CN113054147A - 掩膜板、显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种掩膜板、显示面板及其制备方法，掩膜板包括掩膜板，通过使用遮挡片挡住相邻行子像素与列子像素之间的间隔，使得在蒸镀的过程中子像素之间的空穴传输层的材料被间隔开，或使用激光将相邻所述子像素之间的像素限定层的上方的空穴传输层材料剥离，去除像素定义层上方的部分空穴传输层材料确保使用过程中不会对像素定义层的开口造成影响，这可以阻断相邻子像素之间空穴传输层材料的侧向漏电，解决低灰阶单色画面异常问题。

Description

掩膜板、显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板、显示面板及其制作方法。
背景技术
柔性OLED(OrganicLight-Emitting Diode，有机电激光显示)面板具有轻薄、可视角度大、色彩对比度高、功耗低和可折叠的特点，符合消费者对面板的需求，在终端市场的市场占比率逐年提升。目前OLED面板在低灰阶下点亮单色画面的时候会出现画面异常现象，特别是在低频模式下画面异常现象更加严重，即只点亮红色画面的时候临近的绿色像素会点亮，只点亮绿色画面的时候临近的红色像素也会点亮，影响面板的品味。通过测试发现空穴传输层(HTL，Hole Tranport Layer)材料的侧向导电就是导致该现象，目前蒸镀HTL材料使用的一般掩膜板会导致整个面板上面都有一层HTL材料。
发明内容
本发明目的在于提供一种掩膜板，使用遮挡片挡住相邻行子像素与列子像素之间的间隔，使得在蒸镀的过程中子像素之间的空穴传输层的材料被间隔开。
为了达到上述目的，本发明一实施例提供一种掩膜板，用于形成显示面板的空穴传输层，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；所述掩膜板包括：若干遮挡片，对应于相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔；当蒸镀所述空穴传输层材料时，所述空穴传输层材料仅蒸镀在所述子像素区域。
进一步地，所述遮挡片的宽度为5～20um。
进一步地，所述子像素包括：阵列基板、平坦化层、阳极以及像素限定层；所述平坦化层设于所述阵列基板上；所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板所述像素限定层，设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；所述遮挡片对应于相邻所述子像素之间的像素限定层。
本发明一实施例提供一种显示面板的制作方法，其特征在于，采用前文所述的掩膜板蒸镀显示面板上的空穴传输层，包括以下步骤：将若干遮挡片设于相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔的上方；蒸镀一空穴传输层材料，所述空穴传输层材料仅蒸镀在所述子像素区域。所述将若干遮挡片设于相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔的上方的步骤中；所述子像素包括：阵列基板、平坦化层、阳极以及像素限定层；所述平坦化层设于所述阵列基板上；所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板所述像素限定层，设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；所述遮挡片对应设置于相邻所述子像素之间的像素限定层的上方。
本发明一实施例提供一种显示面板，采用所述一实施例的显示面板的制作方法，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；所述子像素包括：阵列基板；平坦化层，所述平坦化层设于所述阵列基板上；阳极，所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板；像素限定层，所述像素限定层设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；电子传输层，设于所述开槽底部的阳极上；发光层，设于所述阳极上；以及空穴传输层，设于所述发光层以及所述像素限定层上；其中，相邻子像素之间的空穴传输层具有一间隔。
本发明另一实施例提供一种显示面板的制作方法，包括如下步骤：整面蒸镀一层空穴传输层材料于所述显示面板的显示区，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；将相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔上方的空穴传输层材料剥离，使所述空穴传输层材料仅保留在所述子像素区域。进一步地，在所述将相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔上方的空穴传输层材料剥离的步骤中；所述空穴传输层材料剥离的方法包括激光剥离，激光扫描道宽度为5～20um。进一步地，所述子像素包括：阵列基板、平坦化层、阳极以及像素限定层；所述平坦化层设于所述阵列基板上；所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板所述像素限定层，设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；在所述将相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔上方的空穴传输层材料剥离的步骤中，具体将相邻所述子像素之间的像素限定层的上方的空穴传输层材料剥离。
本发明另一实施例还一种显示面板，采用所述另一实施例的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；所述子像素包括：阵列基板；平坦化层，所述平坦化层设于所述阵列基板上；阳极，所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板；像素限定层，所述像素限定层设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；电子传输层，设于所述开槽底部的阳极上；发光层，设于所述阳极上；以及空穴传输层，设于所述发光层以及所述像素限定层上；其中，相邻子像素之间的空穴传输层具有一间隔。
本发明的有益效果：本发明提供一种掩膜板、显示面板及其制备方法，使用遮挡片挡住相邻行子像素与列子像素之间的间隔，使得在蒸镀的过程中子像素之间的空穴传输层的材料被间隔开，或使用激光将相邻所述子像素之间的像素限定层的上方的空穴传输层材料剥离，去除像素定义层上方的部分空穴传输层材料确保使用过程中不会对像素定义层的开口造成影响，这可以阻断相邻子像素之间空穴传输层材料的侧向漏电，解决低灰阶单色画面异常问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明一实施例提供的显示面板与掩膜板的平面示意图；
图2是本发明一实施例提供的显示面板与掩膜板的结构示意图；
图3是本发明所述实施例1提供的显示面板的制作方法的流程图；
图4是本发明所述实施例1提供的显示面板的结构示意图；
图5是本发明所述实施例2提供的显示面板的制作方法的流程图；
图6是本发明所述实施例2提供的显示面板的结构示意图。
子像素110、310；掩膜板200；遮挡片201；
阵列基板101；平坦化层102；阳极103；
像素限定层104；开槽1041。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。在本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
如图1所示，本发明一实施例提供一种掩膜板200，用于形成显示面板的空穴传输层，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素110。所述子像素110的排布方式并不限于本发明的附图所示。
如图2所示，所述子像素110包括：阵列基板101、平坦化层102、阳极103以及像素限定层104。
所述平坦化层102设于所述阵列基板101上；所述阳极103设于所述平坦化层102上且连接所述阵列基板101所述像素限定层104，设于所述平坦化层102以及所述阳极103上，所述像素限定层104具有一开槽1041，所述阳极103显露于所述开槽1041中。
所述掩膜板200包括：若干遮挡片201，对应相邻行子像素110之间与相邻列子像素之间的间隔；当蒸镀所述空穴传输层材料时，所述空穴传输层材料仅蒸镀在所述子像素110区域。所述遮挡片201的宽度为5～20um。所述遮挡片201对应于相邻所述子像素110之间的像素限定层104。
如图2以及图3所示，本发明实施例1提供一种显示面板的制作方法，其具体采用本发明所述一实施例的掩膜板200蒸镀显示面板上的空穴传输层使用遮挡片201挡住相邻行子像素与列子像素之间的间隔，确保使用过程中不会对像素定义层的开口造成影响，使得在蒸镀的过程中子像素110之间的空穴传输层的材料被间隔开。这可以阻断相邻子像素(红色子像素R与绿色子像素G)之间空穴传输层材料的侧向漏电，解决低灰阶单色画面异常问题。
所述显示面板的制作方法包括以下步骤S1～S2。
S1、将若干遮挡片201设于相邻行子像素之间与相邻行子列子像素之间的间隔处上方。参照图2所示，所述子像素110包括：阵列基板101、平坦化层102、阳极103以及像素限定层104；所述平坦化层102设于所述阵列基板101上；所述阳极103设于所述平坦化层102上且连接所述阵列基板101所述像素限定层104，设于所述平坦化层102以及所述阳极103上，所述像素限定层104具有一开槽1041，所述阳极103显露于所述开槽1041中；所述遮挡片201对应设置于相邻所述子像素110之间的像素限定层104的上方。
S2、蒸镀一空穴传输层材料，所述空穴传输层材料仅蒸镀在所述子像素110区域。
如图4所示，本发明实施例1还提供一种显示面板300，采用本发明实施例1所述的显示面板的制作方法，所述显示面板300包括若干阵列排布的子像素310。
所述子像素310包括：阵列基板301、平坦化层302、阳极303、像素限定层304、电子传输层305、发光层306以及空穴传输层307。
所述平坦化层302设于所述阵列基板301上；所述阳极303设于所述平坦化层302上且连接所述阵列基板301，所述像素限定层304设于所述平坦化层302以及所述阳极303上，所述像素限定层304具有一开槽3041，所述阳极303显露于所述开槽3041中；所述电子传输层305设于所述开槽1041底部的阳极103上；所述发光层306设于所述阳极103上；所述空穴传输层307设于所述发光层306以及所述像素限定层304上；其中，相邻子像素310之间的空穴传输层307具有一间隔。
如图2以及图5所示，本发明实施例2一种显示面板的制作方法，通过使用激光将相邻所述子像素110之间的像素限定层104的上方的空穴传输层材料剥离，去除像素定义层上方的部分空穴传输层材料，使得相邻子像素110之间的空穴传输间隔开。这可以阻断相邻子像素(红色子像素R与绿色子像素G)之间空穴传输层材料的侧向漏电，解决低灰阶单色画面异常问题。
实施例2的显示面板的制作方法包括如下步骤S101～S102。
S101、整面蒸镀一层空穴传输层材料于所述显示面板的显示区，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素110；所述子像素110包括：阵列基板101、平坦化层102、阳极103以及像素限定层104；所述平坦化层102设于所述阵列基板101上；所述阳极103设于所述平坦化层102上且连接所述阵列基板101所述像素限定层104，设于所述平坦化层102以及所述阳极103上，所述像素限定层104具有一开槽1041，所述阳极103显露于所述开槽1041中。
S102、将相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔处的空穴传输层材料剥离(剥离区域参照图6中的320a)，使所述空穴传输层材料仅保留在所述子像素110区域，具体将相邻所述子像素110之间的像素限定层104的上方的空穴传输层材料剥离。所述空穴传输层材料剥离的方法包括激光剥离。激光的扫描道宽度为5～20um。
如图6所示，本发明实施例2还提供一种显示面板300a，采用本发明实施例2所述的显示面板的制作方法，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素310a。
所述子像素310a包括：阵列基板301a、平坦化层302a、阳极303a、像素限定层304a、电子传输层305a、发光层306a以及空穴传输层307a。
所述平坦化层302a设于所述阵列基板301a上；所述阳极303a设于所述平坦化层302a上且连接所述阵列基板301a，所述像素限定层304a设于所述平坦化层302a以及所述阳极303a上，所述像素限定层304a具有一开槽3041a，所述阳极303a显露于所述开槽3041a中；所述电子传输层305a设于所述开槽1041a底部的阳极103a上；所述发光层306a设于所述阳极103a上；所述空穴传输层307a设于所述发光层306a以及所述像素限定层304a上；其中，相邻子像素310a之间的空穴传输层307a具有一间隔。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种掩膜板，用于形成显示面板的空穴传输层，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；其特征在于，所述掩膜板包括：
若干遮挡片，对应于相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔；当蒸镀所述空穴传输层材料时，所述空穴传输层材料仅蒸镀在所述子像素区域。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，
所述遮挡片的宽度为5～20um。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述子像素包括：阵列基板、平坦化层、阳极以及像素限定层；
所述平坦化层设于所述阵列基板上；所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板；所述像素限定层设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；
所述遮挡片对应于相邻所述子像素之间的像素限定层。
4.一种显示面板的制作方法，其特征在于，采用如权利要求1-3任一项所述的掩膜板蒸镀显示面板上的空穴传输层，包括以下步骤：
将若干遮挡片设于相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔的上方；
蒸镀一空穴传输层材料，所述空穴传输层材料仅蒸镀在所述子像素区域。
5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，
所述将若干遮挡片设于相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔的上方的步骤中；所述子像素包括：阵列基板、平坦化层、阳极以及像素限定层；所述平坦化层设于所述阵列基板上；所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板；所述像素限定层设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；
所述遮挡片对应设置于相邻所述子像素之间的像素限定层的上方。
6.一种显示面板，采用如权利要求4或5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；所述子像素包括：
阵列基板；
平坦化层，所述平坦化层设于所述阵列基板上；
阳极，所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板；
像素限定层，所述像素限定层设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；
电子传输层，设于所述开槽底部的阳极上；
发光层，设于所述阳极上；以及
空穴传输层，设于所述发光层以及所述像素限定层上；
其中，相邻子像素之间的空穴传输层具有一间隔。
7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
整面蒸镀一层空穴传输层材料于所述显示面板的显示区，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；
将相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔上方的空穴传输层材料剥离，使所述空穴传输层材料仅保留在所述子像素区域。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，
在所述将相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔上方的空穴传输层材料剥离的步骤中；
所述空穴传输层材料剥离的方法包括激光剥离，激光扫描道宽度为5～20um。
9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，
所述子像素包括：阵列基板、平坦化层、阳极以及像素限定层；所述平坦化层设于所述阵列基板上；所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板；所述像素限定层设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；
在所述将相邻行子像素之间与相邻列子像素之间的间隔上方的空穴传输层材料剥离的步骤中，具体将相邻所述子像素之间的像素限定层的上方的空穴传输层材料剥离。
10.一种显示面板，采用如权利要求7～9任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括若干阵列排布的子像素；
所述子像素包括：阵列基板；
平坦化层，所述平坦化层设于所述阵列基板上；
阳极，所述阳极设于所述平坦化层上且连接所述阵列基板；
像素限定层，所述像素限定层设于所述平坦化层以及所述阳极上，所述像素限定层具有一开槽，所述阳极显露于所述开槽中；
电子传输层，设于所述开槽底部的阳极上；
发光层，设于所述阳极上；以及
空穴传输层，设于所述发光层以及所述像素限定层上；
其中，相邻子像素之间的空穴传输层具有一间隔。
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