CN112928046A - 一种太阳能光伏晶片蚀刻装置 - Google Patents
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- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 90
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 73
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 230000004224 protection Effects 0.000 claims abstract description 37
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 27
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 25
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 230000009979 protective mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H01L21/6708—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
本发明公开了一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，包括防护机构、循环机构和喷淋机构，所述防护机构包括防护箱、防腐板、限位槽和防护门，所述循环机构包括集水箱、液位传感器、控制器、排水管、阀门、循环管道、过滤罩、设备箱、循环泵和盖板，所述集水箱的上方设置有储物机构，所述集水箱的右侧底部连接有排水管，所述集水箱的左侧内壁上设置有液位传感器，所述设备箱设置在防护箱的左侧，所述循环泵的底端与循环管道连接。该太阳能光伏晶片蚀刻装置，设置有电动伸缩杆，两侧的电动伸缩杆可通过限位卡环带动多孔蚀刻箱在集水箱内的蚀刻液中进行左右摆动，从而便于可有效提高多孔蚀刻箱内的加工件的蚀刻效率，进而便于提高装置的加工效率。
Description
技术领域
本发明涉及蚀刻装置技术领域，具体为一种太阳能光伏晶片蚀刻装置。
背景技术
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类，经过不断改良和工艺设备发展，可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片、晶片以及零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。在太阳能光伏晶片的加工过程中需要使用到蚀刻装置，现有的蚀刻装置大多是将加工件静置在蚀刻液中使其自然蚀刻，加工效率较低，且容易出现反应不充分的现象，针对上述问题，需要对现有设备进行改进。
发明内容
本发明的目的在于提供一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，以解决上述背景技术中提出的现有的蚀刻装置大多是将加工件静置在蚀刻液中使其自然蚀刻，加工效率较低，且容易出现反应不充分的现象的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，包括防护机构、循环机构和喷淋机构，
防护机构，所述防护机构包括防护箱、防腐板、限位槽和防护门，且防护箱内底部开设有限位槽，所述防护箱前侧设置有防护门，且防护门与防护箱转动连接；
循环机构，所述循环机构包括集水箱、液位传感器、控制器、排水管、阀门、循环管道、过滤罩、设备箱、循环泵和盖板，且集水箱底部卡合在限位槽内，所述集水箱的上方设置有储物机构，且储物机构通过调节机构与防护箱的内壁连接，所述集水箱的右侧底部连接有排水管，且排水管上设置有阀门，所述集水箱的左侧内壁上设置有液位传感器，且集水箱的左侧外壁上设置有控制器，所述设备箱设置在防护箱的左侧，且设备箱内设置有循环泵，所述循环泵的底端与循环管道连接，且循环管道远离循环泵的一端与过滤罩连接，同时过滤罩设置在集水箱的内部；
喷淋机构，所述喷淋机构包括储液箱、连接管道、储液箱盖、液泵、进水管道、第二电动伸缩杆、喷淋盒和喷淋头，且储液箱设置在防护箱的顶部，同时储液箱通过连接管道与循环泵的顶端连接，所述储液箱顶部卡合连接有储液箱盖，且储液箱内部设置有液泵，所述第二电动伸缩杆设置在防护箱的顶部，且第二电动伸缩杆的底端贯穿防护箱的顶部与喷淋盒连接，所述喷淋盒通过进水管道与液泵连接，且喷淋盒的底部设置有喷淋头。
优选的，所述防护箱的内侧壁上设置有防腐板。
优选的，所述液位传感器、控制器以及循环泵之间为电性连接。
优选的，所述过滤罩与循环管道螺纹连接。
优选的，所述设备箱前侧设置有盖板，且盖板通过螺丝与设备箱连接，同时盖板上开设有散热窗。
优选的，所述调节机构包括电动滑轨、电动滑块、连接板、第一电动伸缩杆和限位卡环，且电动滑轨对称设置在防护箱的左右内侧壁上，同时电动滑轨上连接有电动滑块，所述电动滑块远离电动滑轨的一端通过连接板与电动伸缩杆连接，且电动伸缩杆远离连接板的一端与限位卡环连接。
优选的，所述储物机构包括多孔蚀刻箱和限位板，且多孔蚀刻箱与限位卡环卡合连接，同时多孔蚀刻箱内部设置有限位板。
优选的，所述限位板等间距分布在多孔蚀刻箱前后内壁上。
优选的，所述喷淋头呈矩形阵列状分布在喷淋盒的底部，且喷淋头对应设置在多孔蚀刻箱的上方。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该太阳能光伏晶片蚀刻装置，
(1)设置有限位板，限位板可将加工件卡合在多孔蚀刻箱内，从而可有效防止加工件在蚀刻的过程中相互摩擦碰撞，进而便于对加工件进行保护，同时设置有防腐板，防腐板便于提高防护箱的防腐系数，从而可有效防止防护箱的内壁被迸溅的蚀刻液损坏；
(2)设置有电动伸缩杆，两侧的电动伸缩杆可通过限位卡环带动多孔蚀刻箱在集水箱内的蚀刻液中进行左右摆动，从而便于可有效提高多孔蚀刻箱内的加工件的蚀刻效率，进而便于提高装置的加工效率；
(3)设置有电动滑块，电动滑块将通过第一电动伸缩杆带动多孔蚀刻箱进行上下移动，从而便于将蚀刻之后的多孔蚀刻箱从集水箱内捞起，进而便于丰富装置的内部结构，且使用起来较为便捷；
(4)设置有液泵，在液泵的作用下喷淋盒上的喷淋头将持续向多孔蚀刻箱内的加工件喷洒蚀刻液，从而可在一定程度上促进蚀刻液与加工件之间的蚀刻反应，进而便于提高装置的加工质量和加工效率，同时设置有集水箱，集水箱可对喷淋头喷淋蚀刻液进行收集，从而便于防止蚀刻液肆流污染工作环境；
(5)设置有液位传感器，液位传感器可对集水箱内部的液位进行检测，当液位传感器检测到集水箱内蚀刻液的液位达到设定值时，液位传感器将会把这一信息传递给控制器，控制器将启动循环泵将集水箱内蚀刻液抽入储液箱内，从而便于对刻蚀液进行循环利用，进而便于节约资源。
附图说明
图1为本发明主视剖面结构示意图；
图2为本发明主视结构示意图；
图3为本发明限位板在多孔蚀刻箱内的位置分布俯视结构示意图；
图4为本发明喷淋头在喷淋盒底部的位置分布仰视结构示意图；
图5为本发明图1中A处放大结构示意图；
图6为本发明工作流程示意图。
图中：1、防护机构，101、防护箱，102、防腐板，103、限位槽，104、防护门，2、循环机构，201、集水箱，202、液位传感器，203、控制器，204、排水管，205、阀门，206、循环管道，207、过滤罩，208、设备箱，209、循环泵，2010、盖板，3、调节机构，301、电动滑轨，302、电动滑块，303、连接板，304、第一电动伸缩杆，305、套筒，4、储物机构，401、多孔蚀刻箱，402、限位板，5、喷淋机构，501、储液箱，502、连接管道，503、储液箱盖，504、液泵，505、进水管道，506、第二电动伸缩杆，507、喷淋盒，508、喷淋头。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，如图1、图2和图3所示，防护机构1包括防护箱101、防腐板102、限位槽103和防护门104，且防护箱101内底部开设有限位槽103，防护箱101前侧设置有防护门104，且防护门104与防护箱101转动连接，防护门104与防护箱101便于防止蚀刻液迸溅到外界污染工作环境，防护箱101的内侧壁上设置有防腐板102，防腐板102防止防护箱101的内壁被加工过程中迸溅的蚀刻液损坏，循环机构2包括集水箱201、液位传感器202、控制器203、排水管204、阀门205、循环管道206、过滤罩207、设备箱208、循环泵209和盖板2010，且集水箱201底部卡合在限位槽103内，集水箱201的上方设置有储物机构4，储物机构4包括多孔蚀刻箱401和限位板402，且多孔蚀刻箱401与限位卡环305卡合连接，同时多孔蚀刻箱401内部设置有限位板402，限位板402便于将加工件卡合在多孔蚀刻箱401内，从而可有效防止加工件在蚀刻的过程中相互摩擦，限位板402等间距分布在多孔蚀刻箱401前后内壁上，多个限位板402便于对多个加工件进行卡合，从而便于将加工件进行批量化生产，进而便于提高装置的加工效率，且储物机构4通过调节机构3与防护箱101的内壁连接，调节机构3包括电动滑轨301、电动滑块302、连接板303、第一电动伸缩杆304和限位卡环305，且电动滑轨301对称设置在防护箱101的左右内侧壁上，同时电动滑轨301上连接有电动滑块302，电动滑块302远离电动滑轨301的一端通过连接板303与电动伸缩杆304连接，且电动伸缩杆304远离连接板303的一端与限位卡环305连接，调节机构3便于将加工之后的多孔蚀刻箱401从集水箱201内捞起，进而便于丰富装置的功能性。
如图1、图2、图4、图5和图6所示，集水箱201的右侧底部连接有排水管204，且排水管204上设置有阀门205，集水箱201的左侧内壁上设置有液位传感器202，且集水箱201的左侧外壁上设置有控制器203，设备箱208设置在防护箱101的左侧，且设备箱208内设置有循环泵209，设备箱208前侧设置有盖板2010，且盖板2010通过螺丝与设备箱208连接，当循环泵209出现故障时，工作人员可通过拆卸螺丝将盖板2010拆卸下来，从而即可对循环泵209进行检修，同时盖板2010上开设有散热窗，散热窗便于帮助循环泵209散热，循环泵209的底端与循环管道206连接，液位传感器202、控制器203以及循环泵209之间为电性连接，便于防止集水箱201内的蚀刻液溢出，进而便于防止资源浪费，且循环管道206远离循环泵209的一端与过滤罩207连接，过滤罩207与循环管道206螺纹连接，过滤罩207便于防止污染物堵塞循环管道206，同时当过滤罩207需要清洁时工作人员可手动将其从循环管道206上旋转下来进行清洁，且拆卸过程较为简单，同时过滤罩207设置在集水箱201的内部，喷淋机构5包括储液箱501、连接管道502、储液箱盖503、液泵504、进水管道505、第二电动伸缩杆506、喷淋盒507和喷淋头508，且储液箱501设置在防护箱101的顶部，同时储液箱501通过连接管道502与循环泵209的顶端连接，储液箱501顶部卡合连接有储液箱盖503，且储液箱501内部设置有液泵504，第二电动伸缩杆506设置在防护箱101的顶部，且第二电动伸缩杆506的底端贯穿防护箱101的顶部与喷淋盒507连接，喷淋盒507通过进水管道505与液泵504连接，且喷淋盒507的底部设置有喷淋头508，喷淋头508呈矩形阵列状分布在喷淋盒507的底部，且喷淋头508对应设置在多孔蚀刻箱401的上方，多个喷淋头508便于对多孔蚀刻箱401内的加工件的不同位置进行喷淋。
工作原理：液位传感器202的型号为CS-PT1100，控制器203的型号为RPCF-6，在使用该太阳能光伏晶片蚀刻装置时，首先将加工件卡合在多孔蚀刻箱401内的限位板402之间，接着将多孔蚀刻箱401卡合在限位卡环305内，紧接着关闭防护门104，连接电源启动装置，电动滑块302将通过第一电动伸缩杆304带动多孔蚀刻箱401下移至集水箱201内，第二电动伸缩杆506将带动喷淋头508向下移动，同时在液泵504的作用下，储液箱501内的蚀刻液将通过进水管道505进入喷淋盒507，并通过喷淋盒507上的喷淋头508对多孔蚀刻箱401内的加工件进行喷淋，喷淋之后的蚀刻液将汇聚集水箱201内对加工件进行浸泡，同时两侧的第二电动伸缩杆506将通过限位卡环305带动多孔蚀刻箱401进行左右摆动，从而便于促进加工件与蚀刻液进行反应，液位传感器202可对集水箱201内部的液位进行实时检测，当液位传感器202检测到集水箱201内的液位达到设定水位值时，液位传感器202将会把检测到的信息传递给控制器203，控制器203将启动循环泵209，循环泵209将通过循环管道206对集水箱201内蚀刻液进行抽取，并将抽取到的蚀刻液通过连接管道502排入储液箱501内进行储存，从而便于在液泵504的作用下将蚀刻液再次喷向加工件，进而可达到循环利用的目的，当加工件加工完成之后，电动滑块302将通过第一电动伸缩杆304带动多孔蚀刻箱401向上移动远离集水箱201，紧接着工作人员可打开防护门104将多孔蚀刻箱401从限位卡环305内取出，这就完成了全部工作，本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为便于描述本发明的简化描述，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、为特定的方位构造和操作，因而不能理解为对本发明保护内容的限制。
尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，包括防护机构(1)、循环机构(2)和喷淋机构(5)，其特征在于：
防护机构(1)，所述防护机构(1)包括防护箱(101)、防腐板(102)、限位槽(103)和防护门(104)，且防护箱(101)内底部开设有限位槽(103)，所述防护箱(101)前侧设置有防护门(104)，且防护门(104)与防护箱(101)转动连接；
循环机构(2)，所述循环机构(2)包括集水箱(201)、液位传感器(202)、控制器(203)、排水管(204)、阀门(205)、循环管道(206)、过滤罩(207)、设备箱(208)、循环泵(209)和盖板(2010)，且集水箱(201)底部卡合在限位槽(103)内，所述集水箱(201)的上方设置有储物机构(4)，且储物机构(4)通过调节机构(3)与防护箱(101)的内壁连接，所述集水箱(201)的右侧底部连接有排水管(204)，且排水管(204)上设置有阀门(205)，所述集水箱(201)的左侧内壁上设置有液位传感器(202)，且集水箱(201)的左侧外壁上设置有控制器(203)，所述设备箱(208)设置在防护箱(101)的左侧，且设备箱(208)内设置有循环泵(209)，所述循环泵(209)的底端与循环管道(206)连接，且循环管道(206)远离循环泵(209)的一端与过滤罩(207)连接，同时过滤罩(207)设置在集水箱(201)的内部；
喷淋机构(5)，所述喷淋机构(5)包括储液箱(501)、连接管道(502)、储液箱盖(503)、液泵(504)、进水管道(505)、第二电动伸缩杆(506)、喷淋盒(507)和喷淋头(508)，且储液箱(501)设置在防护箱(101)的顶部，同时储液箱(501)通过连接管道(502)与循环泵(209)的顶端连接，所述储液箱(501)顶部卡合连接有储液箱盖(503)，且储液箱(501)内部设置有液泵(504)，所述第二电动伸缩杆(506)设置在防护箱(101)的顶部，且第二电动伸缩杆(506)的底端贯穿防护箱(101)的顶部与喷淋盒(507)连接，所述喷淋盒(507)通过进水管道(505)与液泵(504)连接，且喷淋盒(507)的底部设置有喷淋头(508)。
2.根据权利要求1所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述防护箱(101)的内侧壁上设置有防腐板(102)。
3.根据权利要求1所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述液位传感器(202)、控制器(203)以及循环泵(209)之间为电性连接。
4.根据权利要求1所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述过滤罩(207)与循环管道(206)螺纹连接。
5.根据权利要求1所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述设备箱(208)前侧设置有盖板(2010)，且盖板(2010)通过螺丝与设备箱(208)连接，同时盖板(2010)上开设有散热窗。
6.根据权利要求1所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述调节机构(3)包括电动滑轨(301)、电动滑块(302)、连接板(303)、第一电动伸缩杆(304)和限位卡环(305)，且电动滑轨(301)对称设置在防护箱(101)的左右内侧壁上，同时电动滑轨(301)上连接有电动滑块(302)，所述电动滑块(302)远离电动滑轨(301)的一端通过连接板(303)与电动伸缩杆(304)连接，且电动伸缩杆(304)远离连接板(303)的一端与限位卡环(305)连接。
7.根据权利要求1所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述储物机构(4)包括多孔蚀刻箱(401)和限位板(402)，且多孔蚀刻箱(401)与限位卡环(305)卡合连接，同时多孔蚀刻箱(401)内部设置有限位板(402)。
8.根据权利要求7所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述限位板(402)等间距分布在多孔蚀刻箱(401)前后内壁上。
9.根据权利要求1所述的一种太阳能光伏晶片蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋头(508)呈矩形阵列状分布在喷淋盒(507)的底部，且喷淋头(508)对应设置在多孔蚀刻箱(401)的上方。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Country Status (1)
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