使得第一区域相互连通，不影响阴极层的导通，还可以降低环境中光线穿过滤光膜层照射在阴极层上时，阴极层的反射效应，提高显示基板的显示效果。也即是，在本申请实施例中，通过在封装层上设置滤光膜层，通过滤光膜层滤除照射在封装层上的光线，并且将阴极层的第二区域设置为网格状，不仅可以增大显示基板的对比度，还可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果，进而提高显示面板的显示效果。

附图说明

图1表示相关技术中的一种显示基板中在一个像素单元处的截面图；

图2表示本申请实施例提供的一种像素单元与阴极层的示意图；

图3表示本申请实施例提供的一种阴极层的示意图；

图4表示本申请实施例提供的一种显示基板的示意图；

图5表示本申请实施例提供的一种像素单元的示意图；

图6表示本申请实施例提供的一种像素层的示意图；

图7表示本申请实施例提供的一种显示面板的示意图。

附图标记：

10：衬底；20：像素界定层；30：阴极层；40：封装层；50：滤光膜层；60：盖板；21：像素单元；22：支撑件；31：第一区域；32：第二区域；51：第三区域；52：第四区域；211：阳极；212：像素层；2121：空穴注入层；2122：空穴传输层；2123：电子阻挡层；2124：有机发光层；2125：空穴阻挡层；2126：电子传输层；2127：电子注入层。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。

在对本申请实施例提供的显示基板进行解释说明之前，先对本申请实施例提供的显示基板的应用场景做具体说明：参照图1，示出了相关技术中的一种显示基板中在一个像素单元处的截面图，如图1所示，该显示基板包括衬底10、像素单元21、阴极层30、封装层40以及偏光片。像素单元21、阴极层30以及偏光片依次层叠设置在衬底10上。其中，像素单元21包括阳极211以及像素层212，阳极211与像素层212层叠设置，且阳极211靠近衬底10，像素层212远离衬底10。像素层212包括依次层叠设置的空穴注入层2121、空穴传输层2122、电子阻挡层2123、有机发光层2124、空穴阻挡层2125、电子传输层2126以及电子注入层2127，空穴注入层2121靠近阳极211。

像素层212单元中的阳极211与阴极层30共同作用，使得像素层212发出光线进而产生像素。而环境中的光线会照射在阴极层30上，阴极层30对环境光中的光线反射，在环境中的光线照射在阴极层30之前，偏光片可以对环境光中的光线进行偏振作用，降低环境中的光线在阴极层30上的反射，从而使得显示基板的对比度增大。但由于偏振片的存在，使得显示基板的显示亮度降低，进而使得显示基板的显示效果较差。

参照图2，示出了本申请实施例提供的一种像素单元与阴极层的示意图，参照图3，示出了本申请实施例提供的一种阴极层的示意图，参照图4，示出了本申请实施例提供的一种显示基板的示意图，参照图5，示出了本申请实施例提供的一种像素单元的示意图，参照图6，示出了本申请实施例提供的一种像素层的示意图。如图2至图6所示，该显示基板依次层叠设置的衬底10、像素界定层20、阴极层30以及封装层40。

封装层40上设置有滤光膜层50，滤光膜层50用于滤除照射在封装层40上的光线。像素界定层20包括多个开口，一个开口中设置有一个像素单元21。阴极层30可以包括第一区域31以及第二区域32，第一区域31为与像素单元21在阴极层30上的正投影重合的区域，第二区域32为除第一区域31之外的区域，第二区域32设置为网格状。

在本申请实施例中，由于显示基板依次层叠设置的衬底10、像素界定层20、阴极层30以及封装层40，封装层40上设置有滤光膜层50，因此，在环境中的光线照射在显示基板上时，滤光膜层50可以滤除照射在封装层40上的光线，使得环境中的光线尽可能少的照射在阴极层30上，从而降低环境中的光线在阴极层30上的反射，使得显示基板的对比度增大。另外，由于通过滤光膜层50滤除照射在封装层40上的光线，从而避免使用偏光片，从而可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果。另外，将阴极层30的第二区域32设置为网格状，不仅可以使得第一区域31相互连通，不影响阴极层30的导通，还可以降低环境中光线穿过滤光膜层50照射在阴极层30上时，阴极层30的反射效应，提高显示基板的显示效果。也即是，在本申请实施例中，通过在封装层40上设置滤光膜层50，通过滤光膜层50滤除照射在封装层40上的光线，并且将阴极层30的第二区域32设置为网格状，不仅可以增大显示基板的对比度，还可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果。

需要说明的是，当阴极层30包括第一区域31以及第二区域32，第一区域31为与像素单元21在阴极层30上的正投影重合的区域，第二区域32为除第一区域31之外的区域，且第二区域32设置为网格状时，此时，在通过阴极层30向像素单元21提供电能时，与像素单元21对应的第一区域31可以正常导通，使得阴极层30的第一区域31可以向对应的像素单元21提供电能。第二区域32为网格结构，不仅可以使得第一区域31相互连通，不影响阴极层30的导通，还可以降低环境中光线穿过滤光膜层50照射在阴极层30上时，阴极层30的反射效应，进一步提高显示基板的对比度，提升显示基板的显示效果。也即是，通过将阴极层30的第二区域32设置为网格状，即未与像素单元21对应的区域设置为网格状，可以降低阴极层30对环境中光线的反射效应，提高显示基板的对比度，提高显示基板的显示效果。

另外，在本申请实施例中，第二区域32中的网格结构中的网线的宽度可以根据实际需要设定，例如，网线的宽度为1微米，对于网线的宽度，本申请实施例在此不做限定。网格中网线之间的间距可以根据实际需要设定，对此本申请实施例在此不做限定。另外，在本申请实施例中，网格结构中每一个网格的形状可以根据实际需要设定，例如，网格结构中网格的形状为四方形，还可以为圆形，还可以为多边形，对此，本申请实施例在此不做限定。

另外，在本申请实施例中，在将阴极层30的第二区域32设置为网格结构时，可以首先在阴极层30涂覆一层光阻，之后进行曝光，蚀刻，显影工艺，使得第二区域32成为网格结构。需要说明的是，在通过曝光，蚀刻，显影工艺对阴极层30进行设置时，阴极层30的第一区域31可以保持不变，即第一区域31可以为板式结构，第一区域31中未有任何网格或通孔，只对第二区域32进行设置。

需要说明的是，在本申请实施例中，通过在封装层40上设置滤光膜层50，从而替代相关技术中的偏光片，使得显示基板的显示亮度以及显示效果均被提高。

当显示基板包括封装层40时，此时，封装层40可以对阴极层30起到保护作用，避免环境中的水、氧气等与阴极层30接触，对阴极层30产生影响。也即是，通过设置封装层40，可以对阴极层30等起到保护作用，延长显示基板的使用寿命。

另外，在本申请实施例中，封装层40的厚度可以根据实际需要设定，例如，封装层40的厚度可以为1微米，对于封装层40的厚度，本申请实施例在此不做限定。另外，可以通过封装工艺在滤光膜层50上设置封装层40。

在相关技术中，偏光片的厚度通常为100微米，使得显示基板的厚度较大。而在本申请实施例中，滤光膜层50的厚度可以为1微米，通过设置滤光膜层50，替代滤光膜层50，从而可以降低显示基板的厚度，进而使得将显示基板应用至电子设备时，还可以降低电子设备的厚度。

另外，滤光膜层50的厚度为1微米，即可以在现有的工艺技术许可范围内，尽可能的使滤光膜层50的较薄，降低显示基板的厚度，使得在现有的工艺技术许可范围内，加工显示基板，并且加工的显示基板的厚度较小。

需要说明的是，在本申请实施例中，滤光膜层50的厚度还可以为其它小于100微米的数值，例如，滤光膜层50的厚度为10微米，对此，本申请实施例在此不做限定。

另外，在本申请实施例中，滤光膜层50的材质可以参考现有技术中液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)中彩膜的材质，在此不再赘述。

另外，在本申请实施例中，像素界定层20、阴极层30以及封装层40依次层叠设置在衬底10上。

另外，在一些实施例中，如图4所示，像素单元21可以包括依次层叠设置的阳极211、像素层212，阳极211与阴极层30共同向像素层212提供电能，以使像素层212发光。

当像素单元21包括依次层叠设置的阳极211、像素层212时，此时，阳极211可以与阴极层30共同作用向像素层212提供电能，像素层212在接收到电能时，像素层212便可以发出光线。

需要说明的是，阳极211与阴极层30的第三区域51共同作用，以对像素层212提供电能，使得像素层212发光。

另外，在本申请实施例中，如图5和图6所示，像素层212可以包括依次层叠设置的依次层叠设置的空穴注入层2121、空穴传输层2122、电子阻挡层2123、有机发光层2124、空穴阻挡层2125、电子传输层2126以及电子注入层2127，空穴注入层2121靠近阳极211。

另外，在一些实施例中，如图4所示，滤光膜层50可以包括第三区域51以及第四区域52，第三区域51为与像素单元21在滤光膜层50上的正投影重合的区域，第四区域52为除第三区域51之外的区域，且第四区域52设置为挖空区域。

当滤光膜层50包括第三区域51以及第四区域52，第三区域51为与像素单元21在滤光膜层50上的正投影重合的区域，第四区域52为处第三区域51之外的区域，且第四区域52为挖空区域时，此时，在环境中的光线照射在滤光膜层50上时，第三区域51的滤光膜层50可以将环境光中的光线滤除，环境中的光线可以直接照射在滤光膜层50之下的阴极层30上，使得阴极层30对该环境中的光线反射，使得显示基板的显示效果较好。并且，将滤光膜层50第四区域52设置为挖空区域，还可以减小显示基板的重量，使得显示基板的重量较小。

另外，在本申请实施例中，在阴极层30上设置滤光膜层50时，可以直接在阴极层30上涂布一层滤光膜材料，即通过涂布的方式将滤光膜材料设置在阴极层30上，滤光膜材料便可以形成滤光膜层50。在将滤光膜层50的第四区域52设置为挖空区域时，可以通过曝光，显影，蚀刻工艺将第四区域52的滤光膜材料去除，使得第四区域52为挖空区域，但保留第三区域51的滤光膜材料。

另外，在本申请实施例中，当阴极层30包括第一区域31以及第二区域32，且第二区域32设置为网格结构，此时，滤光膜层50的第四区域52可以设置为挖空区域。在这种情况下，即阴极层30的第二区域32为网格结构，滤光膜层50的第四区域52为挖空区域，显示基板的显示效果更好。另外，在本申请实施例中，第一区域31的面积与第三区域51的面积相等，第二区域32的面积与第四区域52的面积相等。

另外，在本申请实施例中，第三区域51的颜色与第三区域51对应的像素单元21的像素颜色相同。

通常不同的像素单元21的像素颜色不同，像素单元21的像素颜色可以为基本的三原色，即红色、蓝色和绿色，此时，当第三区域51的颜色与第三区域51对应的像素单元21的像素颜色相同时，即像素单元21的像素颜色为红色时，对应的第三区域51的颜色为红色，像素单元21的像素颜色为蓝色时，对应的第三区域51的颜色为蓝色，像素单元21的像素颜色为绿色时，对应的第三区域51的颜色为绿色。在环境中的光线照射在滤光膜层50时，此时，环境中的光线被滤光膜层50滤除，即环境中的光线中红光可以穿过第三区域51为红色的滤光膜层50，之后照射在阴极层30上，被阴极层30反射，反射的光线中部分红光重新穿过第三区域51为红色的滤光膜，回到环境中，反射的光线中另外部分红光被第三区域51为其它颜色的滤光膜层50吸收，环境中的光线中其它颜色的光线被第三区域51为红色的滤光膜层50滤除。

同理，环境中的光线中蓝光可以穿过第三区域51为蓝色的滤光膜层50，之后照射在阴极层30上，被阴极层30反射，反射的光线中部分蓝光重新穿过第三区域51为蓝色的滤光膜，回到环境中，反射的光线中另外部分蓝光被第三区域51为其它颜色的滤光膜层50吸收，环境中的光线中其它颜色的光线被第三区域51为蓝色的滤光膜层50滤除。环境中的光线中绿光可以穿过第三区域51为绿色的滤光膜层50，之后照射在阴极层30上，被阴极层30反射，反射的光线中部分绿光重新穿过第三区域51为绿色的滤光膜，回到环境中，反射的光线中另外部分绿光被第三区域51为其它颜色的滤光膜层50吸收，环境中的光线中其它颜色的光线被第三区域51为绿色的滤光膜层50滤除。从而使得显示基板的对比度增大，显示基板的亮度增大。

也即是，通过设置第三区域51的颜色与第三区域51对应的像素单元21的像素颜色相同，可以增大显示基板的对比度和亮度。

另外，在一些实施例中，如图4所示，像素界定层20包括多个像素界定部，像素界定部位于相邻两个像素单元21之间，所述像素界定部上设置有支撑件22。

当像素界定层20包括多个像素界定部，像素界定部上设置有支撑件22时，此时，支撑件22可以对阴极层30进行支撑，使得阴极层30可以较为平整，有利于设置阴极层30。即通过设置支撑件22，便于设置阴极层30。

需要说明的是，当阴极层30包括第一区域31以及第二区域32、第二区域32设置为网格结构，滤光膜层50包括第三区域51和第四区域52，第四区域52设置为挖空区域时，此时，可以将支撑件22设置为黑色，在环境中的光线可以穿过第四区域52以及第二区域32时，穿过第四区域52以及第二区域32的光线可以被支撑件22吸收，避免显示基板在第四区域52以及第二区域32出现反射，进而提高显示基板的对比度以及亮度。

另外，在本申请实施例中，支撑件22可以为支撑柱(Photo Spacer，PS)。

需要说明的是，在本申请实施例中，显示基板可以为有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light-emitting diode，AMOLED)，当然，还可以为有机发光二极管(Organic light-emitting diode，OLED)。对此，本申请实施例在此不做限定。

另外，在本申请实施例中，阴极层30的厚度可以为100埃

当阴极层30的厚度为100埃时，此时，阴极层30的厚度较小，且阴极层30阴极层30可以透光，也可以反光，也即是，将阴极层30的厚度设置为100埃，不仅可以使得阴极层30的厚度较小，还可以确保阴极层30实现透光的效果。当然，阴极层30的厚度还可以为其它数值，比如150埃，对此，本申请实施例在此不做限定。

参照图7，示出了本申请实施例提供了一种显示面板的示意图，如图7所示，该显示面板包括盖板60以及上述实施例中任一实施例中的显示基板。盖板60设置于滤光膜层50上。

在本申请实施例中，由于显示基板依次层叠设置的衬底10、像素界定层20、阴极层30以及封装层40，封装层40上设置有滤光膜层50，因此，在环境中的光线照射在显示基板上时，滤光膜层50可以滤除照射在封装层40上的光线，使得环境中的光线尽可能少的照射在阴极层30上，从而降低环境中的光线在阴极层30上的反射，使得显示基板的对比度增大。另外，由于通过滤光膜层50滤除照射在封装层40上的光线，从而避免使用偏光片，从而可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果。另外，将阴极层30的第二区域32设置为网格状，不仅可以使得第一区域31相互连通，不影响阴极层30的导通，还可以降低环境中光线穿过滤光膜层50照射在阴极层30上时，阴极层30的反射效应，提高显示基板的显示效果。也即是，在本申请实施例中，通过在封装层40上设置滤光膜层50，通过滤光膜层50滤除照射在封装层40上的光线，并且将阴极层30的第二区域32设置为网格状，不仅可以增大显示基板的对比度，还可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果，进而提高显示面板的显示效果。

本申请实施例提供了一种电子设备，该电子设备包括上述实施例中的显示面板。

在本申请实施例中，由于显示基板依次层叠设置的衬底10、像素界定层20、阴极层30以及封装层40，封装层40上设置有滤光膜层50，因此，在环境中的光线照射在显示基板上时，滤光膜层50可以滤除照射在封装层40上的光线，使得环境中的光线尽可能少的照射在阴极层30上，从而降低环境中的光线在阴极层30上的反射，使得显示基板的对比度增大。另外，由于通过滤光膜层50滤除照射在封装层40上的光线，从而避免使用偏光片，从而可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果。另外，将阴极层30的第二区域32设置为网格状，不仅可以使得第一区域31相互连通，不影响阴极层30的导通，还可以降低环境中光线穿过滤光膜层50照射在阴极层30上时，阴极层30的反射效应，提高显示基板的显示效果。也即是，在本申请实施例中，通过在封装层40上设置滤光膜层50，通过滤光膜层50滤除照射在封装层40上的光线，并且将阴极层30的第二区域32设置为网格状，不仅可以增大显示基板的对比度，还可以提高显示基板的显示亮度，提高显示基板的显示效果，进而提高显示面板的显示效果，使得电子设备的显示效果更好，提高用户体验。

需要说明的是，在本申请实施例中，电子设备包括但不限于手机、笔记本电脑、可穿戴智能设备、计步器等。

需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

尽管已描述了本申请实施例的可选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括可选实施例以及落入本申请实施例范围的所有变更和修改。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体与另一个实体区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。

以上对本申请所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，同时，对于本领域的一般技术人员，依据本申请的原理及实现方式，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括依次层叠设置的衬底、像素界定层、阴极层以及封装层；

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层包括多个像素界定部，所述像素界定部位于相邻两个所述像素单元之间，所述像素界定部上设置有支撑件。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素单元包括依次层叠设置的阳极、像素层，所述阳极与所述阴极共同向所述像素层提供电能，以使所述像素层发光。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述滤光膜层包括第三区域以及第四区域，所述第三区域为所述像素单元在所述滤光膜层上的正投影重合的区域，所述第四区域为除所述第三区域之外的区域，且所述第四区域设置为挖空区域。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第三区域的颜色与所述第三区域对应的像素单元的像素颜色相同。

6.根据权利要求1-5中任一所述的显示基板，其特征在于，所述阴极层的厚度为100埃。

7.根据权利要求1-5中任一所述的显示基板，其特征在于，所述阴极层的材质为功函数小于预设值的金属，其中，所述功函数为将金属中一个电子从金属内部刚刚移到金属表面所需的最少的能量。

8.根据权利要求1-5中任一所述的显示基板，其特征在于，所述滤光膜层的厚度为1微米。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括盖板以及权利要求1-8中任一所述显示基板；

所述盖板设置于所述滤光膜层上。

10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求9所述的显示面板。