CN112945102A - 一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法 - Google Patents

一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿的方法，将激光器发出的光源经光学系统准直和扩束后通过图形发生器，导入特定的图形到可编辑的连接控制器的图形发生器中，再经过倾斜的分束镜，通过透镜组并聚焦，再经过激光切割头切割，移动精密平台，使得导入的图形依次有规律标刻在玻璃基板上，并通过二次元测量工具对玻璃基板上的标记点进行测量，获得对应点的坐标，图形经分束镜反射到CCD相机中，再由图像处理器件保存得到的图形并记录数据，获得二维数据表。本发明以合适的激光器和切割头可以组成测量仪器，耗材采用价格便宜的玻璃基板，将测量头安装在Z轴上，当精密平台移动，可以自动化完成标记工作，使用简单并且价格便宜。

Description

一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法
技术领域
本发明涉及的是玻璃切割技术领域，特别涉及一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法和系统。
背景技术
精密平台因为机械加工精度的限制，往往需要安装好之后做些补偿，其中包括XY平面的二维补偿，也称为XY补偿、平面补偿。二维补偿需要测量出平台在XY平面各点内的二维误差，绘制成数据表格，并导入控制器，完成补偿。
传统的精密定位平台定位精度的补偿主要是利用激光干涉仪，测量出定位平台每个位置处的位置偏差并记录，补偿给控制器。采用激光干涉仪价格昂贵，且有禁运条例限制。如果仅测量和补偿单轴的定位精度，采用单轴的激光干涉仪即可，若对XY集成平台进行二维平面各个位置处定位精度的测量和补偿，则需要长度可覆盖XY轴行程的反射镜，成本较单轴补偿进一步增高，此做法对环境要求很高，需具备稳定的温湿度、洁净度等，且搭建此测量系统需要经过复杂的调整过程。另一种补偿的方式是视觉二维标定板，但使用起来非常繁琐，几乎没有什么工业实用性。
发明内容
鉴于上述问题，提出了本发明以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法。
为了解决上述技术问题，本申请实施例公开了如下技术方案：
一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，包括：
S100.激光器发出的光源经光学系统准直和扩束后通过图形发生器；
S200.导入预设的图形到图形发生器中，通过图形发生器和分束镜的光线，经过透镜组聚焦，再经过激光切割头切割；
S300.移动精密平台，调整精密平台的XY轴，使得导入到图形发生器中的图形每个点依次有规律标刻在玻璃基板上，并通过二次元测量仪对玻璃基板上的标刻点进行测量，获得对应点的坐标，通过坐标对精密平台进行精度计量；
S400.将玻璃基板上生成的图形经分束镜反射到CCD相机中，再由图像处理器件捕捉图形并记录每个坐标数据，获得二维数据表；
S500.将二维数据表传递到精密平台控制器系统中，由平台控制器系统内部做插值处理，进行二维补偿，提高精密平台XY平面内各个精细位置的定位精度。
进一步地，S100中，激光器发出的光源经光学系统准直和扩束后，变成平行光束。
进一步地，S200中，图形发生器由计算机系统控制，通过计算机系统控制可以编辑图形和设定对应的参数。
进一步地，S200中，导入到图形发生器中的预设图形为正方形点阵，其中， X轴和Y轴均为31个点，两点之间间距为10mm。
进一步地，S200中，分束镜将光线分束，使得经过透镜组的光线能聚焦。
进一步地，S200中，激光切割头连接控制器，通过控制器可以改变激光切割头Z轴的方向。
进一步地，S300中，精密平台连接电机，电机连接控制器，通过控制器可以实现精密平台XY方向的移动。
进一步地，S300中，玻璃基板上的标刻点呈二维分布，XY方向标记点之间的间距相等，且覆盖精密平台XY轴的全行程。
进一步地，S300中，通过坐标对精密平台进行精度计量的方法为：
移动精密平台，将标记点移至CCD相机视野内，移动Z轴找到焦平面，初始化精密平台后移至(0,0)，以此为测试的基准点，记作(X0,Y0)，沿X 方向移动n距离，将标记点移至CCD相机视野中心，记录居中后平台坐标(X11， Y11)，可以计算出与理论坐标的偏差Xe＝X11-(X0+n)，Ye＝Y11-Y0；重复该步骤可以得到XY方向的一系列点坐标偏差。
进一步地，标记点是以初始化精密平台移至原点并居中为基准点，的每个标记点都是位于CCD相机视场中心，再以XY方向等间距取点，双向各31个点，总数超过900个。
本发明实施例提供的上述技术方案的有益效果至少包括：
本发明公开的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，采用玻璃切割技术，将轴的运动轨迹通过激光标刻在玻璃基板上，然后用某种高精度测量工具对玻璃基板上的轨迹进行测量，获取二维数据表，通过二维数据表对精密平台的精度进行计量与补偿。
本发明以合适的激光器和切割头可以组成测量仪器，耗材采用价格便宜的玻璃基板，将测量头安装在Z轴上，当精密平台移动，切割就可以自动化完成标记工作，使用简单并且价格便宜。
下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1为本发明实施例1中，一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法的流程图；
图2为本发明实施例1中，一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法示意图；
图3为本发明实施例1中，玻璃基板标记分布示意图；
图4为本发明实施例1中，经测量后实际数据与理论数据的偏差值表格。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
为了解决现有技术中存在的问题，本发明实施例提供一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法。
实施例1
本实施例公开了一种基于玻璃切割技术的精密平台7精度计量与补偿方法，如图1和2，包括：
S100.激光器1发出的光源经光学系统2准直和扩束后通过图形发生器3；具体地，激光器1发出的光源经光学系统2准直和扩束后，变成平行光束。
S200.导入预设的图形到图形发生器3中，通过图形发生器3和分束镜4 的光线，经过透镜组5聚焦，再经过激光切割头6切割。
具体的，本实施例中，图形发生器3由计算机系统控制，通过计算机系统控制可以编辑图形和设定对应的参数。
在本实施例中，导入到图形发生器3中的预设图形为正方形点阵，其中， X轴和Y轴均为31个点，总数超过900个，两点之间间距为10mm，如图3。
在本实施例中，分束镜4将光线分束，使得经过透镜组5的光线能聚焦。
在本实施例中，激光切割头6连接控制器，通过控制器可以改变激光切割头6Z轴的方向。激光切割头6位于光线汇聚的焦平面，并采用特殊整形镜片，实现圆行光斑切割；
S300.移动精密平台7，调整精密平台7的XY轴，使得导入到图形发生器 3中的图形每个点依次有规律标刻在玻璃基板8上，并通过二次元测量仪对玻璃基板8上的标刻点进行测量，获得对应点的坐标，通过坐标对精密平台7进行精度计量。
具体地，移动精密平台7，将标记点移至CCD相机9视野内，移动Z轴找到焦平面，初始化精密平台7后移至(0,0)，以此为测试的基准点，记作 (X0,Y0)。沿X方向移动10mm(本实施例以10mm为例)，将标记点移至 CCD相机9视野中心，记录居中后平台坐标(X11，Y11)，可以计算出与理论坐标的偏差Xe＝X11-(X0+10)，Ye＝Y11-Y0。重复该步骤可以得到X方向的一系列点坐标；同理，重复该步骤可以得到XY方向的一系列点坐标偏差。
在本实施例中，玻璃基板8上的标刻点呈二维分布，XY方向标记点之间的间距相等，且覆盖精密平台7的XY轴的全行程。
S400.将玻璃基板8上生成的图形经分束镜4反射到CCD相机9中，再由图像处理器件10捕捉图形并记录每个坐标数据，获得二维数据表，如图4。
S500.将二维数据表传递到精密平台7控制器系统中，由平台控制器系统内部做插值处理，进行二维补偿，提高精密平台7的XY平面内各个精细位置的定位精度。
本实施例公开的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，采用玻璃切割技术，将轴的运动轨迹通过激光标刻在玻璃基板上，然后用某种高精度测量工具对玻璃基板上的轨迹进行测量，获取二维数据表，通过二维数据表对精密平台的精度进行计量与补偿。
本实施例以合适的激光器和切割头可以组成测量仪器，耗材采用价格便宜的玻璃基板，将测量头安装在Z轴上，当精密平台移动，切割就可以自动化完成标记工作，使用简单并且价格便宜。
应该明白，公开的过程中的步骤的特定顺序或层次是示例性方法的实例。基于设计偏好，应该理解，过程中的步骤的特定顺序或层次可以在不脱离本公开的保护范围的情况下得到重新安排。所附的方法权利要求以示例性的顺序给出了各种步骤的要素，并且不是要限于的特定顺序或层次。
在上述的详细描述中，各种特征一起组合在单个的实施方案中，以简化本公开。不应该将这种公开方法解释为反映了这样的意图，即，所要求保护的主题的实施方案需要清楚地在每个权利要求中所陈述的特征更多的特征。相反，如所附的权利要求书所反映的那样，本发明处于比所公开的单个实施方案的全部特征少的状态。因此，所附的权利要求书特此清楚地被并入详细描述中，其中每项权利要求独自作为本发明单独的优选实施方案。
本领域技术人员还应当理解，结合本文的实施例描述的各种说明性的逻辑框、模块、电路和算法步骤均可以实现成电子硬件、计算机软件或其组合。为了清楚地说明硬件和软件之间的可交换性，上面对各种说明性的部件、框、模块、电路和步骤均围绕其功能进行了一般地描述。至于这种功能是实现成硬件还是实现成软件，取决于特定的应用和对整个系统所施加的设计约束条件。熟练的技术人员可以针对每个特定应用，以变通的方式实现所描述的功能，但是，这种实现决策不应解释为背离本公开的保护范围。
结合本文的实施例所描述的方法或者算法的步骤可直接体现为硬件、由处理器执行的软件模块或其组合。软件模块可以位于RAM存储器、闪存、ROM存储器、EPROM存储器、EEPROM存储器、寄存器、硬盘、移动磁盘、CD-ROM或者本领域熟知的任何其它形式的存储介质中。一种示例性的存储介质连接至处理器，从而使处理器能够从该存储介质读取信息，且可向该存储介质写入信息。当然，存储介质也可以是处理器的组成部分。处理器和存储介质可以位于ASIC 中。该ASIC可以位于用户终端中。当然，处理器和存储介质也可以作为分立组件存在于用户终端中。
对于软件实现，本申请中描述的技术可用执行本申请功能的模块(例如，过程、函数等)来实现。这些软件代码可以存储在存储器单元并由处理器执行。存储器单元可以实现在处理器内，也可以实现在处理器外，在后一种情况下，它经由各种手段以通信方式耦合到处理器，这些都是本领域中所公知的。
上文的描述包括一个或多个实施例的举例。当然，为了描述上述实施例而描述部件或方法的所有可能的结合是不可能的，但是本领域普通技术人员应该认识到，各个实施例可以做进一步的组合和排列。因此，本文中描述的实施例旨在涵盖落入所附权利要求书的保护范围内的所有这样的改变、修改和变型。此外，就说明书或权利要求书中使用的术语“包含”，该词的涵盖方式类似于术语“包括”，就如同“包括，”在权利要求中用作衔接词所解释的那样。此外，使用在权利要求书的说明书中的任何一个术语“或者”是要表示“非排它性的或者”。

Claims (10)

1.一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，包括：
S100.激光器发出的光源经光学系统准直和扩束后通过图形发生器；
S200.导入预设的图形到图形发生器中，通过图形发生器和分束镜的光线，经过透镜组聚焦，再经过激光切割头切割；
S300.移动精密平台，调整精密平台的XY轴，使得导入到图形发生器中的图形每个点依次有规律标刻在玻璃基板上，并通过二次元测量仪对玻璃基板上的标刻点进行测量，获得对应点的坐标，通过坐标对精密平台进行精度计量；
S400.将玻璃基板上生成的图形经分束镜反射到CCD相机中，再由图像处理器件捕捉图形并记录每个坐标数据，获得二维数据表；
S500.将二维数据表传递到精密平台控制器系统中，由平台控制器系统内部做插值处理，进行二维补偿，提高精密平台XY平面内各个精细位置的定位精度。
2.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S100中，激光器发出的光源经光学系统准直和扩束后，变成平行光束。
3.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S200中，图形发生器由计算机系统控制，通过计算机系统控制可以编辑图形和设定对应的参数。
4.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S200中，导入到图形发生器中的预设图形为正方形点阵，其中，X轴和Y轴均为31个点，两点之间间距为10mm。
5.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S200中，分束镜将光线分束，使得经过透镜组的光线能聚焦。
6.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S200中，激光切割头连接控制器，通过控制器可以改变激光切割头Z轴的方向。
7.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S300中，精密平台连接电机，电机连接控制器，通过控制器可以实现精密平台XY方向的移动。
8.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S300中，玻璃基板上的标刻点呈二维分布，XY方向标记点之间的间距相等，且覆盖精密平台XY轴的全行程。
9.如权利要求1的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，S300中，通过坐标对精密平台进行精度计量的方法为：
移动精密平台，将标记点移至CCD相机视野内，移动Z轴找到焦平面，初始化精密平台后移至(0,0)，以此为测试的基准点，记作(X0,Y0)，沿X方向移动n距离，将标记点移至CCD相机视野中心，记录居中后平台坐标(X11，Y11)，可以计算出与理论坐标的偏差Xe＝X11-(X0+n)，Ye＝Y11-Y0；重复该步骤可以得到XY方向的一系列点坐标偏差。
10.如权利要求9的一种基于玻璃切割技术的精密平台精度计量与补偿方法，其特征在于，标记点是以初始化精密平台移至原点并居中为基准点，的每个标记点都是位于CCD相机视场中心，再以XY方向等间距取点，双向各31个点，总数超过900个。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117102959A (zh) * 2023-10-25 2023-11-24 宁波经纬数控股份有限公司 一种切割机头的切割高度控制方法及切割设备

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100241384A1 (en) * 2009-03-18 2010-09-23 Carl Zeiss Sms Gmbh Method for calibrating a specimen stage of a metrology system and metrology system comprising a specimen stage
CN102289153A (zh) * 2011-05-31 2011-12-21 合肥芯硕半导体有限公司 一种制版光刻设备静态稳定性测量方法
CN102354086A (zh) * 2011-09-29 2012-02-15 合肥芯硕半导体有限公司 一种精密移动平台的正交性实时标定方法
CN102566311A (zh) * 2012-01-12 2012-07-11 合肥芯硕半导体有限公司 一种制版光刻设备动态稳定性测量方法
CN104199257A (zh) * 2014-08-26 2014-12-10 合肥芯硕半导体有限公司 一种精密定位平台绝对定位精度的测量及补偿方法
CN105620050A (zh) * 2014-10-28 2016-06-01 大族激光科技产业集团股份有限公司 基于机器视觉的高精度振镜误差自校正装置和方法
CN105834580A (zh) * 2014-11-20 2016-08-10 财团法人工业技术研究院 三维激光加工装置及定位误差校正方法
CN107755905A (zh) * 2017-11-29 2018-03-06 东莞市力星激光科技有限公司 一种薄型柔性板材激光精密切割机及切割方法
CN108072319A (zh) * 2016-11-07 2018-05-25 俞庆平 一种运动平台的快速标定系统及标定方法
CN109283804A (zh) * 2018-11-14 2019-01-29 江苏友迪激光科技有限公司 一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法
CN208800900U (zh) * 2018-09-14 2019-04-30 深圳市青虹激光科技有限公司 一种大幅面激光切割加工系统
CN109813214A (zh) * 2017-11-20 2019-05-28 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种快速测量十字运动平台二维定位误差的方法及装置
WO2020073940A1 (zh) * 2018-10-11 2020-04-16 华南理工大学 基于机器视觉的晶硅光伏太阳能电池印刷定位平台标定方法及装置
CN111397513A (zh) * 2020-04-14 2020-07-10 东莞明睿机器视觉科技有限公司 一种x-y正交运动平台运动标定系统以及方法
CN111661589A (zh) * 2019-03-05 2020-09-15 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种基于图像定位的运动平台校正方法及装置

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100241384A1 (en) * 2009-03-18 2010-09-23 Carl Zeiss Sms Gmbh Method for calibrating a specimen stage of a metrology system and metrology system comprising a specimen stage
CN102289153A (zh) * 2011-05-31 2011-12-21 合肥芯硕半导体有限公司 一种制版光刻设备静态稳定性测量方法
CN102354086A (zh) * 2011-09-29 2012-02-15 合肥芯硕半导体有限公司 一种精密移动平台的正交性实时标定方法
CN102566311A (zh) * 2012-01-12 2012-07-11 合肥芯硕半导体有限公司 一种制版光刻设备动态稳定性测量方法
CN104199257A (zh) * 2014-08-26 2014-12-10 合肥芯硕半导体有限公司 一种精密定位平台绝对定位精度的测量及补偿方法
CN105620050A (zh) * 2014-10-28 2016-06-01 大族激光科技产业集团股份有限公司 基于机器视觉的高精度振镜误差自校正装置和方法
CN105834580A (zh) * 2014-11-20 2016-08-10 财团法人工业技术研究院 三维激光加工装置及定位误差校正方法
CN108072319A (zh) * 2016-11-07 2018-05-25 俞庆平 一种运动平台的快速标定系统及标定方法
CN109813214A (zh) * 2017-11-20 2019-05-28 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种快速测量十字运动平台二维定位误差的方法及装置
CN107755905A (zh) * 2017-11-29 2018-03-06 东莞市力星激光科技有限公司 一种薄型柔性板材激光精密切割机及切割方法
CN208800900U (zh) * 2018-09-14 2019-04-30 深圳市青虹激光科技有限公司 一种大幅面激光切割加工系统
WO2020073940A1 (zh) * 2018-10-11 2020-04-16 华南理工大学 基于机器视觉的晶硅光伏太阳能电池印刷定位平台标定方法及装置
CN109283804A (zh) * 2018-11-14 2019-01-29 江苏友迪激光科技有限公司 一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法
CN111661589A (zh) * 2019-03-05 2020-09-15 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种基于图像定位的运动平台校正方法及装置
CN111397513A (zh) * 2020-04-14 2020-07-10 东莞明睿机器视觉科技有限公司 一种x-y正交运动平台运动标定系统以及方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
邹华东等: "基于机器视觉的影像测量仪工作台定位误差精密补偿方法", 《激光与光电子学进展》 *
邹华东等: "基于机器视觉的影像测量仪工作台定位误差精密补偿方法", 《激光与光电子学进展》, no. 09, 11 April 2018 (2018-04-11) *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117102959A (zh) * 2023-10-25 2023-11-24 宁波经纬数控股份有限公司 一种切割机头的切割高度控制方法及切割设备

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Publication number Publication date
CN112945102B (zh) 2023-07-25

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