CN113030238B - 图像取得系统以及图像取得方法 - Google Patents

图像取得系统以及图像取得方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113030238B
CN113030238B CN202011184934.7A CN202011184934A CN113030238B CN 113030238 B CN113030238 B CN 113030238B CN 202011184934 A CN202011184934 A CN 202011184934A CN 113030238 B CN113030238 B CN 113030238B
Authority
CN
China
Prior art keywords
image
magnetic domain
magnetic field
magnetic
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011184934.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113030238A (zh
Inventor
荒木亮子
孝桥照生
谢骏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of CN113030238A publication Critical patent/CN113030238A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113030238B publication Critical patent/CN113030238B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V20/00—Scenes; Scene-specific elements
    • G06V20/60—Type of objects
    • G06V20/69—Microscopic objects, e.g. biological cells or cellular parts
    • G06V20/693—Acquisition
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/12—Measuring magnetic properties of articles or specimens of solids or fluids
    • G01R33/1292—Measuring domain wall position or domain wall motion
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/72—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/032—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using magneto-optic devices, e.g. Faraday or Cotton-Mouton effect
    • G01R33/0325—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using magneto-optic devices, e.g. Faraday or Cotton-Mouton effect using the Kerr effect
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/09—Magnetoresistive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T1/00—General purpose image data processing
    • G06T1/60—Memory management
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V20/00—Scenes; Scene-specific elements
    • G06V20/60—Type of objects
    • G06V20/69—Microscopic objects, e.g. biological cells or cellular parts
    • G06V20/698—Matching; Classification

Abstract

本发明涉及图像取得系统以及图像取得方法。在图像取得系统中，简便地大范围测定应变分布。使用成为基准的基准外部磁场，并照射光来取得成为基准的样品的基准磁畴图像，在使外部磁场在变化的同时进行施加的状态下取得多个磁畴图像，取得从多个磁畴图像分别扣除基准磁畴图像的多个扣除图像，从多个扣除图像分别提取磁畴翻转的磁畴翻转区域，通过将分别具有磁畴翻转区域的多个扣除图像合成，来取得具有多个磁畴翻转区域的合成图像。

Description

图像取得系统以及图像取得方法
技术领域
本发明涉及图像取得系统以及图像取得方法。
背景技术
近年来，为了减低环境负担而节能化的需求提高。与该趋势相伴，电动机、螺线管、变压器等电子控制部件的高性能化、高控制化、高效率化以及省电化是当务之急。这些部件主要包含电线和铁芯，进行电能与磁能的变换。在此，能效率良好地能量变换在节能对策中最为重要。
该铁芯主要使用软磁性材料，一般使用电磁钢板。在电磁钢板、软磁性体材料中，若产生应力、应变，材料强度、磁特性就会变化。通常，应力、应变会引起材料脆化等，成为破损的原因。另外，在样品内磁特性不均匀会妨碍特性提升。
但在一部分电磁钢板中，能通过有效果地控制应变来提升性能。在磁性材料中，已知根据粒子的形状、大小、粒径方差、粒子与粒子之间的晶界形状等，磁特性会较大变化。
因此，需要能简便判断应变的有无且评价该应变所影响的区域，进而弄清应变产生的原因的手段。同时，还需要也能评价粒子形状、粒径、粒径方差等的手段。
过去，作为应力应变评价中所用的方法，有使用X射线的方法、基于透射型电子显微镜(TEM)、电子线背散射衍射法(EBSD)等的测定晶格常数的变化的方法。另外，作为粒径解析，有利用反射电子(BSE)像的方法。例如在专利文献1中，公开了以已知的材料为基础来估计磁导率的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：JP特开2002-156361号公报
过去，在利用应力应变评价中所用的X射线的测定中，由于仅知道样品片整体的平均的应变的值，因此不能确定发生应变的场所。另外，基于TEM的应变测定是nm级别的评价，难以大范围测定样品。
同样地，由于在基于EBSD的应变测定中还需要表面的平滑化，因此为了进行观察而需要对样品表面进行加工。因此，难以对发生应变的原因进行解析，不能弄清应变的频度、发生应变的原因。
另外，为了从BSE像进行粒径解析，需要将样品放入真空中，这会限制样品形状。
根据专利文献1公开的方法，虽然能以已知的材料为基础来估计磁导率，但不能掌握应变分布状态。因此，期望能简便地大范围测定应变分布。
发明内容
本发明的目的在于，在图像取得系统中，简便地大范围测定应变分布。
本发明的一个方案的图像取得系统具有信号处理部，取得包含磁性体的样品的图像，所述图像取得系统的特征在于，所述信号处理部执行以下处理：使用成为基准的基准外部磁场，照射光来取得成为基准的所述样品的基准磁畴图像，在使外部磁场在变化的同时进行施加的状态下取得多个磁畴图像，取得从多个所述磁畴图像分别扣除所述基准磁畴图像的多个扣除图像，从多个所述扣除图像分别提取磁畴翻转的磁畴翻转区域，通过将分别具有所述磁畴翻转区域的多个所述扣除图像合成，来取得具有多个所述磁畴翻转区域的合成图像。
本发明的一个方案的图像取得方法取得包含磁性体的样品的图像，所述图像取得方法的特征在于具有如下步骤：使用成为基准的基准外部磁场，照射光来取得成为基准的所述样品的基准磁畴图像；在使外部磁场变化的同时进行施加的状态下取得多个磁畴图像；取得从多个所述磁畴图像分别扣除所述基准磁畴图像的多个扣除图像；从多个所述扣除图像分别提取磁畴翻转的磁畴翻转区域；和通过将分别具有所述磁畴翻转区域的多个所述扣除图像合成来取得具有多个所述磁畴翻转区域的合成图像。
发明的效果
根据本发明的一个方案，在图像取得系统中，能简便地大范围测定应变分布。
附图说明
图1是表示实施例1的图像取得系统的结构的图。
图2是表示实施例1的图像取得方法的流程图。
图3是表示取得扣除图像的手法的一例的说明图。
图4是表示扣除图像的一例的说明图。
图5是表示磁化翻转区域的绘制(mapping)图像的结构的一例的说明图。
图6是表示应变分布图的结构的一例的说明图。
图7是表示实施例1的操作GUI的一例的说明图。
图8是表示实施例2的图像取得方法的流程图。
图9是表示实施例3的图像取得方法的流程图。
图10是表示从扣除图像取得晶界的手法的一例的说明图。
图11是表示晶界图像的一例的说明图。
图12是表示实施例3的操作GUI的一例的说明图。
附图标记的说明
1样品固定器
2电磁线圈
3样品
4样品法线方向
5激光
6入射光
7反射光
8检测器
9信号处理部
10存储部(数据库)
11控制装置
12图像显示终端(GUI)
31磁化翻转区域
41、42低磁场翻转区域
43中磁场翻转区域
44不翻转的区域
45高磁场翻转区域
61产生伤痕的区域
62不翻转的区域
71、72、73、74、75窗口
101、111粒子
102、112晶界
121、122、123、124、125窗口
具体实施方式
以下使用附图来说明实施例。
【实施例1】
参考图1来说明实施例1的图像取得系统的结构。
图像取得系统包含样品台机构系统、光学系统以及图像处理系统。
样品台机构系统具有：具备将磁性体的样品3固定并能在XYZ轴移动的样品台的样品固定器(holder)1；和能施加外部磁场的电磁线圈2。光学系统具有检测器8。图像处理系统具有控制装置11和图像显示终端(GUI)12。控制装置11具有信号处理部9和存储部(数据库)10。
激光5作为入射光6而入射到样品3的平面，用检测器8检测在样品3的平面反射的反射光7。在此，4表示样品法线方向。用检测器8检测到的检测信号被送往信号处理部9，进行给定的处理。
参考图2来说明实施例1的图像取得方法。
最初，将样品3固定于样品固定器1上，进行载于样品固定器1上的样品3的表面形状的观察，取得形状图像(S101)。另外，在该时间点不施加来自外部的磁场。即，无磁场地取得光学显微图像。形状图像还能使用光学显微镜等进行拍摄。
接下来，在相同视野，照射给定强度的光，取得成为基准的样品3的磁畴图像(S102)。在该时间点也不施加外部磁场。即，无磁场地取得磁畴图像。
这里使用的光是可见光、紫外光等。将光入射到磁性体的样品3的平面而反射光7的偏振面旋转，将其称作Kerr效应。在Kerr显微镜中，使用该Kerr效应来检测样品3的磁化的朝向，取得磁畴图像。在样品3的磁化朝向面内方向的情况下，使用纵向Kerr效应、横向Kerr效应，在样品3的磁化朝向与样品面垂直的方向的情况下，使用极向Kerr效应来得到磁畴图像。
为了利用纵向Kerr效应、横向Kerr效应，对样品法线方向4从45度斜向入射入射光6，为了利用极向Kerr效应，从样品3的样品法线方向4入射入射光。进而，通过将Kerr显微镜的偏振片和检光器错开3～5度程度，能形成有磁畴对比度来得到磁畴图像。在此，使用Kerr显微镜取得磁畴图像，但也可以使用其他手段取得磁畴图像。例如可以使用磁力显微镜(MFM)、扫描电子显微镜(SEM)取得磁畴图像。
接下来，在由设置于样品3的两端的电磁线圈2施加外部磁场的状态下取得磁畴图像(S103)。
接下来，取得从施加外部磁场而得到的磁畴图像扣除基准的磁畴图像的扣除图像(S104)。从得到的扣除图像提取磁畴翻转的区域来确定磁畴翻转区域(S105)。
通过重复上述的工序(S101～S105)，来取得使外部磁场变化了的扣除图像，从该扣除图像提取磁畴翻转的磁畴翻转区域，汇集到一个图像并进行合成。如此地取得磁畴翻转区域的绘制图像即合成图像。
这时，将磁化不翻转的区域判断为非磁性体区域例如晶界区域，从而还能形成晶界像，解析粒径分布，与应变分布的绘制图像同样地在材料解析中是有效的。将这里取得的图像全都存储到作为存储部10的数据库。
接下来分别算出各磁畴翻转区域的应变量(S106)。
接下来，在绘制图像(合成图像)中，通过将磁畴翻转区域和应变量建立对应来制作并取得应变分布图像(S107)。
最后，使用应变分布图像来调查应变原因(S108)。
参考图3来说明扣除图像的取得方法。
(a)是施加给定的外部磁场而得到的磁畴图像。(b)是相同视野中的施加磁场前(无磁场)的基准的磁畴图像。(c)是从图像(a)扣除图像(b)的图像。通过施加给定的外部磁场，磁化翻转的区域的对比度发生变化，而能提取磁畴翻转区域31。
接下来，在图4示出从在使外部磁场变化的同时进行施加而得到的磁畴图像扣除基准的磁畴图像而得到的扣除图像。
在(a)、(b)的扣除图像中，形成低磁场翻转区域41、42。在(c)的扣除图像中，形成中磁场翻转区域43和不翻转的区域44。在(c)的扣除图像中，形成高磁场翻转区域45。
通过重复上述工序(S101～SS105)，能得到对应于各个外部磁场而种种区域的对比度变化的磁畴图像。
在图5示出磁畴翻转区域的绘制图像(合成图像)。
通过将图4所示的从在使外部磁场变化的同时进行施加而得到的磁畴图像扣减基准的磁畴图像而得到的扣除图像((a)～(d))合成，来取得具有多个磁畴翻转区域的合成图像。如此地，在合成图像中，形成有以低磁场翻转的低磁场翻转区域41、42、以中磁场翻转的中磁场翻转区域43、不翻转的区域44以及以高磁场翻转的高磁场翻转区域45。通过提取磁畴翻转的区域，汇集到一个图像并进行合成，能取得翻转区域的绘制图像。
接下来，如图6所示那样，通过分别算出多个磁畴翻转区域的应变量，在合成图像中将磁畴翻转区域和应变量建立对应，来取得应变分布图像。
在此，若设为在外部磁场为Hinv时磁畴翻转，则这时的各向异性常数Ku用以下的数学式1表征。
Ku∝Hinv x Is Is：自发磁化(数学式1)
另外，根据磁各向异性能量的式子，应力σ用以下的数学式2表征。
σ∝Ku/λ λ：磁应变常数(数学式2)
根据该数学式1、数学式2和每种材料的杨氏模量，在图2的S106算出应变量ε。
在此，低磁场翻转区域41、42的应变量ε＝1.8x10-4、中磁场翻转区域43的应变量ε＝3.2x10-2、高磁场翻转区域45的应变量ε＝5.2x10-2。在此，44是不翻转的区域。
另外，将得到的应变分布图像存储到存储部10。如图6所示那样，能通过将应变量与翻转区域的合成图像建立对应来取得应变分布图像。
参考图7来说明显示于图像显示终端12的画面的内容。图7是操作GUI的示例。这里71、72、73、74、75是画面的窗口。
在图像显示终端12的画面中汇总显示存储于存储部10的形状像(形状图像)、磁畴像(磁畴图像)、扣除像(扣除图像)以及应变分布像(应变分布图像)。如此地，得到的图像能全都显示于操作GUI上。即，能在GUI同时显示得到的应变分布像和形状像。由此，能容易地进行与表面结构的对应建立，能容易地估计以及弄清发生应变的原因。其结果，图6的61能判断为产生伤痕的区域。另外，得到的扣除像、应变分布像以及形状像全都存储在存储部10。
通过将图像显示终端12的画面用在具有磁性的样品的评价中，能非破坏地进行样品的应变分布的绘制和定量评价。为此，还能在样品的品质管理中使用。
【实施例2】
参考图8来说明实施例2的图像取得方法。
与图2所示的实施例1的图像取得方法的不同点在于，将图2的S102置换成S802这点。即，在图2的S102，在不施加外部磁场的无磁场下取得设为基准的磁畴图像，与此相对，在图8的S802，施加外部磁场来取得设为基准的磁畴图像。其他步骤(S101、S103、S104、S105、S106、S107)与图2所示的实施例1的图像取得方法相同，因此省略其说明。
在实施例2的图像取得方法中，如图8所示那样，在成为基准的磁畴图像取得中，在某个所期望的磁场施加状态下取得磁畴图像。例如，施加磁化完全饱和的级别的高磁场，将成为单磁畴状态的图像作为基准图像，这也是有效的。在取得后，以与实施例1同样的过程重复多次摄像来取得磁畴图像。由此取得应变分布图像，能容易地估计以及弄清发生应变的原因。
【实施例3】
参考图9来说明实施例3的图像取得方法。
在实施例3中，到中途为止都以与图8所示的实施例2同样的过程取得晶界图像。即，取得磁畴图像，取得与施加给定的外部磁场的图像的扣除图像，从而取得晶界区域的图像。
最初，将样品3固定于样品固定器1上，进行载于样品固定器1上的样品3的表面形状的观察，取得形状图像(S901)。另外，在该时间点不施加来自外部的磁场。即，无磁场地取得光显微图像。
接下来，在相同视野中，以设为基准的外部磁场取得磁畴图像(S902)。
接下来，在由设置于样品3的两端的电磁线圈2施加外部磁场的状态下取得磁畴图像(S903)。
最后，取得从施加外部磁场而得到的磁畴图像扣除基准的磁畴图像的扣除图像(S904)。
如图10所示那样，在晶界部分包含非磁性体或与粒子内部不同的组成、组织等的情况下，在粒子内部区域的对比度和晶界部分的对比度产生差异。在此，101是粒子，102是晶界。
由此，能通过将图像扣除来提取图11所示那样的晶界区域。通过在将观察位置一点一点错开的同时进行多张评价，能进行大的区域的粒子形状、粒径测定、粒径分布等的评价。在此，111是粒子，112是晶界。
通过将得到的粒子形状、粒径测定、粒径分布等数据和实施例1或实施例2中得到的应变分布图像进行组合，能容易地估计以及弄清发生应变的原因。
在图12示出实施例3中的GUI的操作画面的示例。在此，121、122、123、124、125是画面的窗口。
得到的扣除像(扣除图像)、应变分布像(应变分布图像)、形状像(形状图像)以及晶界像(晶界图像)能同时显示于GUI。通过比较各图像，能容易地进行与表面结构、粒子结构的对应建立。由此，能容易地估计以及弄清发生应变的原因。
使用该GUI的操作画面来进行具有磁性的样品的评价。由此能非破坏地进行样品的应变分布的绘制和定量评价。因此，还能使用在材料的品质管理中。
在上述实施例中，通过根据磁畴观察来测定磁畴对比度翻转的外部磁场的值，来估计该磁畴的应变量，形成观察区域中的应变分布图像。然后，算出磁性体中的磁畴的应变量(ε)，得到观察区域中的应变分布图像。即，从具备能在与表面形状像相同的视野中拍摄磁畴结构的手法的装置提取与外部磁场相应的磁畴变化，一并解析基于外部磁场的磁畴翻转的数据。由此，算出应变量，作成应变分布图像，并同时显示表面形状像。
根据上述实施例，估计磁性体中的磁畴的应变量，能得到观察区域中的应变分布图像。除了能简便地得到相同视野中的基于光显微的形状像，还能同时也观察基于磁场施加的磁化翻转和磁畴结构。通过来自由此得到的磁畴图像或扣除图像的晶界像，能确认样品状态、晶界位置。由此能弄清应变的产生原因。另外，样品能在大气中无接触、无加工、简便地进行多次评价。
另外，由于能进行动态模式下的观察，因此在部件动作模式下也能进行应变评价。另外，由于能通过得到的扣除图像判别晶界位置，因此还能进行粒径测定、粒径分布评价。
如此地，根据上述实施例，在图像取得系统中，能简便地大范围测定应变分布。

Claims (13)

1.一种图像取得系统，具有信号处理部，取得包含磁性体的样品的图像，所述图像取得系统的特征在于，
所述信号处理部执行以下处理：
使用成为基准的基准外部磁场，照射光来取得成为基准的所述样品的基准磁畴图像，
在使外部磁场在变化的同时进行施加的状态下取得多个磁畴图像，
取得从多个所述磁畴图像分别扣除所述基准磁畴图像的多个扣除图像，
从多个所述扣除图像分别提取磁畴翻转的磁畴翻转区域，
通过将分别具有所述磁畴翻转区域的多个所述扣除图像合成，来取得具有多个所述磁畴翻转区域的合成图像，
所述信号处理部执行以下处理：
分别算出多个所述磁畴翻转区域的应变量，
在所述合成图像中，通过将所述磁畴翻转区域和所述应变量建立对应，来取得应变分布图像。
2.根据权利要求1所述的图像取得系统，其特征在于，
所述信号处理部执行以下处理：
至少提取以第1磁场翻转的第1磁畴翻转区域、以比所述第1磁场高的第2磁场翻转的第2磁畴翻转区域和以比所述第2磁场高的第3磁场翻转的第3磁畴翻转区域，作为多个所述磁畴翻转区域，
作为多个所述磁畴翻转区域的应变量，至少算出第1应变量、比所述第1应变量大的第2应变量和比所述第2应变量大的第3应变量，
将所述第1磁畴翻转区域和所述第1应变量建立对应，
将所述第2磁畴翻转区域和所述第2应变量建立对应，
将所述第3磁畴翻转区域和所述第3应变量建立对应。
3.根据权利要求1所述的图像取得系统，其特征在于，
所述信号处理部执行以下处理：
在不施加外部磁场作为所述基准外部磁场的无磁场的状态下，取得所述基准磁畴图像。
4.根据权利要求1所述的图像取得系统，其特征在于，
所述信号处理部执行以下处理：
在给定的视野中，在无磁场的状态下取得所述样品的表面形状的形状图像，
在所述给定的视野中，取得所述基准磁畴图像和多个所述磁畴图像。
5.根据权利要求4所述的图像取得系统，其特征在于，
所述图像取得系统还具有：
存储给定的信息的存储部；和
显示给定的图像的图像显示终端，
所述存储部存储所述形状图像、所述磁畴图像、所述扣除图像和所述应变分布图像，
所述图像显示终端将存储于所述存储部的所述形状图像、所述磁畴图像、所述扣除图像和所述应变分布图像汇总进行显示。
6.根据权利要求1所述的图像取得系统，其特征在于，
所述信号处理部执行以下处理：
使用Kerr显微镜、磁力显微镜以及扫描电子显微镜中的任一者，照射所述光来取得所述基准磁畴图像。
7.根据权利要求4所述的图像取得系统，其特征在于，
所述信号处理部执行以下处理：
使用光学显微镜来取得所述形状图像。
8.根据权利要求1所述的图像取得系统，其特征在于，
所述图像取得系统还具有：
具备将所述样品固定而能移动的样品台的样品固定器；和
能施加所述外部磁场的电磁线圈。
9.根据权利要求1所述的图像取得系统，其特征在于，
所述图像取得系统还具有：
至少显示所述样品的晶界图像的图像显示终端。
10.一种图像取得方法，取得包含磁性体的样品的图像，所述图像取得方法的特征在于具有如下步骤：
使用成为基准的基准外部磁场，照射光来取得成为基准的所述样品的基准磁畴图像；
在使外部磁场在变化的同时进行施加的状态下取得多个磁畴图像；
取得从多个所述磁畴图像分别扣除所述基准磁畴图像的多个扣除图像；
从多个所述扣除图像分别提取磁畴翻转的磁畴翻转区域；
通过将分别具有所述磁畴翻转区域的多个所述扣除图像合成来取得具有多个所述磁畴翻转区域的合成图像；
分别算出多个所述磁畴翻转区域的应变量；和
在所述合成图像中，通过将所述磁畴翻转区域和所述应变量建立对应来取得应变分布图像。
11.根据权利要求10所述的图像取得方法，其特征在于，
在取得所述基准磁畴图像的步骤中，在不施加外部磁场作为所述基准外部磁场的无磁场的状态下取得所述基准磁畴图像。
12.根据权利要求10所述的图像取得方法，其特征在于，
所述图像取得方法还具有如下步骤：
将所述样品的表面形状的形状图像、所述磁畴图像、所述扣除图像和所述应变分布图像进行存储；和
将存储的所述形状图像、所述磁畴图像、所述扣除图像和所述应变分布图像汇总进行显示。
13.根据权利要求10所述的图像取得方法，其特征在于，
所述图像取得方法还具有如下步骤：
至少显示所述样品的晶界图像。
CN202011184934.7A 2019-12-24 2020-10-29 图像取得系统以及图像取得方法 Active CN113030238B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019232487A JP7291618B2 (ja) 2019-12-24 2019-12-24 画像取得システム及び画像取得方法
JP2019-232487 2019-12-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113030238A CN113030238A (zh) 2021-06-25
CN113030238B true CN113030238B (zh) 2024-03-08

Family

ID=76206274

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011184934.7A Active CN113030238B (zh) 2019-12-24 2020-10-29 图像取得系统以及图像取得方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11163974B2 (zh)
JP (1) JP7291618B2 (zh)
CN (1) CN113030238B (zh)
DE (1) DE102020127895B4 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022150418A (ja) * 2021-03-26 2022-10-07 株式会社日立製作所 磁区画像処理装置及び磁区画像処理方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006017557A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Japan Science & Technology Agency 磁気力顕微鏡を利用した垂直磁気記録媒体中の保磁力分布解析法並びにその解析装置
JP2006349384A (ja) * 2005-06-13 2006-12-28 National Institute For Materials Science 絶縁物試料の帯電又は電位歪みを抑制した放射電子顕微鏡装置及び試料観察方法
CN101415847A (zh) * 2006-04-07 2009-04-22 新日本制铁株式会社 取向电磁钢板的制造方法
JP2013072657A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 Toyota Motor Corp 電磁鋼板の内部歪み特定方法
CN106932420A (zh) * 2017-03-09 2017-07-07 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 一种测量材料内部磁致应变三维空间分布的方法
JP2017142088A (ja) * 2016-02-08 2017-08-17 国立大学法人東京農工大学 電磁鋼板の物性評価装置
CN108490375A (zh) * 2018-04-24 2018-09-04 金华职业技术学院 一种样品磁性的原位测量方法
CN108710090A (zh) * 2018-05-22 2018-10-26 复旦大学 一种利用磁光克尔效应测量反铁磁磁畴分布的方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10332555A (ja) * 1997-05-30 1998-12-18 Mitsubishi Materials Corp 磁区観察用の試料
US6528993B1 (en) * 1999-11-29 2003-03-04 Korea Advanced Institute Of Science & Technology Magneto-optical microscope magnetometer
JP2002156361A (ja) * 2000-11-20 2002-05-31 Nippon Steel Corp 磁性材料の磁気特性分布推定法及び品質の評価法
JP2003344258A (ja) * 2002-05-24 2003-12-03 Japan Science & Technology Corp 磁気力顕微鏡の垂直磁場印加装置
WO2005001495A1 (ja) 2003-06-26 2005-01-06 Fujitsu Limited 磁化観察方法および磁化観察装置
JP5003112B2 (ja) * 2006-11-16 2012-08-15 富士通株式会社 磁区観察方法、磁区観察装置および磁区観察プログラム
WO2013011869A1 (ja) * 2011-07-20 2013-01-24 国立大学法人東京農工大学 被測定対象の特性測定装置及び被測定対象の特性測定方法
US8724434B2 (en) * 2012-03-23 2014-05-13 Tdk Corporation Magnetic recording system and magnetic recording device
JP2017157662A (ja) * 2016-03-01 2017-09-07 ソニー株式会社 磁気抵抗素子及び電子デバイス
WO2019182097A1 (ja) * 2018-03-22 2019-09-26 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 磁性体観察方法および磁性体観察装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006017557A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Japan Science & Technology Agency 磁気力顕微鏡を利用した垂直磁気記録媒体中の保磁力分布解析法並びにその解析装置
JP2006349384A (ja) * 2005-06-13 2006-12-28 National Institute For Materials Science 絶縁物試料の帯電又は電位歪みを抑制した放射電子顕微鏡装置及び試料観察方法
CN101415847A (zh) * 2006-04-07 2009-04-22 新日本制铁株式会社 取向电磁钢板的制造方法
JP2013072657A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 Toyota Motor Corp 電磁鋼板の内部歪み特定方法
JP2017142088A (ja) * 2016-02-08 2017-08-17 国立大学法人東京農工大学 電磁鋼板の物性評価装置
CN106932420A (zh) * 2017-03-09 2017-07-07 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 一种测量材料内部磁致应变三维空间分布的方法
CN108490375A (zh) * 2018-04-24 2018-09-04 金华职业技术学院 一种样品磁性的原位测量方法
CN108710090A (zh) * 2018-05-22 2018-10-26 复旦大学 一种利用磁光克尔效应测量反铁磁磁畴分布的方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
磁光调制法测量玻璃内应力;李春艳 等;光学精密工程;第22卷(第1期);第58-62页 *

Also Published As

Publication number Publication date
US11163974B2 (en) 2021-11-02
US20210192178A1 (en) 2021-06-24
JP7291618B2 (ja) 2023-06-15
CN113030238A (zh) 2021-06-25
JP2021101157A (ja) 2021-07-08
DE102020127895A1 (de) 2021-06-24
DE102020127895B4 (de) 2023-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Jia et al. On the benefit of the negative-spherical-aberration imaging technique for quantitative HRTEM
Scheinfein et al. Micromagnetics of domain walls at surfaces
Schulz et al. Analysis of statistical compositional alloy fluctuations in InGaN from aberration corrected transmission electron microscopy image series
CN111279183B (zh) 晶体取向图生成装置、带电粒子射线装置、晶体取向图生成方法以及程序
CN113030238B (zh) 图像取得系统以及图像取得方法
Kuzmenko et al. Domain wall structure of weak ferromagnets according to Raman
Nguyen et al. Disentangling Magnetic and Grain Contrast in Polycrystalline Fe Ge Thin Films Using Four-Dimensional Lorentz Scanning Transmission Electron Microscopy
EP1098194A2 (en) Nondestructive fatigue test method for ferromagnetic construction materials
EP1598848A2 (en) Electron microscope
Vladár et al. On the sub-nanometer resolution of scanning electron and helium ion microscopes
CN110646455A (zh) 一种热轧盘条表面氧化铁皮结构快速分析方法
Nishio et al. High-throughput analysis of magnetic phase transition by combining table-top sputtering, photoemission electron microscopy, and Landau theory
Biskupek et al. Identification of magnetic properties of few nm sized FePt crystalline particles by characterizing the intrinsic atom order using aberration corrected S/TEM
Cyr et al. Methodology to study the influence of the microscopic structure of soft magnetic composites on their global magnetization curve
Zheng et al. High-spatial-resolution magnetic Barkhausen noise sensor with shielded receiver
Santa-aho et al. Multi-instrumental approach to domain walls and their movement in ferromagnetic steels–Origin of Barkhausen noise studied by microscopy techniques
Ricci et al. Magnetic imaging and machine vision NDT for the on-line inspection of stainless steel strips
Shamsutdinov et al. Magnetization–structure–composition phase diagram mapping in Co-Fe-Ni alloys using diffusion multiples and scanning Hall probe microscopy
Torres-Torres et al. Magnetic force microscopy study of multiscale ion-implanted platinum in silica glass, recorded by an ultrafast two-wave mixing configuration
Grünzweig et al. Determination of bulk magnetic volume properties by neutron dark-field imaging
Saraf Dependence of the electron beam energy and types of surface to determine EBSD indexing reliability in yttria-stabilized zirconia
Schreiber et al. A fatigue life assessment of aircraft alloys using fractal analysis in combination with eddy current testing
JP2021012195A (ja) 電磁鋼の非破壊的分析
JP2002156361A (ja) 磁性材料の磁気特性分布推定法及び品質の評価法
Gavrin et al. SEMPA imaging of domain dynamics in amorphous metals

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant