CN112961085A - Led可激发分子内敏化型硫鎓盐类化合物及制备方法和应用 - Google Patents
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- -1 sulfonium salt compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 title claims abstract description 5
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 title claims abstract description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 14
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical group [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 7
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 5
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 5
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Substances [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007341 Heck reaction Methods 0.000 claims description 4
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006161 Suzuki-Miyaura coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- PJANXHGTPQOBST-QXMHVHEDSA-N cis-stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C\C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-QXMHVHEDSA-N 0.000 claims description 4
- SUSQOBVLVYHIEX-UHFFFAOYSA-N o-phenylene-diaceto-nitrile Natural products N#CCC1=CC=CC=C1 SUSQOBVLVYHIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical class OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 claims description 4
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910017048 AsF6 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006272 (C3-C7) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 claims description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001347 alkyl bromides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000007962 benzene acetonitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000013538 functional additive Substances 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 claims 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 claims 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 claims 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 4
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N methyl trifluoromethansulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C(F)(F)F OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)germane Chemical compound CC[Ge](Cl)(CC)CC CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPGVTHPGDZTCIZ-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-trifluorophenyl)methanesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)CC1=CC=C(F)C(F)=C1F RPGVTHPGDZTCIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CO1 BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNGZGCFWZHOVOS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methyloctoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCC(C)COCC1CO1 SNGZGCFWZHOVOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKOWGGVJZHBDJA-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCCC1CC2OC2CC1 XKOWGGVJZHBDJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPRZVXVTPSWEB-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-butan-2-ylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound CCC(C)C1=CC=CC=C1OCC1OC1 WAPRZVXVTPSWEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OCC1OC1 HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOQQIEJZBMOSKR-UHFFFAOYSA-N 2-[2,3,4,5-tetramethyl-6-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]phenol Chemical compound CC=1C(C)=C(C)C(C)=C(C=2C(=CC=CC=2)O)C=1OCC1CO1 DOQQIEJZBMOSKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAXBZFDDWPRRD-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methoxyphenyl)propanenitrile Chemical compound COC1=CC=C(CCC#N)C=C1 ORAXBZFDDWPRRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 description 1
- UMLFTCYAQPPZER-UHFFFAOYSA-N 4-(bromomethyl)benzonitrile Chemical compound BrCC1=CC=C(C#N)C=C1 UMLFTCYAQPPZER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QASBCTGZKABPKX-UHFFFAOYSA-N 4-(methylsulfanyl)phenol Chemical compound CSC1=CC=C(O)C=C1 QASBCTGZKABPKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZFGOTFRPZRKDS-UHFFFAOYSA-N 4-bromophenol Chemical compound OC1=CC=C(Br)C=C1 GZFGOTFRPZRKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGGDZDRRHQTSPV-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-n,n-diphenylaniline Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BGGDZDRRHQTSPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ORTNTAAZJSNACP-UHFFFAOYSA-N 6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexan-1-ol Chemical compound OCCCCCCOCC1CO1 ORTNTAAZJSNACP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYCRFCQABTEKC-UHFFFAOYSA-N Diglycidyl resorcinol ether Chemical compound C1OC1COC(C=1)=CC=CC=1OCC1CO1 WPYCRFCQABTEKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100025403 Epoxide hydrolase 1 Human genes 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100451963 Homo sapiens EPHX1 gene Proteins 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- ZAROGGYPTIQLCX-UHFFFAOYSA-N benzonitrile;boric acid Chemical compound OB(O)O.N#CC1=CC=CC=C1 ZAROGGYPTIQLCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1CCCC(C(=O)OCC2OC2)C1C(=O)OCC1CO1 XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-N dichloropalladium;triphenylphosphanium Chemical compound Cl[Pd]Cl.C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000002827 triflate group Chemical group FC(S(=O)(=O)O*)(F)F 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C323/18—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C323/21—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton with the sulfur atom of the thio group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring being part of a condensed ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
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- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
- C09D163/10—Epoxy resins modified by unsaturated compounds
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Abstract
本发明涉及新材料有机化学品技术领域,LED可激发分子内敏化型硫鎓盐类化合物及制备方法和应用,特别涉及式(I)所示非共轭型硫鎓盐型结构的新化合物,其化学制备工艺技术,其作为辐射固化光敏引发剂的用途,以及其在辐射固化配方产品,特别是在阳离子光固化涂料或油墨,等诸多场合的应用用途。
Description
技术领域
本发明属于新材料有机化学品技术领域,具体涉及一种LED光源可激发的分子内敏化型硫鎓盐类化合物及其制备方法和应用
背景技术
光固化是指在光照(紫外或可见光)下,光引发剂产生活性种(自由基或者阳离子等)引发单或者多官能度的低聚物和/或活性稀释剂进行链式聚合反应,快速形成高度交联的聚合物网络的一种聚合反应。因此,其具有快速、高效、操作简便、可以实现时间-空间可控等优点,在被广泛应用于涂料、胶黏剂、油墨以及生物医药、3D打印等领域中,具有极高的商业价值。实现光固化的配方中通常含有光引发剂、活性稀释剂、低聚物和各种助剂,而配方体系中大多数单体都不能在光照作用下产生有效的引发活性种,因此,光引发剂成为光固化配方中至关重要的组分,其活性直接影响光固化速率、固化程度以及终端产品性能。
但是传统的光固化技术采用汞灯作为光源,汞灯能耗较高,而且会产生臭氧,破坏环境,不利于实现可持续发展,目前已经逐渐被新型的光源取代。例如新兴的LED光源,但是,LED 光源的波长较长,与传统的光引发剂吸收波长并不匹配,难以实现高效的光引发效率,为此开发一系列高效的LED光引发剂成为了新的研究热点。二苯乙烯以及联苯及其衍生物由于具有良好的平面共轭结构,是一大类非常重要的生色团,有望成为高感光性、高稳定性、且易于制备的LED光引发剂的吸光基团。然而,在这类分子结构中直接引入光可裂解基团,往往会带来比较复杂且成本较高的有机合成过程。
因此,解决二苯乙烯/联苯类光引发剂有机合成与性能的矛盾,合成对LED光源敏感的、在光固化领域中具有高感光性、稳定性高、且易于制备的光引发剂是我们要做的技术挑战。
发明内容
本发明人等针对现有技术中的不足进行了深入研究后发现,通过将硫鎓盐通过柔性链与共轭体系连接,获得的本发明的式(I)所示的非共轭型硫鎓盐通过分子内电子或者能量转移使得其吸收峰红移到近紫外-可见光区域,在350nm以上波长处具有良好吸收。由此,本发明的式(I)所示的硫鎓盐衍生物与目前商品化的LED光源的发射波长进一步重叠,从而使激发效率得以提高。
进一步,本发明的式(I)所示的非共轭的硫鎓盐衍生物的制备方法不仅方法简便,并且产率高、成本低,适合工业化的生产和应用。本发明的式(I)所示的非共轭型硫鎓盐衍生物作为光生酸剂具有良好应用前景。
具体地,本发明提供下述方案:
第一方面,本发明提供下述的式(I)所示的非共轭型硫鎓盐衍生物,
R1是氢或者被1-4个Ra取代的C1-6的烷基、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-CF2CF3、-CF3、 -NO2、-NRbRb、-ORb、-SRb、-C(=O)Rb、-CO2Rb、-OC(=O)Rb、-NRbC(=O)Rb、-S(=O)Rb、-S(=O)2Rb;
R2、R3各自独立地选自C1-12的烷基、未取代或者被1-5个R4取代的苄基、未取代或者被1-5个R4取代的苯基;
R4各自独立地选自未取代或者被1-5个Ra取代的C1-6的烷基、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-CF2CF3、-CF3、-NO2、-NRbRb、-ORb、-SRb、-C(=O)Rb、-CO2Rb、-OC(=O)Rb、-NRbC(=O)Rb、 -S(=O)Rb、-S(=O)2Rb、未取代或者被1-5个Rc取代的碳环,未取代或者被1-5个Rd取代的杂环、或者、P(=O)(ORb)2;
Ra各自独立地选自C1-6烷基、(CH2)rC3-6环烷基或者-(CH2)r苯基;
Rb各自独立地选自H、未取代或者被1-5个Re取代的C1-6烷基、未取代或者被1-5个Re取代的-(CH2)rPh;
Rc各自独立地选自未取代或者被1-5个Re取代的C1-6烷基、未取代或者被1-5个Re取代的(CH2)rPh;
Rd各自独立地选自未取代或者被1-5个Re取代的C1-6烷基、未取代或者被1-5个Re取代的(CH2)rPh;
Re各自独立地选自-F、-Cl、-Br、-I、-OH、-NO2、-CN,-CF3、-CF2CF3、C1-4烷基、C1-4烷氧基、C3-7环烷基、苯基、苄基、苯乙基、萘基、杂环芳基、或者、酮基;
r各自独立地为0、1、2、3或者4;
X是-CH=CH-或-C(CN)=CH-,或X不存在(即式(I)化合物是联苯结构为共轭体系);
n取值1-16之间的整数,优选的,n取值1-6之间的整数,更优选的,n取值2,4,6;
Y-是对应的阴离子,优选的选自Cl-、CF3SO3 -、CH3SO3 -、p-MePhSO3 -、BF4 -、B(Ph)4 -、 B(PhF5)4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、或者Al(Perfluoro-t-BuO)4 -;
第二方面,制备部分通式(I)所示非共轭型硫鎓盐类化合物的方法:
自溴代苯酚或者对羟基苯甲醛出发,可以与二溴代烷在KI催化下,利用碱为缚酸剂成醚,然后剩余的烷基溴再与羟基取代苯基烷基硫醚成中间体(I)-a和(I)-b。这类成醚反应在在适当的碱Base作用下即可高产率的制备,Base可以是碳酸钾,叔丁醇钾,NaH等等。
中间体(I)-a和(I)-b分别再通过与取代苯硼酸,取代苯乙烯,取代苯乙腈发生Suzuki-Miyaura、 Heck反应及在碱Base存在下发生脱水反应即可制备出中间体(I)-c:
Suzuki-Miyaura和Heck反应需要用到Pd催化剂,在无水无氧的反应情况下制备,产率较高。取代苯乙腈与带醛基的(I)-b反应条件温和,在碱的作用下即可实现生成二苯乙烯的中间体,此处的Base应为强碱,优选的如甲醇钠,乙醇钠,氢化钠,叔丁醇钾等。普通的无机碱也可以使用,但是产物中会包含顺式二苯乙烯。最后,(I)-c在三氟甲烷磺酸酯作用下生成目标产物硫鎓盐,直接得到阴离子是CF3SO3 -的硫鎓盐。当需要置换对应的阴离子时,则采用简单的盐交换方法即可实现。具体的见后文实施例。
第三方面,通式(I)所示具有柔性链链接共轭体系和硫鎓盐型化合物在光固化配方体系中作为光引发剂或其他功能性添加剂成分的用途,及在化学合成中作为中间体或原料或试剂的用途。
本发明的光固化组合物含有前述的本发明的硫鎓盐及其衍生物和可聚合成分,前述可聚合成分包含具有烯键或者环氧基的单体或聚合物。
本发明的光固化组合物中,优选地,相对于所述可聚合成分的总量100重量份,前述式(I) 所示的硫鎓盐及其衍生物的含量为0.1~15重量份。更优选地,前述式(I)所示的硫鎓盐及其衍生物的含量为0.5~10重量%。
作为前述的具有烯键的单体,例如可以列举出例如,(甲基)丙烯酸酯,丙烯醛,烯烃,共轭双烯烃,苯乙烯,马来酸酐,富马酸酐,乙酸乙烯酯,乙烯基吡咯烷酮,乙烯基咪唑,(甲基)丙烯酸,(甲基)丙烯酸衍生物例如(甲基)丙烯酰胺,乙烯基卤化物,亚乙烯基卤化物等。
作为前述的具有环氧基的单体,例如可以列举出例如单官能缩水甘油醚类、多官能脂肪族缩水甘油醚类、多官能芳香族缩水甘油醚类、缩水甘油酯类、脂肪族环氧化合物等。
作为单官能缩水甘油醚类,例如可以列举出,烯丙基缩水甘油醚、丁基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、2-乙基己基缩水甘油醚、仲丁基苯基缩水甘油醚、叔丁基苯基缩水甘油醚、2-甲基辛基缩水甘油醚等。
作为多官能脂肪族缩水甘油醚类,可以列举出例如,1,6-己二醇缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚等。
作为多官芳香族缩水甘油醚类,可以列举出例如,双酚A缩水甘油醚、双酚F缩水甘油醚、溴化双酚A缩水甘油醚、联苯酚缩水甘油醚、四甲基联苯酚缩水甘油醚、间苯二酚缩水甘油醚等。
作为缩水甘油酯类,可以列举出例如,丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、邻苯二甲酸二缩水甘油酯、六氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯等。
作为脂肪族环氧化合物,可以列举出例如,3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己基甲酸酯、 3,4-环氧环己基乙基-3,4-环氧环己基甲酸酯、乙烯环己烯基二氧化物、丙烯基环己烯基二氧化物、3,4-环氧-4-甲基环己基-2-丙烯基氧化物等。
本发明的光固化组合物中,前述的可聚合成分也可以为低聚物或预聚物等聚合物的形式,或者是由单体、低聚物、预聚物中的至少一种形成的共聚物。另外,也可以是水性分散体的形式。
作为这样的含烯键的聚合物,可以列举出例如(甲基)丙烯酰官能基的(甲基)丙烯酸共聚物,聚氨酯甲酸酯(甲基)丙烯酸酯,聚酯(甲基)丙烯酸酯,不饱和聚酯,聚醚(甲基)丙烯酸酯,硅氧烷(甲基)丙烯酸酯,环氧树脂(甲基)丙烯酸酯等,以及上述物质的水溶性或水分散性的类似物。
作为前述的含环氧基的聚合物,例如可以是含有环氧基的聚合物或者树脂,如双酚A环氧树脂、二环戊二烯型环氧树脂、二氨基二苯基甲烷型环氧树脂、氨基苯酚型环氧树脂、萘型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、联苯型环氧树脂、氢化联苯型环氧树脂、脂肪式环氧树脂等。
对于本发明的要旨,我们将结合下述系列实施例进一步说明。
符合通式(I)结构的示例性化合物列举如下:
本发明的式(I)所示的硫鎓盐衍生物中,优选地,Y-选自卤素、含氧酸根、硼酸根、磷酸根、锑酸根、或者、铝酸根。进一步优选地,Y-选自CF3SO3 -、CH3SO3 -、p-MePhSO3 -、BF4 -、 B(Ph)4 -、B(PhF5)4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、或者Al(Perfluoro-t-BuO)4 -。
与商品化的4-羟基苯基二烷基硫鎓盐类光引发剂相比,本发明涉及的光引发剂因为在分子结构中引入了二苯乙烯等吸光基团,因此,在365-395nm紫外光范围内有较好的吸光性能,与目前得到广泛发展的LED光源有良好的匹配性,有利于光化学反应的顺利、快速进行,因此有广泛的应用前景。
实施例
为了更清楚地说明本公开,下面结合优选实施例对本公开做进一步的说明。本领域技术人员应当理解,下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的,不应以此限制本公开的保护范围。
实施例1:按照下列路线合成中间体(I)-1a和(I)-1b
首先,利用对羟基苯甲硫醚(1当量)与二溴代烷(5当量)在碳酸钾(1当量)和碘化钾(0.01当量)的催化下,丙酮溶液(每克反应物10毫升溶剂)中回流24小时,过滤掉无机盐,减压蒸馏掉溶剂和过量的二溴代烷,产物经柱层析或者重结晶即可制得纯品,产率90-95%。
其次,等当量的化合物(1)分别对溴苯酚或者是对羟基苯甲醛反应,反应条件是上一步完全一致,TLC监测反应结束后,过滤掉无机盐,经柱层析或者重结晶即可成功制备出中间体(I)-1a和(I)-1b,其中n等于1、2或者3。产率,(I)-1a:91%;(I)-1b:93%。
实施例2:制备硫鎓盐(I)-2
具体的反应如下所示:
首先,1当量的4-乙烯基三苯胺和1当量的中间体(I)-1a,溶于干燥的DMF中(每克样品 /十毫升),加入0.03当量的二(三苯基膦)氯化钯为催化剂,抽真空、充氮气三次后,在100℃油浴中反应10小时,TLC监测反应结束。减压除去DMF,用二氯甲烷萃取,饱和食盐水洗涤,干燥后经乙醇重结晶得到目标产物(I)-2c,产率87%。
其次,硫鎓盐前体(I)-2c(1当量)与三氟甲烷磺酸甲酯(1当量)在无水二氯甲烷溶液(每克样品/十毫升)室温搅拌24小时,TLC监测反应结束,直接柱层析除去未反应的原材料即可得到产品,对应的阴离子是三氟甲烷磺酸根,产率92%。
实施例3:制备硫鎓盐(I)-3
利用Suzuki反应制备,具体的反应如下所示:
首先,1当量的4-氰基苯硼酸和1当量的(I)-1a加入到含有甲苯/乙醇/水溶液中(每克样品 /10毫升溶剂,三种溶剂体积比为5∶3∶1),加入1当量的碳酸钾作为敷酸剂,再加入0.1当量的四(三苯基膦)钯做催化剂,抽真空-充氮气循环三次后,至于油浴中加热回流反应10小时,TLC监测反应结束后萃取,用饱和食盐水洗涤,无水硫酸钠干燥,蒸干溶剂后硅胶柱层析提纯,产率90%。
最后,与实施例2一致,通过与三氟甲烷磺酸甲酯反应,即可制备出目标产物(I)-3,对应的Y是三氟甲烷磺酸根,产率94%。
实施例4:制备具有不同阴离子的硫鎓盐
将1g实施例2或实施例3中制备的(I)-2或(I)-3(三氟甲烷磺酸根的硫鎓盐)溶于10毫升丙酮中,滴加入20毫升六氟磷酸钾饱和溶液中,搅拌30分钟,抽滤析出的固体,用去离子水洗涤,烘干,即可制备出阴离子是六氟磷酸根的硫鎓盐,产率是92-95%。
同样,可以将三氟甲烷磺酸根的丙酮溶液加入到六氟锑酸钠的饱和溶液中,即可制备出阴离子为六氟锑酸根的硫鎓盐,产率92-95%。
实施例5:(I)-10的合成
具体反应路线如下所示:
首先,1当量的4-甲氧基苯乙腈和1当量的(I)-1溶于10倍质量的THF中,常温下分批加入1当量的氢化钠(分小份加入),然后室温搅拌3小时,TLC监测反应结束。加入饱和氯化铵溶液淬灭氢化钠,蒸干THF,用二氯甲烷萃取三次,饱和食盐水洗涤,蒸干溶剂后用无水乙醇重结晶,产率93%。
然后,与上述实施例2中硫鎓盐的制备方法一致,与三氟甲烷磺酸甲酯反应得到目标产物硫鎓盐,对应的Y是三氟甲烷磺酸根,产率94%。
通过如实施例4的方法即可实现盐交换,制备出具有不同阴离子的硫鎓盐。
实施例6:(I)-13合成
首先,利用(I)-10c为反应物,在无水的二氯甲烷中加入等当量的三氟甲烷磺酸银,置于冰水浴中,在0-5℃下用注射器注入苄溴,避光反应24小时。用硅胶柱直接用二氯甲烷淋洗掉反应物,然后用体积比10∶1的二氯甲烷比甲醇淋洗出产物,即为硫鎓盐(I)-13·CF3SO3 -,产率 85%。
其他类型的阴离子通过盐交换方法即可成功制备。
实施例7:(I)-16合成
首先,利用(I)-10c为反应物,在无水的二氯甲烷中加入等当量的三氟甲烷磺酸银,置于冰水浴中,在0-5℃下用注射器注入4-氰基苄溴,避光反应24小时。用硅胶柱直接用二氯甲烷淋洗掉反应物,然后用体积比10∶1的二氯甲烷比甲醇淋洗出产物,即为硫鎓盐(I)-16·CF3SO3 -,产率83%。
其他类型的阴离子通过盐交换方法即可成功制备。
实施例8:目标产物的表征
实施例中的各个目标分子通过质谱进行了表征。具体如下表所示。因为阴离子不能在质谱中显示出来,因此对应的分子量均为硫鎓盐的阳离子峰:
目标分子 | 分子式 | 理论分子量 | 测试分子量 |
(I)-2·CF<sub>3</sub>SO<sub>3</sub><sup>-</sup> | C<sub>36</sub>H<sub>34</sub>NO<sub>2</sub>S<sup>+</sup> | 544.2 | 544.2 |
(I)-3·CF<sub>3</sub>SO<sub>3</sub><sup>-</sup> | C<sub>23</sub>H<sub>22</sub>NO<sub>2</sub>S<sup>+</sup> | 376.1 | 376.1 |
(1)-2·PF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>36</sub>H<sub>34</sub>NO<sub>2</sub>S<sup>+</sup> | 544.2 | 544.2 |
(1)-3·PF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>23</sub>H<sub>22</sub>NO<sub>2</sub>S<sup>+</sup> | 376.1 | 376.1 |
(1)-2·SbF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>36</sub>H<sub>34</sub>NO<sub>2</sub>S<sup>+</sup> | 544.2 | 544.2 |
iI)-3·SbF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>23</sub>H<sub>22</sub>NO<sub>2</sub>S<sup>+</sup> | 376.1 | 376.1 |
i1)-10·CF<sub>3</sub>SO<sub>3</sub><sup>-</sup> | C<sub>26</sub>H<sub>26</sub>NO<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 432.2 | 432.2 |
(I)-10·PF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>26</sub>H<sub>26</sub>NO<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 432.2 | 432.2 |
(I)-10·SbF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>26</sub>H<sub>26</sub>NO<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 432.2 | 432.2 |
(11-13·CF<sub>3</sub>SO<sub>3</sub><sup>-</sup> | C<sub>32</sub>H<sub>30</sub>NO<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 508.2 | 508.2 |
(I)-13·PF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>32</sub>H<sub>30</sub>NO<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 508.2 | 508.2 |
(I)-13·SbF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>32</sub>H<sub>30</sub>NO<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 508.2 | 508.2 |
(I)-16·CF<sub>3</sub>SO<sub>3</sub><sup>-</sup> | C<sub>33</sub>H<sub>29</sub>N<sub>2</sub>O<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 533.2 | 533.2 |
(1)-16·PF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>33</sub>H<sub>29</sub>N<sub>2</sub>O<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 533.2 | 533.2 |
(I)-16·SbF<sub>6</sub><sup>-</sup> | C<sub>33</sub>H<sub>29</sub>N<sub>2</sub>O<sub>3</sub>S<sup>+</sup> | 533.2 | 533.2 |
实施例9:(I)-2·PF6 -的LED光固化实验以及涂料性质测试
含环氧基团样品体系按下列配方制作(以重量百分比计)
双功能团树脂(EPOX):97%
光引发剂((I)-2·PF6 -):3%
将上述配制实施例混合物涂覆于卡纸板上形成约25-30微米的涂层,以广州和光同盛公司生产的单位功率为64mW/cm2的发射波长为365纳米的LED光源(3厘米宽和40厘米长LED 面光源)为激发光源,放置于变速传送带。以指甲反复压刻刮擦不产生印迹为光聚合固化完成的判据。
结果表明含有本实施例的化合物均以高于25米/分钟的速度高效固化。
对上述通过光固化得到的涂层通过手摇铅笔硬度计进行硬度测试,测得其硬度为4H。
实施例10:(I)-2·SbF6 -的LED光固化实验以及涂料性质测试
含环氧基团样品体系按下列配方制作(以重量百分比计)
单功能团树脂(CHO):98.5%
光引发剂((I)-2·SbF6 -):1.5%
将上述配制实施例混合物涂覆于卡纸板上形成约30-35微米的涂层,以广州和光同盛公司生产的单位功率为64mW/cm2的发射波长为365纳米的LED光源(3厘米宽和40厘米长LED 面光源)为激发光源,放置于变速传送带。以指甲反复压刻刮擦不产生印迹为光聚合固化完成的判据。
结果表明含有本实施例的化合物均以高于30米/分钟的速度高效固化。
对上述通过光固化得到的涂层通过手摇铅笔硬度计进行硬度测试,测得其硬度为4H。
上述对实施例的描述是为了便于该技术领域的普通技术人员能理解和使用本发明。熟悉本领域技术人员显然可以容易的对这些实施例做出各种修改,并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中,而不必经过创造性的劳动。因此,本发明不限于上述实施例。本领域技术人员根据本发明的原理,不脱离本发明的范畴所做出的改进和修改都应该在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种LED可激发分子内敏化型硫鎓盐类化合物,特征是,通式(I)所示通过柔性链联接的含共轭体系的硫鎓盐类的化合物:
在上述通式(I)化合物结构中:
R1是氢或者被1-4个Ra取代的C1-6的烷基、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-CF2CF3、-CF3、-NO2、-NRbRb、-ORb、-SRb、-C(=O)Rb、-CO2Rb、-OC(=O)Rb、-NRbC(=O)Rb、-S(=O)Rb、-S(=O)2Rb;
R2、R3各自独立地选自C1-12的烷基、未取代或者被1-5个R4取代的苄基、未取代或者被1-5个R4取代的苯基;
R4各自独立地选自未取代或者被1-5个Ra取代的C1-6的烷基、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-CF2CF3、-CF3、-NO2、-NRbRb、-ORb、-SRb、-C(=O)Rb、-CO2Rb、-OC(=O)Rb、-NRbC(=O)Rb、-S(=O)Rb、-S(=O)2Rb、未取代或者被1-5个Rc取代的碳环,未取代或者被1-5个Rd取代的杂环、或者、P(=O)(ORb)2;
Ra各自独立地选自C1-6烷基、(CH2)rC3-6环烷基或者-(CH2)r苯基;
Rb各自独立地选自H、未取代或者被1-5个Re取代的C1-6烷基、未取代或者被1-5个Re取代的-(CH2)rPh;
Rc各自独立地选自未取代或者被1-5个Re取代的C1-6烷基、未取代或者被1-5个Re取代的(CH2)rPh;
Rd各自独立地选自未取代或者被1-5个Re取代的C1-6烷基、未取代或者被1-5个Re取代的(CH2)rPh;
Re各自独立地选自-F、-Cl、-Br、-I、-OH、-NO2、-CN,-CF3、-CF2CF3、C1-4烷基、C1-4烷氧基、C3-7环烷基、苯基、苄基、苯乙基、萘基、杂环芳基、或者、酮基;
r各自独立地为0、1、2、3或者4;
x是-CH=CH-或-C(CN)=CH-,或X不存在(即式(I)化合物是联苯结构为共轭体系);
n取值1-16之间的整数,优选的,n取值1-6之间的整数,更优选的,n取值2,4,6;
Y-是对应的阴离子,优选的选自Cl-、CF3SO3 -、CH3SO3 -、p-MePhS03 -、BF4 -、B(Ph)4 -、B(PhF5)4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、或者Al(Perfluoro-t-BuO)4 -。
2.一种制备权利要求1部分通式(I)所示非共轭型硫鎓盐类化合物的方法,特征是:
自溴代苯酚或者对羟基苯甲醛出发,与二溴代烷在KI催化下,利用碱为缚酸剂成醚,然后剩余的烷基溴再与羟基取代苯基烷基硫醚成中间体(I)-a和(I)-b;这类成醚反应在在碱Base作用下即可高产率的制备,Base是碳酸钾,叔丁醇钾或NaH;
中间体(I)-a和(I)-b分别再通过与取代苯硼酸,取代苯乙烯,取代苯乙腈发生Suzuki-Miyaura、Heck反应及在碱Base存在下发生脱水反应即可制备出中间体(I)-c:
Suzuki-Miyaura和Heck反应需要用到Pd催化剂,在无水无氧的反应情况下制备,产率较高。取代苯乙腈与带醛基的(I)-b反应条件温和,在碱的作用下即可实现生成二苯乙烯的中间体,此处的Base应为强碱,优选的如甲醇钠,乙醇钠,氢化钠,叔丁醇钾等。普通的无机碱也可以使用,但是产物中会包含顺式二苯乙烯。最后,在无水溶剂中,优选的如二氯甲烷,(I)-c在三氟甲烷磺酸酯作用下生成目标产物硫鎓盐,直接得到阴离子是CF3SO3 -的硫鎓盐。当需要置换对应的阴离子时,则采用简单的盐交换方法即可实现。
3.如权利要求所述通式(I)所示化合物的应用,其特征是,应用于具有柔性链链接共轭体系和硫鎓盐型化合物在光固化配方体系中作为光引发剂或其他功能性添加剂成分的用途,及在化学合成中作为中间体或原料或试剂的用途。
4.如权利要求3所述应用,其特征是,通式(I)化合物的,可经由光(紫外或可见光或LED光或等价光源)辐射固化的混合物;该类光辐射固化配方体系的特征是:
(1)含有至少一种通式(I)所描述的化合物作为光引发剂或光引发剂组分之一;且
(2)含有至少一种含烯键(C=C)不饱和和环氧类等可聚合化合物;
以体系中可聚合组分总量每100份重量计算,含有的通式(I)化合物的合适的量是0.01-30重量份,优选0.5-10重量份。
5.如权利要求4所述应用,其特征是,光固化涂料或油墨,特别是LED可固化涂料或油墨,在喷墨打印,纸张印刷,粘合剂,木器涂装,塑胶涂装,汽车涂装,包装材料,显示技术,建筑材料,柔性电子,光伏材料等领域的应用。
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