CN112987357A - 显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例公开了一种显示面板及其制备方法，所述显示面板包括显示屏体和光控层，显示屏体包括不透明的挡光膜层结构；光控层设置于显示屏体的出光侧，光控层包括光感传感器，光感传感器包括第一栅极、第一半导体层和第一源漏极层；第一栅极的至少一部分在显示屏体的出光面上的正投影与挡光膜层结构在显示屏体的出光面上的正投影重合。本申请中通过将光感传感器的第一栅极和第二栅极与显示屏体上已经存在的挡光膜层结构重叠设置，使得在显示面板中集成光感传感器时增加的遮光面积减少，从而可以提高显示面板的光穿透率和开口率。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
利用光敏半导体等材料的光敏特性，将光控层集成在显示面板上，以实现色温自动调节、远程光感互动和光学指纹识别等功能已成为提高显示产品附加价值的普遍做法。
然而，目前集成有光控层的液晶显示面板中，一部分的背光被光控层遮挡，导致液晶显示面板的光穿透率损失较大。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法，可以解决目前集成有光控层的液晶显示面板中，一部分的背光被光控层遮挡，导致液晶显示面板的光穿透率损失较大的问题。
第一方面，本申请实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括：
显示屏体，所述显示屏体包括不透明的挡光膜层结构；
光控层，所述光控层设置于所述显示屏体的出光侧，所述光控层包括光感传感器，所述光感传感器包括第一栅极、第一半导体层和第一源漏极层；
其中，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述挡光膜层结构在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述挡光膜层结构包括第一金属层和黑色矩阵层，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述第一金属层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合，或/和，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述黑色矩阵层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述光控层还包括开关管，所述开关管包括第二栅极、第二半导体层和第二源漏极层；
其中，所述第二栅极与所述第一栅极同层设置且相间隔，所述第二半导体层与所述第一半导体层同层设置且相间隔，所述第二源漏极层与所述第一源漏极层连接。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述第一金属层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合，或/和，所述第二栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述黑色矩阵层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一金属层包括第三栅极和公共电极；
其中，第三栅极和所述公共电极中的一者与所述第一栅极对应设置，第三栅极和所述公共电极中的另一者与所述第二栅极对应设置。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述显示屏体包括：
阵列基板，所述阵列基板包括第一衬底基板；
彩膜基板，所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置，所述彩膜基板包括第二衬底基板；
其中，所述第一金属层设置于所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板的一侧，所述黑色矩阵层设置于所述第二衬底基板靠近所述阵列基板的一侧。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一栅极和所述第二栅极设置于所述第二衬底基板远离所述阵列基板的一侧上，所述光控层还包括：
第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖所述第一栅极和所述第二栅极；
第一钝化层，所述第一半导体层和所述第二半导体层设置于所述第一绝缘层上，所述第一源漏极层设置于所述第一半导体层和所述第一绝缘层上，所述第二源漏极层设置于所述第二半导体层和所述第二绝缘层上，所述钝化层覆盖所述第一半导体层、第二半导体层、第一源漏极层和第二源漏极层。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一栅极在所述显示屏体的出光面上的正投影覆盖所述第一半导体层在所述显示屏体的出光面上的正投影，所述第二栅极在所述显示屏体的出光面上的正投影覆盖所述第二半导体层在所述显示屏体的出光面上的正投影。
第二方面，本申请还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板的制备方法包括：
S10、在第二衬底基板的一侧上形成驱动层，以形成彩膜基板，并在第二衬底基板远离所述驱动层的一侧上形成光控层，所述光控层包括光感传感器，所述光感传感器包括第一栅极、第一半导体层和第一源漏极层；
S20、将彩膜基板与阵列基板相对设置，彩膜基板上的驱动层朝向所述阵列基板；
S30、将彩膜基板与阵列基板进行拼装，以形成显示屏体，所述显示屏体包括不透明的挡光膜层结构，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述挡光膜层结构在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述步骤S10包括：
S11、在所述第二衬底基板的一侧上形成驱动层，以形成彩膜基板；
S12、在所述驱动层上形成保护层；
S13、将彩膜基板翻转，使得所述第二衬底基板远离所述驱动层的一侧朝上，在所述第二衬底基板远离所述驱动层的一侧上形成光控层。
本申请的有益效果为：本申请中通过将光控层直接形成在显示屏体的出光侧上，相比采用外挂式加全贴合的方式在显示屏体的出光侧上贴合光控层，可以去除光控基板和粘结光控层与显示屏体的粘结层，降低显示面板的整体厚度，同时减少生产成本，同时将光感传感器的第一栅极和第二栅极与显示屏体上已经存在的挡光膜层结构重叠设置，使得在显示面板中集成光感传感器时增加的遮光面积减少，从而可以提高显示面板的光穿透率和开口率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请一实施方式中显示面板的结构示意图；
图2是本申请一实施方式中显示面板的结构示意图；
图3为本申请一实施方式中显示面板的制备步骤示意图；
图4至图11为本申请一实施方式中显示面板的制备流程示意图。
附图标记说明：
10、光控层；111、第一栅极；112、第二栅极；12、第一绝缘层；131、第一半导体层；132、第二半导体层；141、第一源漏极层；142、第二源漏极层；15、第一钝化层；16、第一遮光层；17、导电金属层；20、阵列基板；21、第一衬底基板；221、第三栅极；222、公共电极；23、第二绝缘层；24、第三半导体层；25、第三源漏极层；26、第二钝化层；27、色阻层；28、像素电极；29、第一配向膜层；30、彩膜基板；31、第二衬底基板；32、黑色矩阵层；33、共通电极；34、第二配向膜层；40、液晶层；50、支撑柱；60、光学胶层；70、封装盖板；80、保护层。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
本申请提供一种显示面板，如图1和图2所示，所述显示面板包括显示屏体以及设置于所述显示屏体的出光侧的光控层10。
具体的，所述光控层10包括光感传感器，所述光感传感器用于感应光控操作，以使得显示面板具备色温自动调节、远程光感互动或光学指纹识别等光控功能。
以通过光感传感器实现远程光感互动功能为例，需要对显示面板进行远距离操作时，例如在会议室内通过显示面板进行展示时，展示人员通过手持光束发射器等发射投射光束的器件，光感传感器感应到投射在显示面板上的投射光束时传输光控感应信号给显示面板中的驱动模块，驱动模块根据光控感应信号控制显示面板进行相应的响应，以实现远程光感互动功能。
其中，所述光感传感器包括第一栅极111、第一半导体层131和第一源漏极层141。
需要说明的是，所述第一栅极111的制备材料包括但不限于铜、铜合金、钼、钼合金或铜钼合金等导电性能较好且不透明的金属材料；所述第一栅极111可以为单层金属材料或多层金属依次层叠形成的金属层；所述第一半导体层131的制备材料可以为氢化非晶硅、锗或硅锗等光敏材料；所述第一源漏极层141的制备材料包括但不限于铟锡氧化物半导体、铟镓锌氧化物或掺铝氧化锌等透明导电金属。
具体的，所述光控层10还包括开关管，所述开关管包括第二栅极112、第二半导体层132和第二源漏极层142。
其中，所述第二栅极112与所述第一栅极111同层设置且相间隔，所述第二半导体层132与所述第一半导体层131同层设置且相间隔，所述第二源漏极层142与所述第一源漏极层141连接。
需要说明的是，所述第二源漏极层142的第一端与所述第一源漏极层141的第一端连接，所述第二源漏极层142的第二端可以与驱动模块连接，所述开关管用于控制光感传感器与驱动模块之间的通断，开关管导通时，驱动模块接收光感传感器输出的光控感应信号。
在一实施方式中，所述第一栅极111和所述第二栅极112可以采用相同的材料通过一道制程工艺形成；所述第一半导体层131和第二半导体层132可以采用相同的材料通过一道制程工艺形成，以降低显示面板的整体厚度和成本。
具体的，所述第一源漏极层141包括第一源极和第一漏极，第一源漏极层141的第一端为所述第一源极和所述第一漏极中的一者；所述第二源漏极层142包括第二源极和第二漏极，所述第二源漏极层142的第一端为所述第二源极和所述第二漏极中的一者，所述第二源漏极层142的第二端为所述第二源极和所述第二漏极中的另一者。
具体的，所述光控层10还包括第一绝缘层12和第一钝化层15，所述第一栅极111和所述第二栅极112设置于所述显示屏体的出光侧上，所述第一绝缘层12覆盖所述第一栅极111和所述第二栅极112；所述第一半导体层131和所述第二半导体层132设置于所述第一绝缘层12上，所述第一源漏极层141设置于所述第一半导体层131和所述第一绝缘层12上，所述第二源漏极层142设置于所述第二半导体层132和所述第二绝缘层23上，所述第一钝化层15覆盖所述第一半导体层131、第二半导体层132、第一源漏极层141和第二源漏极层142。
需要说明的是，相比采用外挂式加全贴合的方式在显示屏体的出光侧上贴合光控层10，本申请中通过将光控层10直接形成在显示屏体的出光侧上，可以去除光控基板和粘结光控层10与显示屏体的粘结层，降低显示面板的整体厚度，同时减少生产成本和提高显示面板的光穿透率，并且可以消除因贴合光控层10产生的摩尔纹。
具体的，所述显示屏体包括不透明的挡光膜层结构，所述第一栅极111的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述挡光膜层结构在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
可以理解的是，由于光感传感器包括第一栅极111等不透明的膜层结构，在显示面板上集成光感传感器时，显示面板的一部分的背光会被光感传感器中的第一栅极111等不透明的膜层结构遮挡，从而导致显示面板的光穿透率降低。
而在本申请中，将光感传感器的第一栅极111与显示屏体上已经存在的挡光膜层结构重叠设置，使得在显示面板中集成光感传感器时增加的遮光面积减少，从而提高显示面板的光穿透率和开口率。
在一实施方式中，所述挡光膜层结构包括第一金属层和黑色矩阵层32，所述第一栅极111的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述第一金属层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合，或/和，所述第一栅极111的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述黑色矩阵层32在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
需要说明的是，第一金属层的制备材料可以与第一栅极111相同或不同，通过将第一栅极111与显示屏体中已经存在的第一金属层或/和黑色矩阵层32重叠设置，使得在无需增加显示屏体的制程工艺的前提下，减少在显示面板中集成光感传感器时增加的遮光面积，从而提高显示面板的光穿透率和开口率。
可以理解的是，为了进一步减小设置光感传感器导致增加的遮光面积，也可以设置为挡光膜层结构在所述显示屏体的出光面上的正投影覆盖所述第一栅极111在所述显示屏体的出光面上的正投影。
在一实施方式中，所述第二栅极112的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述第一金属层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合，或/和，所述第二栅极112的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述黑色矩阵层32在所述显示屏体的出光面上的正投影重合，以进一步减少在显示面板中集成光控层10时增加的遮光面积，从而提高显示面板的光穿透率和开口率。
在一实施方式中，所述第一栅极111在所述显示屏体的出光面上的正投影覆盖所述第一半导体层131在所述显示屏体的出光面上的正投影，所述第二栅极112在所述显示屏体的出光面上的正投影覆盖所述第二半导体层132在所述显示屏体的出光面上的正投影。
可以理解的是，将光控层10集成在显示屏体上时，显示屏体的出光面出射的光线照射至第一半导体层131和第二半导体层132上时容易导致误光控，而本申请中利用不透明的第一栅极111和第二栅极112分别对第一半导体层131和第二半导体层132进行遮光，在无需增加遮光膜层结构的前提下，可以防止显示屏体的出光面出射的光线照射至第一半导体层131和第二半导体层132上。
在一实施方式中，所述光控层10还包括设置于所述第一钝化层15上的第一遮光层16，所述第一遮光层16与所述第二半导体层132对应设置，以防止外界光线照射至第二半导体层132上时导致误光控。
在一实施方式中，所述光控层10还包括设置于所述第一钝化层15上的导电金属层17，所述导电金属层17与所述第二源漏极层142和驱动模块连接，以导通所述第二源漏极层142和驱动模块。
具体的，所述显示屏体包括阵列基板20、与所述阵列基板20相对设置的彩膜基板30，以及，设置于所述阵列基板20与所述彩膜基板30之间的液晶层40。
可以理解的是，所述彩膜基板30远离所述阵列基板20的一侧即为所述显示屏体的出光侧，所述彩膜基板30远离所述阵列基板20的一侧的侧面即为所述显示屏体的出光面。
具体的，所述阵列基板20包括第一衬底基板21以及设置于所述第一衬底基板21上的阵列层，所述阵列层包括所述第一金属层以及依次层叠设置的第二绝缘层23和第二钝化层26。
其中，所述第一金属层设置于所述第一衬底基板21靠近所述彩膜基板30的一侧，所述第二绝缘层23覆盖所述第一金属层，所述第二绝缘层23上还设置有第三半导体层24以及第二金属层，所述第二钝化层26覆盖所述第三半导体层24和所述第二金属层。
具体的，所述第一金属层包括第三栅极221和公共电极222，所述第三栅极221与所述第三半导体层24对应设置，所述第二金属层包括设置于所述第三半导体层24和所述第二绝缘层23上的第三源漏极层25，所述第三栅极221与所述第三半导体层24以及所述第三源漏极层25形成驱动晶体管，所述公共电极222用于为驱动晶体管提供公共电压。
在一实施方式中，第三栅极221和所述公共电极222中的一者与所述第一栅极111对应设置，第三栅极221和所述公共电极222中的另一者与所述第二栅极112对应设置。
可以理解的是，参见图1，将第一栅极111和第二栅极112与阵列基板20中的第一金属层重叠设置，并通过对第一栅极111和第二栅极112的位置的设计，可以在不改变阵列基板20上各膜层结构的位置和形状设计的前提下，减小设置光控层10导致增加的遮光面积，从而提高显示面板的光穿透率和开口率。
在一实施方式中，所述阵列基板20还包括设置于所述第二钝化层26上的色阻层27、设置于所述设置层上的像素电极28以及覆盖所述像素电极28的第一配向膜层29，所述像素电极28通过贯穿色阻层27和第二钝化层26的过孔与第三源漏极层25触接。
具体的，所述彩膜基板30包括第二衬底基板31以及设置于所述第二衬底基板31靠近所述阵列基板20的一侧上的驱动层，所述驱动层包括所述黑色矩阵层32以及共通电极33。
其中，所述黑色矩阵层32设置于所述第二衬底基板31靠近所述阵列基板20的一侧，所述共通电极33覆盖所述黑色矩阵层32，所述像素电极28与所述共通电极33均接入驱动电压时，可以利用像素电极28与所述共通电极33之间形成的电场驱动液晶层40中的液晶旋转，以实现画面显示。
在一实施方式中，所述黑色矩阵层32包括多个相间隔的遮光块，所述第一栅极111与一个遮光块对应设置，所述第二栅极112与另一个遮光块对应设置。
可以理解的是，参见图2，将第一栅极111和第二栅极112与彩膜基板30中的黑色矩阵层32重叠设置，并通过对第一栅极111和第二栅极112的位置的设计，可以在不改变彩膜基板30上各膜层结构的位置和形状设计的前提下，减小设置光控层10导致增加的遮光面积，从而提高显示面板的光穿透率和开口率。
在一实施方式中，所述彩膜基板30还包括覆盖所述共通电极33的第二配向膜层34。
在一实施方式中，所述阵列基板20与所述彩膜基板30之间还设置有支撑柱50，所述支撑柱50与所述阵列基板20和所述彩膜基板30触接，以保持所述阵列基板20与所述彩膜基板30之间的间距。
在一实施方式中，所述显示面板还可以包括背光模组，所述背光模组设置于所述阵列基板20远离所述彩膜基板30的一侧，以用于为所述显示屏体提供背光源。
在一实施方式中，所述显示面板还包括封装盖板70，所述封装盖板70设置于所述光控层10远离所述彩膜基板30的一侧上，所述封装盖板70通过光学胶层60与光控层10连接，以用于对光控层10进行保护，所述封装盖板70可以为透明玻璃盖板或透明塑料盖板。
基于上述显示面板，本申请中还提供一种显示面板的制备方法，如图3所示，所述显示面板的制备方法包括：
S10、在第二衬底基板31的一侧上形成驱动层，以形成彩膜基板30，并在第二衬底基板31远离所述驱动层的一侧上形成光控层10，所述光控层10包括光感传感器，所述光感传感器包括第一栅极111、第一半导体层131和第一源漏极层141；
S20、将彩膜基板30与阵列基板20相对设置，彩膜基板30上的驱动层朝向所述阵列基板20；
S30、将彩膜基板30与阵列基板20进行拼装，以形成显示屏体，所述显示屏体包括不透明的挡光膜层结构，所述第一栅极111的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述挡光膜层结构在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
需要说明的是，在所述步骤S10中，可以先形成驱动层后再形成光控层10，也可以先形成光控层10后再形成驱动层。
在一实施方式中，所述步骤S10包括：
S11、在所述第二衬底基板31的一侧上形成驱动层，以形成彩膜基板30；
S12、在所述驱动层上形成保护层80；
S13、将彩膜基板30翻转，使得所述第二衬底基板31远离所述驱动层的一侧朝上，在所述第二衬底基板31远离所述驱动层的一侧上形成光控层10。
需要说明的是，保护层80用于在形成光控层10时对驱动层进行保护，保护层80的制备材料包括但不限于硅基材料或树脂类材料；保护层80可以为单层膜层或多层膜层，保护层80的厚度可以为600～750纳米，如700纳米。
参见图4至图11，图4至图11为一实施方式中显示面板的制备流程示意图。
如图4所示，在第二衬底基板31的正侧上形成图案化的黑色矩阵层32，并在第二衬底基板31的正侧上形成覆盖黑色矩阵层32的共通电极33，从而形成所述驱动层。
在所述共通电极33上形成保护层80，以对所述共通电极33进行保护。
如图5所示，将带有驱动层的第二衬底基板31翻转，在第二衬底基板31的背侧上形成第一栅极111和第二栅极112。
如图6所示，在第二衬底基板31的背侧上形成覆盖所述第一栅极111和所述第二栅极112的第一绝缘层12，在所述第一绝缘层12上形成与所述第一栅极111对应的第一半导体层131，以及，与所述第二栅极112对应的第二半导体层132。
如图7所示，形成位于所述第一半导体层131和第一绝缘层12上的第一源漏极层141，以及，形成位于所述第二半导体层132和第一绝缘层12上的第二源漏极层142；形成覆盖所述第一半导体层131、第二半导体层132、第一源漏极层141和第二源漏极层142的第一钝化层15后，在第一钝化层15上形成延伸至第二源漏极层142的表面的过孔。
如图8所示，在第一钝化层15上形成与第二半导体层132对应的第一遮光层16。
如图9所示，在所述第一钝化层15上形成填充过孔的导电金属层17。
如图10所示，将彩膜基板30进行翻转，使得驱动层朝上后，去除所述保护层80。
如图11所示，将彩膜基板30与阵列基板20相对设置并进行拼装，以形成显示屏体，在所述第一钝化层15上形成覆盖所述第一遮光层16和导电金属层17的光学胶层60，将封装盖板70贴合于光学胶层60上。
本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
显示屏体，所述显示屏体包括不透明的挡光膜层结构；
光控层，所述光控层设置于所述显示屏体的出光侧，所述光控层包括光感传感器，所述光感传感器包括第一栅极、第一半导体层和第一源漏极层；
其中，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述挡光膜层结构在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述挡光膜层结构包括第一金属层和黑色矩阵层，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述第一金属层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合，或/和，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述黑色矩阵层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述光控层还包括开关管，所述开关管包括第二栅极、第二半导体层和第二源漏极层；
其中，所述第二栅极与所述第一栅极同层设置且相间隔，所述第二半导体层与所述第一半导体层同层设置且相间隔，所述第二源漏极层与所述第一源漏极层连接。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述第一金属层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合，或/和，所述第二栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述黑色矩阵层在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层包括第三栅极和公共电极；
其中，第三栅极和所述公共电极中的一者与所述第一栅极对应设置，第三栅极和所述公共电极中的另一者与所述第二栅极对应设置。
6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示屏体包括：
阵列基板，所述阵列基板包括第一衬底基板；
彩膜基板，所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置，所述彩膜基板包括第二衬底基板；
其中，所述第一金属层设置于所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板的一侧，所述黑色矩阵层设置于所述第二衬底基板靠近所述阵列基板的一侧。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一栅极和所述第二栅极设置于所述第二衬底基板远离所述阵列基板的一侧上，所述光控层还包括：
第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖所述第一栅极和所述第二栅极；
第一钝化层，所述第一半导体层和所述第二半导体层设置于所述第一绝缘层上，所述第一源漏极层设置于所述第一半导体层和所述第一绝缘层上，所述第二源漏极层设置于所述第二半导体层和所述第二绝缘层上，所述钝化层覆盖所述第一半导体层、第二半导体层、第一源漏极层和第二源漏极层。
8.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一栅极在所述显示屏体的出光面上的正投影覆盖所述第一半导体层在所述显示屏体的出光面上的正投影，所述第二栅极在所述显示屏体的出光面上的正投影覆盖所述第二半导体层在所述显示屏体的出光面上的正投影。
9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板的制备方法包括：
S10、在第二衬底基板的一侧上形成驱动层，以形成彩膜基板，并在第二衬底基板远离所述驱动层的一侧上形成光控层，所述光控层包括光感传感器，所述光感传感器包括第一栅极、第一半导体层和第一源漏极层；
S20、将彩膜基板与阵列基板相对设置，彩膜基板上的驱动层朝向所述阵列基板；
S30、将彩膜基板与阵列基板进行拼装，以形成显示屏体，所述显示屏体包括不透明的挡光膜层结构，所述第一栅极的至少一部分在所述显示屏体的出光面上的正投影与所述挡光膜层结构在所述显示屏体的出光面上的正投影重合。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S10包括：
S11、在所述第二衬底基板的一侧上形成驱动层，以形成彩膜基板；
S12、在所述驱动层上形成保护层；
S13、将彩膜基板翻转，使得所述第二衬底基板远离所述驱动层的一侧朝上，在所述第二衬底基板远离所述驱动层的一侧上形成光控层。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202110157877.1A CN112987357A (zh) | 2021-02-04 | 2021-02-04 | 显示面板及其制备方法 |
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| CN112987357A true CN112987357A (zh) | 2021-06-18 |
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| CN (1) | CN112987357A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024000410A1 (zh) * | 2022-06-30 | 2024-01-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液晶光控面板及显示装置 |
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| JP2011039125A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置 |
| CN110729309A (zh) * | 2019-09-27 | 2020-01-24 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示面板及其制备方法以及显示装置 |
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2021
- 2021-02-04 CN CN202110157877.1A patent/CN112987357A/zh active Pending
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