CN113028684A - 蒸发器换热组件、换热水箱及晶圆加工设备用温控装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及半导体加技术领域或者制冷技术领域，提供一种蒸发器换热组件、换热水箱及晶圆加工设备用温控装置。蒸发器换热组件包括：蒸发器，包括翅片；导流组件，包括位于所述蒸发器相对两侧且上下错位设置的导流槽，位于所述蒸发器相对两侧的所述导流槽之间通过翅片流体连通，以形成经过所述翅片的导流路径。根据本发明实施例的蒸发器换热组件，由于在蒸发器的两侧分别设置有导流槽，且导流槽之间通过翅片流体连通，进而当换热介质进入任意一侧的导流槽中的时候，都会通过翅片进入到另一侧的导流槽中，以形成经过翅片的蜿蜒状导流路径，进而可以极大增加换热介质的流程长度，保证换热介质和蒸发器的外表面充分接触，提高换热效率。

Description

蒸发器换热组件、换热水箱及晶圆加工设备用温控装置

技术领域

本发明涉及半导体加技术领域或者制冷技术领域，尤其涉及蒸发器换热组件、换热水箱及晶圆加工设备用温控装置。

背景技术

刻蚀工艺是半导体晶圆加工中最为重要的工艺之一，在晶圆刻蚀工艺中，需要维持加工腔内环境温度的恒定，所以需要使用专用的温控装置。温控装置用于在晶圆加工台内部通入恒温的循环液，以带走刻蚀过程中产生的热量。在当前刻蚀工艺的发展阶段，目前先进的刻蚀工艺均采用等离子体干法刻蚀，此工艺方法需要在加工台(对应下电极)和加工腔顶部(对应上电极)间产生电场，利用电离后的离子轰击晶圆表面，在物理和化学作用下完成刻蚀过程。电场方向对离子轰击精度至关重要，而下电极内部盘管内流动的循环液，其导电性会引起电场偏转，影响刻蚀的顺利完成。所以温控装置内循环液需要使用专用的极高绝缘性的电子氟化液。

此外，目前刻蚀工艺需求温度最大可达到-40℃-90℃，其温控装置一般采用氟制冷系统进行冷却，利用蒸发器内制冷量调节结合加热器调节实现循环液的高精度控温。温控装置中循环液先进入蒸发器内冷却，使蒸发器出口温度与设置目标温度一致；然后进入水箱；之后由循环泵排出温控装置的水箱，并将恒温的循环液泵入加工腔内。一般水箱内放置加热器，当需要循环液升温时，开启加热器，将循环液温度提高至目标值后关闭加热器。

目前半导体用温控装置，作为循环液的电子氟化液，其导热性能极差，各类电子氟化液在其工作温度范围内，其导热系数均在0.1Wm^-1℃^-1以下。为提高蒸发器内换热效率，温控装置的蒸发器均采用钎焊式板式换热器结构。但由于电子氟化液极低的换热系数，蒸发器需要通过增大板片数、循环液侧采用多流程的方式来提供足够的循环液侧换热表面积，保证蒸发器内换热量。其中，当板片数增多时，一方面增加了氟制冷系统的体积，另一方面会导致制冷剂侧的分液不均匀，导致蒸发器换热量下降，影响温控装置的控温效果。板式换热器的结构决定了其两侧介质换热面积比相差不大，即便循环液侧采用多流程结构，两侧介质换热面积比也仅能达到3左右比，无法弥补循环液导热性差带来的片数增多问题。

另外对于晶圆刻蚀工艺周期，加工腔内产生的热负荷在射频装置开启、停止的时间段内变化较大，即温控装置热负荷波动大。其中，低热负荷下制冷剂流量降低，通过增加板片数保证蒸发器内换热效率，其会导致制冷剂在蒸发器内流速过低，压缩机油无法被制冷剂气流带出蒸发器，导致压缩机油在蒸发器内持续积存，这一方面会在蒸发器内换热板片表面产生油膜，影响换热效率，另一方面会引起压缩内缺油故障。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种蒸发器换热组件，其可以增加换热介质的流程长度，提高换热效率。

本发明还提出一种换热水箱。

本发明还提出一种晶圆加工设备用温控装置。

根据本发明第一方面实施例的蒸发器换热组件，包括：

蒸发器，包括翅片；

导流组件，包括位于所述蒸发器相对两侧且上下错位设置的导流槽，位于所述蒸发器相对两侧的所述导流槽之间通过翅片流体连通，以形成经过所述翅片的导流路径。

根据本发明实施例的蒸发器换热组件，由于在蒸发器的两侧分别设置有导流槽，且导流槽之间通过翅片流体连通，进而当换热介质进入任意一侧的导流槽中的时候，都会通过翅片进入到另一侧的导流槽中，以形成经过翅片的蜿蜒状导流路径，进而可以极大增加换热介质的流程长度，保证换热介质和蒸发器的外表面充分接触，提高换热效率。

根据本发明的一个实施例，所述导流槽包括沿着所述导流路径位于上方的第一导流侧壁和位于下方的第二导流侧壁，所述第一导流侧壁和所述第二导流侧壁相对设置，所述翅片一端衔接所述第二导流侧壁，另一端对应所述导流槽的槽口。

根据本发明的一个实施例，所述导流组件还包括：

第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板相对设置，且所述第一挡板封堵所述导流槽的第一端，所述第二挡板封堵所述导流槽的第二端。

根据本发明的一个实施例，所述导流槽包括位于所述蒸发器第一侧的第一导流槽和位于所述蒸发器第二侧的第二导流槽，所述第一侧和所述第二侧相对设置，所述第一导流槽和所述第二导流槽的数量均为多个。

根据本发明的一个实施例，所述第一导流槽和所述第二导流槽均包括多个间隔设置的C字型导流槽以及位于相邻所述C字型导流槽之间的间隙导流槽。

根据本发明第二方面实施例的换热水箱，包括：

箱体，形成有换热介质的入口和出口；

上述蒸发器换热组件，所述蒸发器换热组件位于所述箱体中，且所述导流路径形成于所述入口和所述出口之间，且所述导流路径经过所述蒸发器的上部集管进入所述导流槽，并通过所述蒸发器的下部集管离开所述下部集管。

根据本发明实施例的换热水箱，由于其包括上述蒸发器换热组件，因此其具有上述蒸发器换热组件的所有技术效果，此处不再赘述。

根据本发明的一个实施例，所述箱体内设置有分隔板，所述分隔板将所述箱体分隔形成第一容纳腔室和第二容纳腔室，所述第一容纳腔室和所述第二容纳腔室底部连通，所述蒸发器换热组件位于所述第一容纳腔室，所述第二容纳腔室中设置有加热器。

根据本发明的一个实施例，所述分隔板底部形成有多个通孔，多个所述通孔连通所述第一容纳腔室和所述第二容纳腔室，所述通孔对应所述分隔板中部的开孔比率小于所述通孔对应所述分隔板两侧的开孔比率。

根据本发明的一个实施例，在所述导流组件包括第一挡板和第二挡板的情况下，所述第一挡板和所述第二挡板的一侧均抵接所述分隔板，另一端均抵接所述第一容纳腔室的内壁，以在所述第一挡板、所述第二挡板、所述分隔板和所述内壁之间形成换热介质的流通腔室；

和/或，所述入口连通所述第一容纳腔室，所述出口连通所述第二容纳腔室，所述第二容纳腔室连通加液管；

和/或，所述加热器通过法兰连接所述第二容纳腔室的侧壁，且所述加热器一端位于所述第二容纳腔室中，另一端伸出于所述第二容纳腔室。

根据本发明第三方面实施例的晶圆加工设备用温控装置，包括上述换热水箱。

根据本发明实施例的晶圆加工设备用温控装置，由于其包括上述换热水箱，因此其具有上述换热水箱的所有技术效果，此处不再赘述。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的换热水箱的装配结构示意图；

图2是本发明实施例提供的换热水箱的爆炸结构示意图；

图3是本发明实施例提供的换热水箱的透视示意图；

图4是本发明实施例提供的换热水箱的另一个视角下的透视示意图；

附图标记：

1、入口接口；2、右侧板；3、挡板；4、C字型导流槽；5、微通道换热器；6、后侧板；7、加液管；8、出口接口；9、左侧板；10、分隔板；11、加热器；12、前侧板。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不能用来限制本发明的范围。

在本发明实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明实施例中的具体含义。

在本发明实施例中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明实施例的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

本发明实施例以刻蚀工艺为例对蒸发器换热组件和换热水箱为例进行说明，不失一般性，本发明实施例的蒸发器换热组件和换热水箱均不局限于应用在刻蚀工艺中，还可以应用于其他技术领域，只要可以实现换热效果即可。其中，当蒸发器换热组件和换热水箱应用于刻蚀工艺的时候，其中的换热介质也即指代用于对加工腔温度进行调节的循环液。

请参见图1至图4，根据本发明第一方面实施例的蒸发器换热组件，包括蒸发器和导流组件。蒸发器包括翅片；导流组件包括位于蒸发器相对两侧且上下错位设置的导流槽，位于蒸发器相对两侧的导流槽之间通过翅片流体连通，以形成经过翅片的导流路径。

根据本发明实施例的蒸发器换热组件，由于在蒸发器的两侧分别设置有导流槽，且导流槽之间通过翅片流体连通，进而当换热介质进入任意一侧的导流槽中的时候，都会通过翅片进入到另一侧的导流槽中，以形成经过翅片的蜿蜒状导流路径，进而可以极大增加换热介质的流程长度，保证换热介质和蒸发器的外表面充分接触，提高换热效率。

其中，“导流组件包括位于蒸发器相对两侧且上下错位设置的导流槽”中的“上下错位”指代的情形是：位于蒸发器左侧和右侧对应设置的导流槽沿着蒸发器的高度方向存在错位，例如图3中，蒸发器左侧最上方的导流槽和蒸发器右侧最上方的导流槽对应，且这两个导流槽之间存在高度差。

根据本发明的实施例，蒸发器可以采用微通道换热器5，进而极大提高蒸发器两侧的换热面积比。例如，蒸发器两侧的换热面积比可以超过10，进而使得换热介质采用电子氟化液的时候，在电子氟化液的换热面积满足需求的情况下，可以保证制冷剂侧流速不至于过低。而微通道换热器5内部的制冷剂流速合理，可以规避制冷剂分配不均和压缩机回油不顺畅的风险。其中，制冷剂指代的是蒸发器内流通的冷媒。

根据本发明的实施例，导流槽包括沿着导流路径位于上方的第一导流侧壁和位于下方的第二导流侧壁，第一导流侧壁和第二导流侧壁相对设置，翅片一端衔接第二导流侧壁，另一端对应导流槽的槽口。结合图3，换热介质进入蒸发器左侧最上方的导流槽，且在重力作用下运动至该导流槽的第二导流侧壁，并经过该导流槽的第二导流侧壁流向与其衔接的翅片，之后通过翅片进入位于蒸发器右侧最上方的导流槽，并运动至该右侧导流槽的第二导流侧壁，进而在蒸发器左右两侧的导流槽之间形成蜿蜒状的导流路径。在以上基础之后，当蒸发器左侧导流槽数量为多个的时候，换热介质会继续经过对应的翅片流向蒸发器左侧的下一个导流槽。同理，当蒸发器右侧的导流槽也为多个的时候，换热介质会继续经过对应的翅片流向蒸发器右侧的下一个导流槽，以此循环。当然需要说明的是，蒸发器左侧的导流槽数量以及蒸发器右侧的导流槽数量均不受限制，只要可以在两侧的导流槽之间形成蜿蜒状的导流路径，以增加换热介质的流程长度即可。此外，换热介质也可以先进入右侧导流槽，并通过翅片进入左侧的导流槽。

根据本发明的实施例，导流组件还包括第一挡板和第二挡板，第一挡板和第二挡板相对设置，且第一挡板封堵导流槽的第一端，第二挡板封堵导流槽的第二端。第一挡板和第二挡板可以同时封堵所有导流槽的两端，进而该种结构简单。当然，第一挡板和第二挡板也并非必要的结构，例如第一导流槽和第二导流槽本身就可以采用端部封闭的结构，进而可以保证换热介质只能经过翅片在蒸发器两侧的导流槽之间运动。

根据本发明的实施例，导流槽包括位于蒸发器第一侧的第一导流槽和位于蒸发器第二侧的第二导流槽，第一侧和第二侧相对设置，第一导流槽和第二导流槽的数量均为多个。通过设置多个第一导流槽和第二导流槽，可以充分延长换热介质的流程长度，提高换热效果。该种情况下，换热介质在蒸发器的翅片管区域内多次往返，极大的增加换热介质流程长度，使循环液能够得到充分的换热。

根据本发明的实施例，第一导流槽和第二导流槽均包括多个间隔设置的C字型导流槽4以及位于相邻C字型导流槽4之间的间隙导流槽。具体的，结合图2和图3，除了C字型导流槽4可以供换热介质流动，相邻C字型导流槽4之间的间隙也可以供换热介质流动，进而可以简化导流组件的结构，降低制造成本。

根据本发明第二方面的实施例，提供一种换热水箱，包括箱体和上述蒸发器换热组件。将蒸发器换热组件设置在箱体中，可以便于换热介质的流通。具体的，箱体形成有换热介质的入口和出口；蒸发器换热组件位于箱体中，且导流路径形成于入口和出口之间，且导流路径经过蒸发器的上部集管进入导流槽，并通过蒸发器的下部集管离开下部集管。

根据本发明实施例的换热水箱，换热介质通过入口进入到箱体之后，进入蒸发器任意一侧的导流槽中，之后通过翅片进入到另一侧的导流槽中，以形成经过翅片的蜿蜒状导流路径，进而可以极大增加换热介质的流程长度，保证换热介质和蒸发器的外表面充分接触，提高换热效率。

根据本发明的实施例，箱体内设置有分隔板10，分隔板10将箱体分隔形成第一容纳腔室和第二容纳腔室，第一容纳腔室和第二容纳腔室底部连通，蒸发器换热组件位于第一容纳腔室，第二容纳腔室中设置有加热器11。该种情况下，换热水箱的第一容纳腔室及其中的部件可以对换热介质进行制冷，第二容纳腔室及其中的部件可以对换热介质进行加热。通过将微通道换热器5和加热器11共同置于一个箱体内，使得温控装置整体结构更为紧凑，体积更小。

根据本发明的实施例，分隔板10底部形成有多个通孔，多个通孔连通第一容纳腔室和第二容纳腔室，通孔对应分隔板10中部的开孔比率小于通孔对应分隔板10两侧的开孔比率。该种情况下，通过分隔板10上通孔的开孔比率的不同，可以使得加热器11各部分的换热介质流动状态接近，避免换热介质在第二容纳腔室中各部分流动不一致导致加热输出不稳定的问题。

根据本发明的实施例，在导流组件包括第一挡板和第二挡板的情况下，第一挡板和第二挡板的一侧均抵接分隔板10，另一端均抵接第一容纳腔室的内壁，以在第一挡板、第二挡板、分隔板10和内壁之间形成换热介质的流通腔室。

根据本发明的实施例，箱体的入口连通第一容纳腔室，出口连通第二容纳腔室。进而，换热介质通过入口进入第一容纳腔室，在第一容纳腔室中和蒸发器进行换热。由于蒸发器可能导致换热介质过冷，此时则可能需要对换热介质进行加热。或者，也可能由于其他原因需要对换热介质进行加热。当需要对换热介质进行加热的时候，可以开启第二容纳腔室中的加热器11，以对换热介质的温度进行更为精准的调节。

根据本发明的实施例，第二容纳腔室连通加液管7，进而可以直接将换热介质通入到第二容纳腔室以进行加热。此处的加液管7,作用是设备初次使用时加注循环液，或当运行中循环液的液量过少时进行补液。

根据本发明的实施例，加热器11通过法兰连接第二容纳腔室的侧壁，且加热器11一端位于第二容纳腔室中，另一端伸出于第二容纳腔室。进而，加热器11的第一端可以充分对换热介质进行加热，加热器11的第二端可以连接外部电源。

根据本发明第三方面的实施例，提供一种晶圆加工设备用温控装置(以下简称温控装置)，包括上述换热水箱。具体的，换热水箱用于给半导体工厂晶圆加工设备用温控装置的晶圆加工台提供恒温的循环液，其中循环液也即上文的换热介质。

换热水箱可以实现晶圆加工设备用温控装置中循环液的高效降温和升温，实现整个温控装置的小型化。

下面结合图1至图4对本发明实施例的一个具体实施例进行说明：

图1中，实线箭头分别对应箱体的入口接口1和出口接口8；虚线箭头分别对应制冷剂的入口和出口。循环液从顶部的入口接口1处进入，先经过内部微通道换热器5的翅片管区域进行冷却，再进入加热器11所在第二容纳腔室进行加热控温，最后从箱体侧面的出口接口8处流出，完成换热控温过程。

其中，箱体包括右侧板2、左侧板9、前侧板和后侧板6。其中，右侧板2集成有顶板，左侧板9集成有底板。导流组件包括第一挡板和第二挡板，C字型钣金件制备得到的C字型导流槽4焊接在第一挡板和第二挡板之间。

第一挡板和第二挡板上两个孔分别对应套在微通道换热器5的两根集管(分别为上部集管和下部集管)上，挡板3(没有限定的情况下，挡板3指代的是第一挡板和第二挡板中的至少其中一个)与集管间贴合；前后两个挡板3分别与微通道换热器5前后最外层扁平管贴合；在两个挡板3之间焊接有C字型导流槽4，C字型导流槽4在翅片管区域两侧竖直方向等距分布，且在水平方向两侧交错对应。C字型导流槽4的背面与挡板3侧边平齐，C字型导流槽4的第二导流侧壁与翅片贴合且共面。挡板3侧边与箱体的右侧板2的竖直面焊接密封，挡板3上侧边与水箱右侧板2的顶面焊接密封；分隔板10前后两侧边分别和两个挡板3侧边焊接密封。

循环液的入口接口1与右侧板2接口处焊接；加液管7与后侧板6焊接；出口接口8与左侧板9焊接，加热器11与箱体的前侧板通过法兰结构连接。箱体的前侧板上两个孔分别对应微通道换热器5集管末端的进出口铜管，前侧板与进出口铜管间焊接密封，箱体的前侧板、后侧板6、左侧板9和右侧板2分别焊接连接形成箱体。

循环液在箱体内流动情况如图3所示：

循环液的入口接口1位于微通道换热器5的集管上方，循环液首先进入由箱体的右侧板2、第一挡板、第二挡板、分隔板10与微通道换热器5形成的空间内。循环液从上往下，根据导流组件在翅片两侧形成的导流路径，如图3中箭头所示依次往返流经翅片管区域，在整个流程内完成换热。当循环液流动至翅片管下部区域后，通过分隔板10底部方形孔进入加热器11所在第一容纳腔室，在第一容纳腔室内加热器11对循环液进行温控调节，使循环液的出口温度与设定目标值匹配。

制冷系统内氟制冷剂经过膨胀阀节流后进入微通道换热器5下部集管，再进入微通道换热器5扁平管内通道，在流道内蒸发换热，为循环液降温，最后从上部集管中流出。

当需要启用加热器11工作时，为保证加热器11各部分加热效率接近，使加热器11加热输出更稳定，如附图4所示，分隔板10下方的方形孔在中间位置开孔比例小，在两侧位置开孔比例大，使循环液流经分隔板10时，前后端液体流动强化，提高加热器11加热效率。

以上实施方式仅用于说明本发明，而非对本发明的限制。尽管参照实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，对本发明的技术方案进行各种组合、修改或者等同替换，都不脱离本发明技术方案的精神和范围，均应涵盖在本发明的权利要求范围中。

Claims (10)

1.一种蒸发器换热组件，其特征在于，包括：

蒸发器，包括翅片；

导流组件，包括位于所述蒸发器相对两侧且上下错位设置的导流槽，位于所述蒸发器相对两侧的所述导流槽之间通过翅片流体连通，以形成经过所述翅片的导流路径。

2.根据权利要求1所述的蒸发器换热组件，其特征在于，所述导流槽包括沿着所述导流路径位于上方的第一导流侧壁和位于下方的第二导流侧壁，所述第一导流侧壁和所述第二导流侧壁相对设置，所述翅片一端衔接所述第二导流侧壁，另一端对应所述导流槽的槽口。

3.根据权利要求1所述的蒸发器换热组件，其特征在于，所述导流组件还包括：

第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板相对设置，且所述第一挡板封堵所述导流槽的第一端，所述第二挡板封堵所述导流槽的第二端。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的蒸发器换热组件，其特征在于，所述导流槽包括位于所述蒸发器第一侧的第一导流槽和位于所述蒸发器第二侧的第二导流槽，所述第一侧和所述第二侧相对设置，所述第一导流槽和所述第二导流槽的数量均为多个。

5.根据权利要求4所述的蒸发器换热组件，其特征在于，所述第一导流槽和所述第二导流槽均包括多个间隔设置的C字型导流槽以及位于相邻所述C字型导流槽之间的间隙导流槽。

6.一种换热水箱，其特征在于，包括：

箱体，形成有换热介质的入口和出口；

权利要求1至5中任意一项所述的蒸发器换热组件，所述蒸发器换热组件位于所述箱体中，且所述导流路径形成于所述入口和所述出口之间，且所述导流路径经过所述蒸发器的上部集管进入所述导流槽，并通过所述蒸发器的下部集管离开所述下部集管。

7.根据权利要求6所述的换热水箱，其特征在于，所述箱体内设置有分隔板，所述分隔板将所述箱体分隔形成第一容纳腔室和第二容纳腔室，所述第一容纳腔室和所述第二容纳腔室底部连通，所述蒸发器换热组件位于所述第一容纳腔室，所述第二容纳腔室中设置有加热器。

8.根据权利要求7所述的换热水箱，其特征在于，所述分隔板底部形成有多个通孔，多个所述通孔连通所述第一容纳腔室和所述第二容纳腔室，所述通孔对应所述分隔板中部的开孔比率小于所述通孔对应所述分隔板两侧的开孔比率。

9.根据权利要求7或8所述的换热水箱，其特征在于，在所述导流组件包括第一挡板和第二挡板的情况下，所述第一挡板和所述第二挡板的一侧均抵接所述分隔板，另一端均抵接所述第一容纳腔室的内壁，以在所述第一挡板、所述第二挡板、所述分隔板和所述内壁之间形成换热介质的流通腔室；

和/或，所述入口连通所述第一容纳腔室，所述出口连通所述第二容纳腔室，所述第二容纳腔室连通加液管；

和/或，所述加热器通过法兰连接所述第二容纳腔室的侧壁，且所述加热器一端位于所述第二容纳腔室中，另一端伸出于所述第二容纳腔室。

10.一种晶圆加工设备用温控装置，其特征在于，包括权利要求6至9中任意一项所述的换热水箱。

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