CN113005416B - 一种酒红色薄膜层及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及真空镀膜领域，具体公开了一种酒红色薄膜层及其制备方法。酒红色薄膜层包括依次覆盖于消费产品表面的Ti层、TiN层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、Al2O3层；其制备方法包括以下步骤：1，清洗消费产品表面；2，真空镀膜室内离子清洗；3，沉积Ti层；4，沉积TiN层；5，沉积TiAlN层；6，沉积TiAlON层；7，沉积TiAlN层；8，重复6以及7的镀膜操作4次；9，沉积Al2O3层。本申请的酒红色薄膜可用于任意消费产品表面的酒红色镀膜，包括钟表、珠宝首饰以及手机3C等金属装饰件，其具有正背面色差小、耐磨性能好的优点；制备方法具有工艺重复性好，易于生产控制的优点。
Description
技术领域
本申请涉及真空镀膜领域，更具体地说，它涉及一种酒红色薄膜层及其制备方法。
背景技术
为了满足不同消费者对于颜色的喜好，也更加吸引消费者的注意力，消费产品的表面通常会覆盖一层彩色膜。调查发现，其中红色较为特别，市场反馈消费者对于酒红色的需求也更为强烈，因此，目前对于酒红色薄膜层的研究也更加被关注。
目前，酒红色薄膜层通常是利用磁控溅射技术在消费产品表面溅射覆盖TiO膜层实现的。
针对上述中的相关技术，发明人认为，消费产品在镀膜时，消费产品的正面正对着靶材，沉积速率快，消费产品的背面背对着靶材，沉积速率慢，从而容易使得消费产品在镀膜上色后，其正面与背面的色差比较大，难以满足销售要求，因此，仍有改进的空间。
发明内容
为了减少消费产品的正背面的酒红色存在色差的情况，本申请提供一种酒红色薄膜层及其制备方法。
第一方面，本申请提供一种酒红色薄膜层，采用如下的技术方案：
一种酒红色薄膜层，包括依次覆盖于消费产品表面的Ti层、TiN层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、TiAlON层、TiAlN层、Al2O3层。
通过采用上述技术方案，通过采用Ti层以及TiN层作为底层，有利于提高酒红色薄膜层与消费产品的结合力强度，有利于更好地延长酒红色薄膜层的耐久性能；通过TiAlN层与TiAlON层的重复循环，有利于更好地调节消费产品的正背面颜色，使得消费产品的正背面颜色的色差减小，同时，TiAlN层与TiAlON层的重复循环还有利于提高酒红色薄膜层的耐磨性能，使得酒红色薄膜层更加不容易被磨损，有利于更好地延长酒红色薄膜层的耐久性能；通过最后覆盖Al2O3层，还有利于提高酒红色薄膜层的稳定性，使得不同批次生产的酒红色薄膜层的颜色色差更小，从而有利于更好地保证消费产品的颜色的一致性，有利于酒红色薄膜层更好地应用于批量工业化生产中。
酒红色薄膜层可应用于任意表面需要镀酒红色颜色膜层的消费产品上，且在钟表、珠宝首饰和手机等3C金属装饰件表面上的应用的效果尤为显著。
第二方面，本申请提供一种酒红色薄膜层的制备方法，采用如下的技术方案：
一种酒红色薄膜层的制备方法，包括以下步骤：
步骤1，清洗消费产品，并将清洗后的消费产品放入真空镀膜室中加热、抽真空；
步骤2，往真空镀膜室中通入氩气，并对消费产品表面进行离子清洗；
步骤3，开启Ti靶，采用磁控溅射法在消费产品表面沉积Ti层；
步骤4，通入氮气，采用磁控溅射法在Ti层表面沉积TiN层；
步骤5，开启Al靶，采用磁控溅射法在TiN层表面沉积TiAlN层；
步骤6，通入氧气，采用磁控溅射法在TiAlN层表面沉积TiAlON层；
步骤7，关闭氧气，采用磁控溅射法在TiAlON层表面沉积TiAlN层；
步骤8，重复步骤6以及步骤7的镀膜操作4次；
步骤9，关闭Ti靶和Al靶，通入氩气和氧气，重新打开Al靶，采用磁控溅射法在TiAlN层表面沉积Al2O3层。
通过采用上述技术方案，通过采用磁控溅射法沉积酒红色薄膜层，操作简便，且制得的酒红色薄膜层的致密性好、纯度更高；同时，还有利于更好地控制膜层的厚度，从而有利于更好地提高酒红色薄膜层的耐磨性能以及耐久性能，还使得消费产品的正背面更加不容易存在色差。
优选的，所述步骤3中，通入氩气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为20-25A，Ti层的沉积时间为5-7min。
通过采用上述技术方案，通过设定Ti靶的电流，并控制Ti层的沉积时间，有利于更好地控制Ti层的厚度，还有利于更好地改善Ti层与消费产品的结合力强度，从而使得酒红色薄膜层与消费产品的结合力强度更佳，有利于更好地延长酒红色薄膜层的耐久性能；另外，还有利于缩短Ti层的沉积时间，使得Ti层的沉积效率更高。
优选的，所述步骤4中，通入氮气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为25-30A，TiN层的沉积时间为30-35min。
通过采用上述技术方案，通过设定Ti靶的电流以及控制TiN层的沉积时间，有利于更好地改善TiN层与Ti层的结合力强度，从而有利于更好地提高酒红色薄膜层与消费产品的结合力强度，使得酒红色薄膜层的耐久性能更好；另外，还有利于更好地缩短TiN层的沉积时间，使得TiN层的沉积效率更高。
优选的，所述步骤5中，通入氮气以及氩气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，开启Al靶，Al靶的电流设定为10-12A，Ti靶的电流设定为25-30A，TiAlN层的沉积时间为30-35min。
通过采用上述技术方案，通过设定Al靶以及Ti靶的电流，并控制TiAlN层的沉积时间，有利于更好地改善TiAlN层的耐磨性能以及与TiAlN层的结合力强度，从而有利于更好地延长酒红色薄膜层的耐久性能；另外，还有利于更好地缩短TiAlN层的沉积时间，使得TiAlN层的沉积效率更高。
优选的，所述步骤6中，通入氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为25-30A，Al靶的电流设定为10-12A，TiAlON层的沉积时间为1-3min。
所述步骤7中，关闭氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为25-30A，Al靶的电流设定为10-12A，TiAlN层的沉积时间为2-4min。
通过采用上述技术方案，通过设定Ti靶以及Al靶的电流，并控制TiAlON层以及TiAlN层的沉积时间，有利于更好地改善TiAlON层的耐磨性能；同时，还有利于更好地控制TiAlON层以及TiAlN层的厚度，使得TiAlON层以及TiAlN层在消费产品表面循环形成酒红色薄膜层后，消费产品正背面的色差更小。
优选的，所述步骤9中，关闭Ti靶和Al靶，通入氩气和氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，重新打开Al靶，Al靶的电流设定为25-30A，Al2O3层的沉积时间为20-25min。
通过采用上述技术方案，通过设定Al靶的电流，并控制Al2O3层的沉积时间，有利于更好地控制Al2O3层的厚度，从而有利于更好地提高酒红色薄膜层的稳定性，使得不同批次的消费表面镀的酒红色薄膜层的色差更小；同时，还有利于更好地改善Al2O3层的耐磨性能，使得酒红色薄膜层的耐久性能更好；另外，还有利于缩短Al2O3层的沉积时间，使得Al2O3层的沉积效率更高。
优选的，所述步骤3中，通入氩气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为20-25A，Ti层的沉积时间为5-7min；
所述步骤4中，通入氮气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为25-30A，TiN层的沉积时间为30-35min；
所述步骤5中，通入氮气以及氩气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，开启Al靶，Al靶的电流设定为10-12A，Ti靶的电流设定为25-30A，TiAlN层的沉积时间为30-35min；
所述步骤6中，通入氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为25-30A，Al靶的电流设定为10-12A，TiAlON层的沉积时间为1-3min；
所述步骤7中，关闭氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，Ti靶的电流设定为25-30A，Al靶的电流设定为10-12A，TiAlN层的沉积时间为2-4min；
所述步骤9中，关闭Ti靶和Al靶，通入氩气和氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为(-80)-(-100)V，重新打开Al靶，Al靶的电流设定为25-30A，Al2O3层的沉积时间为20-25min。
通过采用上述技术方案，通过设定各步骤的靶材的电流以及控制各层的沉积时间，有利于更好地提高酒红色薄膜层与消费产品的结合力强度，使得酒红色薄膜层更加不容易脱落；同时，还有利于更好地改善酒红色薄膜层的耐磨性能，使得酒红色薄膜层的耐久性更好；另外，还使得消费品的正背面更加不容易存在色差，使得不同批次的酒红色薄膜层也不容易存在色差，有利于酒红色薄膜层更好地应用于批量工业化生产中。
另外，不同步骤中的镀膜条件极其相近甚至相同，使得酒红色薄膜层的镀膜操作更加简单方便，且只需要三种气源和两种靶材即可完成酒红色薄膜层的镀膜操作，易于生产控制，有利于酒红色薄膜层的批量工业化生产，使得酒红色薄膜层的应用前景更加广阔、经济效益更高。
优选的，所述步骤2-9中，Ti靶均采用中频磁控溅射镀膜电源。
通过采用上述技术方案，通过采用中频磁控溅射镀膜电源进行镀膜操作，使得酒红色薄膜层的红色更加均匀，使得消费产品的正背面更加不容易存在色差。
优选的，所述步骤2中，当真空镀膜室中的真空度达5×10-3-7×10-3Pa时，通入氩气，使气压达到0.1-0.2Pa，偏压设定为(-300)-(-350)V，离子清洗20-40s。
通过采用上述技术方案，通过控制真空镀膜室中的气压以及控制偏压大小，有利于更好地提高清洁效率以及清洁效果。
综上所述，本申请具有以下有益效果：
1、本申请通过采用Ti层以及TiN层打底，并采用TiAlN层以及TiAlON层重复循环，形成颜色层，并最后采用Al2O3层作为表面层复合形成酒红色薄膜层，有利于提高酒红色薄膜层与消费产品的结合力强度的同时有利于减少消费产品正背面的色差，还有利于更好地提高酒红色薄膜层的耐磨性能。
2、本申请通过采用磁控溅射方法制备酒红色，生产简单方便，还有利于更好地提高酒红色薄膜层的致密性以及纯度，有利于更好地控制各层的厚度，从而使得消费产品的正背面更加不容易存在色差的同时使得酒红色薄膜层的耐磨性能更好。
3、本申请的方法中各步骤的镀膜条件极其相近甚至相同，使得酒红色薄膜层的生产操作更加简单方便，且使得酒红色薄膜层的生产更易于控制，有利于酒红色薄膜层的批量工业化生产。
附图说明
图1是本申请中酒红色薄膜层的结构示意图；
图2是本申请实施例中的消费产品的示意图。
图中，1、消费产品；2、Ti层；3、TiN层；4、TiAlN层；5、TiAlON层；6、Al2O3层；7、顶部；8、底部；9、侧面。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本申请作进一步详细说明。
实施例1
参照图1，本实施例公开一种酒红色薄膜层，包括依次覆盖于消费产品1表面的Ti层2、TiN层3、TiAlN层4、TiAlON层5、TiAlN层4、TiAlON层5、TiAlN层4、TiAlON层5、TiAlN层4、TiAlON层5、TiAlN层4、TiAlON层5、TiAlN层4、Al2O3层6。
本实施例还公开一种酒红色薄膜层的制备方法，包括以下步骤：
步骤1，把要镀膜的消费产品经超声波清洗，再把清洗后的消费产品置于真空镀膜室中加热至220℃，抽真空，并保持真空镀膜室内的温度为220℃。
步骤2，待真空镀膜室内的本底真空度达5×10-3Pa时，通入氩气，并控制氩气的进气量为40sccm，使气压达到0.1Pa，偏压设定为-300V，离子清洗消费产品表面40s。
步骤3，调整氩气的进气量为70sccm，使气压达到0.2Pa，偏压设定为-75V，开启Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Ti靶的电流为15A，沉积Ti层10min，关闭Ti靶。
步骤4，通入氮气，并控制氮气的进气量为90sccm，维持气压为0.2Pa，开启Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Ti靶的电流为20A，沉积TiN层40min，关闭Ti靶。
步骤5，调整氮气的进气量为150sccm，氩气的进气量为50sccm，维持气压为0.2Pa，同时开启Al靶以及Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Al靶的电流为7A，设定Ti靶的电流为20A，沉积TiAlN层40min。
步骤6，通入氧气，维持气压为0.2Pa，并设定Al靶的电流为7A，设定Ti靶的电流为20A，沉积TiAlON层5min。
步骤7，关闭氧气，维持气压为0.2Pa，并设定Al靶的电流为7A，设定Ti靶的电流为20A，沉积TiAlN层5min。
步骤8，重复步骤6以及步骤7的镀膜操作4次。
步骤9，关闭Al靶以及Ti靶，通入氩气以及氧气，维持气压为0.2Pa，重新打开Al靶，并设定Al靶的电流为20A，沉积Al2O3层30min，即得覆盖有酒红色薄膜层的消费产品。
实施例2
与实施例1的区别仅在于：
步骤3中，调整氩气的进气量为80sccm，使气压达到0.3Pa，偏压设定为-80V，开启Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Ti靶的电流为20A，沉积Ti层7min，关闭Ti靶。
步骤4中，调整氮气的进气量为100sccm，维持气压为0.3Pa，开启Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Ti靶的电流为25A，沉积TiN层35min，关闭Ti靶。
实施例3
与实施例1的区别仅在于：
步骤5中，调整氮气的进气量为160sccm，氩气的进气量为60sccm，使气压达到0.3Pa，偏压设定为-80V，同时开启Al靶以及Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Al靶的电流为10A，设定Ti靶的电流为25A，沉积TiAlN层35min。
实施例4
与实施例1的区别在于：
步骤6中，通入氧气，调整气压为0.3Pa，偏压设定为-80V，并设定Al靶的电流为10A，设定Ti靶的电流为25A，沉积TiAlON层3min。
步骤7，关闭氧气，维持气压为0.3Pa，并设定Al靶的电流为10A，设定Ti靶的电流为25A，沉积TiAlN层4min。
实施例5
与实施例1的区别仅在于：
步骤9中，关闭Al靶以及Ti靶，通入氩气以及氧气，使气压达到0.3Pa，偏压设定为-80V，重新打开Al靶，并设定Al靶的电流为25A，沉积Al2O3层25min，即得覆盖有酒红色薄膜层的消费产品。
实施例6
与实施例1的区别在于：
酒红色薄膜层的制备方法包括以下步骤：
步骤1，把要镀膜的消费产品经超声波清洗，再把清洗后的消费产品置于真空镀膜室中加热至270℃，抽真空，并保持真空镀膜室内的温度为270℃。
步骤2，待真空镀膜室内的本底真空度达7×10-3Pa时，通入氩气，并控制氩气的进气量为50sccm，使气压达到0.2Pa，偏压设定为-350V，离子清洗消费产品表面20s。
步骤3，调整氩气的进气量为100sccm，使气压达到0.4Pa，偏压设定为-100V，开启Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Ti靶的电流为25A，沉积Ti层5min，关闭Ti靶。
步骤4，通入氮气，并控制氮气的进气量为120sccm，维持气压为0.4Pa，开启Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Ti靶的电流为30A，沉积TiN层30min，关闭Ti靶。
步骤5，调整氮气的进气量为180sccm，氩气的进气量为70sccm，维持气压为0.4Pa，同时开启Al靶以及Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Al靶的电流为12A，设定Ti靶的电流为30A，沉积TiAlN层30min。
步骤6，通入氧气，维持气压为0.4Pa，并设定Al靶的电流为12A，设定Ti靶的电流为30A，沉积TiAlON层1min。
步骤7，关闭氧气，维持气压为0.4Pa，并设定Al靶的电流为12A，设定Ti靶的电流为30A，沉积TiAlN层2min。
步骤8，重复步骤6以及步骤7的镀膜操作4次。
步骤9，关闭Al靶以及Ti靶，通入氩气以及氧气，维持气压为0.4Pa，重新打开Al靶，并设定Al靶的电流为30A，沉积Al2O3层20min，即得覆盖有酒红色薄膜层的消费产品。
对比例1
一种酒红色薄膜层的制备方法，包括以下步骤：
步骤1，把要镀膜的消费产品经超声波清洗，再把清洗后的消费产品置于真空镀膜室中加热至220℃，抽真空，并保持真空镀膜室内的温度为220℃。
步骤2，待真空镀膜室内的本底真空度达5×10-3Pa时，通入氩气，并控制氩气的进气量为40sccm，使气压达到0.1Pa，偏压设定为-300V，离子清洗消费产品表面40s。
步骤3，通入氧气，使气压达到0.4Pa，偏压设定为-100V，开启Ti靶的中频磁控溅射电源，并设定Ti靶的电流为30A，沉积TiO层90min，即得覆盖有酒红色薄膜层的消费产品。
实验1色差测试
采用色差仪分别检测以上实施例以及对比例制备所得的消费产品的顶部、底部和侧面的L值、a值和b值。其中，消费产品的形状以及消费产品的顶部、底部和侧面的位置示意参照图2。
实验2耐磨性测试
根据GB/T 34501-2017《硬质合金耐磨试验方法》检测以上实施例以及对比例制备所得的消费产品的耐磨性能，记录消费产品表面的体积磨损量(mm3)。其中，体积磨损量(mm3)越高，表明磨损越严重，耐磨性能越差；体积磨损量(mm3)越小，表明被磨损的越少，耐磨性能越好。
实验3膜层结合力强度测试
根据GB/T 28786-2012《真空技术真空镀膜层结合强度测量方法胶带粘贴法》检测以上实施例以及对比例制备所得的消费产品表面酒红色薄膜层的膜层结合力强度等级，其中，等级评价标准如表1所示。
表1
以上实验的检测数据见表2。
表2
根据表2中实施例1-6与对比例1的数据对比可得，实施例1-6制备所得的消费产品的顶部、底部以及侧面的L值两两之间的差值小于对比例1的，同理，实施例1-6的a值以及b值两两之间的差值均分别小于对比例1的，说明通过采用本申请的方法制备酒红色薄膜层，有利于减少消费产品正背面存在色差的情况；同时，实施例1-6的a值大于对比例1的，说明通过采用本申请的方法制备酒红色薄膜层，还有利于提高酒红色薄膜层的红色鲜艳度，有利于更好地提高消费产品的外观效果，使得消费产品更容易吸引消费者；另外，实施例1-6的耐磨性能还远优于对比例1的，说明通过采用本申请的方法制备酒红色薄膜层，还有利于更好地提高酒红色薄膜层的耐磨性能，使得酒红色薄膜层的耐久性延长。
根据表2中实施例1-6的数据对比可得，通过设定靶材的电流以及控制膜层的沉积时间，有利于更好地控制膜层的厚度，从而有利于更好地改善膜层与消费产品的结合力强度，有利于更好地改善膜层的耐磨性能，还有利于更好地减少消费产品正背面的色差，使得覆盖于消费产品表面的酒红色薄膜层的性能更容易满足消费者的需要，有利于更好地提高酒红色薄膜层的经济效益。
以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种酒红色薄膜层，其特征在于：包括依次覆盖于消费产品（1）表面的Ti层（2）、TiN层（3）、TiAlN层（4）、TiAlON层（5）、TiAlN层（4）、TiAlON层（5）、TiAlN层（4）、TiAlON层（5）、TiAlN层（4）、TiAlON层（5）、TiAlN层（4）、TiAlON层（5）、TiAlN层（4）、Al2O3层（6）；包括以下步骤：
步骤1，清洗消费产品（1）表面，并将清洗后的消费产品（1）放入真空镀膜室中加热、抽真空；
步骤2，往真空镀膜室中通入氩气，并对消费产品（1）表面进行离子清洗；
步骤3，开启Ti靶，采用磁控溅射法在消费产品表面沉积Ti层（2）；
步骤4，通入氮气，采用磁控溅射法在Ti层（2）表面沉积TiN层（3）；
步骤5，开启Al靶，采用磁控溅射法在TiN层（3）表面沉积TiAlN层（4）；
步骤6，通入氧气，采用磁控溅射法在TiAlN层（4）表面沉积TiAlON层（5）；
步骤7，关闭氧气，采用磁控溅射法在TiAlON层（5）表面沉积TiAlN层（4）；
步骤8，重复步骤6以及步骤7的镀膜操作4次；
步骤9，关闭Ti靶和Al靶，通入氩气和氧气，重新打开Al靶，采用磁控溅射法在TiAlN层（4）表面沉积Al2O3层（6）；
所述步骤3中，通入氩气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为（-80）-（-100）V，Ti靶的电流设定为20-25A，Ti层（2）的沉积时间为5-7min；
所述步骤4中，通入氮气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为（-80）-（-100）V，Ti靶的电流设定为25-30A，TiN层（3）的沉积时间为30-35min；
所述步骤5中，通入氮气以及氩气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为（-80）-（-100）V，开启Al靶，Al靶的电流设定为10-12A，Ti靶的电流设定为25-30A，TiAlN层（4）的沉积时间为30-35min；
所述步骤6中，通入氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为（-80）-（-100）V，Ti靶的电流设定为25-30A，Al靶的电流设定为10-12A，TiAlON层（5）的沉积时间为1-3min；
所述步骤7中，关闭氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为（-80）-（-100）V，Ti靶的电流设定为25-30A，Al靶的电流设定为10-12A，TiAlN层（4）的沉积时间为2-4min；
所述步骤9中，关闭Ti靶和Al靶，通入氩气和氧气，控制气压为0.3-0.4Pa，偏压设定为（-80）-（-100）V，重新打开Al靶，Al靶的电流设定为25-30A，Al2O3层（6）的沉积时间为20-25min。
2.一种如权利要求1所述的酒红色薄膜层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤1，清洗消费产品（1）表面，并将清洗后的消费产品（1）放入真空镀膜室中加热、抽真空；
步骤2，往真空镀膜室中通入氩气，并对消费产品（1）表面进行离子清洗；
步骤3，开启Ti靶，采用磁控溅射法在消费产品表面沉积Ti层（2）；
步骤4，通入氮气，采用磁控溅射法在Ti层（2）表面沉积TiN层（3）；
步骤5，开启Al靶，采用磁控溅射法在TiN层（3）表面沉积TiAlN层（4）；
步骤6，通入氧气，采用磁控溅射法在TiAlN层（4）表面沉积TiAlON层（5）；
步骤7，关闭氧气，采用磁控溅射法在TiAlON层（5）表面沉积TiAlN层（4）；
步骤8，重复步骤6以及步骤7的镀膜操作4次；
步骤9，关闭Ti靶和Al靶，通入氩气和氧气，重新打开Al靶，采用磁控溅射法在TiAlN层（4）表面沉积Al2O3层（6）。
3.根据权利要求2所述的酒红色薄膜层的制备方法，其特征在于：所述步骤2-9中，Ti靶均采用中频磁控溅射镀膜电源。
4.根据权利要求2所述的酒红色薄膜层的制备方法，其特征在于：所述步骤2中，当真空镀膜室中的真空度达5×10-3-7×10-3Pa时，通入氩气，使气压达到0.1-0.2Pa，偏压设定为（-300）-（-350）V，离子清洗20-40s。
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