CN114038939B - 一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机 - Google Patents
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- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 82
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 82
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 19
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 107
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 13
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 claims description 13
- 244000309464 bull Species 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H01L21/6708—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
本发明公开了蚀刻机技术领域的一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，包括防护壳，所述防护壳内侧设有用于夹持放置光伏晶片的放置机构，所述放置机构左右两侧连接有用于驱动放置机构转动变换光伏晶片的转换机构；本发明通过在每次对光伏晶片进行双面蚀刻时，利用放置机构将光伏晶片稳定的支撑，并在光伏晶片一面蚀刻完成后，配合转换机构，使放置机构进行转动，放置机构先进行闭合，将光伏晶片进行夹持稳定，避免在转动过程中光伏晶片滑出，且在转换过后，转换机构使放置机构中部打开，避免放置机构干扰蚀刻液蚀刻光伏晶片，保证蚀刻液对光伏晶片的蚀刻效果，快速对光伏晶片双面进行蚀刻。
Description
技术领域
本发明涉及蚀刻机技术领域，具体为一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机。
背景技术
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类，经过不断改良和工艺设备发展，可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片、晶片以及零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
现有技术在对光伏晶片进行湿蚀刻时，仅仅只能对光伏晶片的一面进行蚀刻，当需要对光伏晶片进行双面蚀刻时，需要先蚀刻一面再取出、放入蚀刻另一面，在此过程中，不仅降低的蚀刻的效率，且还会在一次蚀刻后，部分蚀刻液停留在光伏晶片的表面，在取出时，蚀刻液容易飞溅，降低蚀刻机的使用寿命，影响蚀刻的效果。
基于此，本发明设计了一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，以解决上述背景技术中提出了现有技术在对光伏晶片进行湿蚀刻时，仅仅只能对光伏晶片的一面进行蚀刻，当需要对光伏晶片进行双面蚀刻时，需要先蚀刻一面再取出、放入蚀刻另一面，在此过程中，不仅降低的蚀刻的效率，且还会在一次蚀刻后，部分蚀刻液停留在光伏晶片的表面，在取出时，蚀刻液容易飞溅，降低蚀刻机的使用寿命的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，包括防护壳，所述防护壳内侧设有用于夹持放置光伏晶片的放置机构，所述放置机构左右两侧连接有用于驱动放置机构转动变换光伏晶片的转换机构，所述放置机构在转换机构驱动的同时发生上下的移动并使放置机构顶部的打开，所述防护壳顶部连接有用于对光伏晶片进行喷淋蚀刻液的喷淋机构，所述喷淋机构位于放置机构的正上方；
所述放置机构包括两个第一转轴，两个所述第一转轴分别转动连接在所述防护壳左右两侧壁上，两个所述第一转轴内端均固定连接有第一转板，两个所述第一转板内侧均开设有两个第一滑槽，每个所述第一滑槽内侧壁上均滑动连接有第一滑板，同水平两个所述第一滑板之间共同固定连接有搁置网板，每个所述第一滑槽内侧壁上均固定连接有强力弹簧，所述强力弹簧外端固定连接在第一滑板上；
所述转换机构包括第一电机，所述第一电机固定连接在防护壳的外侧壁上，所述第一电机的输出轴与第一转轴固定连接，每个所述第一滑板外端均固定连接有导向滑杆，所述防护壳左右内侧壁上均通过两个第一连杆固定连接有引导轨，所述导向滑杆位于引导轨的内侧，所述引导轨用于使两个搁置网板在转换位置的过程中闭合，两个所述搁置网板中部均开设有第一通槽，两个所述第一通槽内侧均转动连接有第一转杆，每个所述第一转杆外表面上均固定连接有转动网板，所述第一转板外侧壁上连接在转换两个搁置网板过程中使转动网板打开的转动机构；
所述转动机构包括四个第一齿轮，四个所述第一齿轮分别固定连接在四个所述第一转杆的外表面上，每个所述第一转板外侧壁上均固定连接有两个第一连接板，每个所述第一连接板外端均固定连接有第一齿条，所述第一齿条与第一齿轮相啮合；
两个所述搁置网板相对面均固定连接有防护板，所述防护板用于防止光伏晶片滑出；
两个所述防护板内侧均连接有两组相对布置的用于对中光伏晶片的对中机构，所述对中机构包括若干第二滑杆，若干所述第二滑杆均贯穿防护板并与其滑动连接，若干所述第二滑杆内端共同固定连接有夹紧板，若干所述第二滑杆外端共同固定连接有拉动板，所述拉动板外侧壁上固定连接有若干引导块，顶部所述引导块与底部引导块错位布置，每个所述第二滑杆外表面上均套设有位于夹紧板与防护板之间的第一弹簧，两个所述第一转板外侧壁上均固定连接有第二连接板，两个所述第二连接板之间共同固定连接有引导长条块，所述引导长条块内部开设有引导槽，所述引导槽用于与引导块相作用；
所述喷淋机构包括进液管，所述进液管固定连接在防护壳的内部，所述进液管的底端固定连通有喷淋板，所述喷淋板位于两个转动网板的正上方；
所述防护壳底部固定连接有收集壳，所述收集壳大于搁置网板，所述收集壳用于收集蚀刻液。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1.本发明通过在每次对光伏晶片进行双面蚀刻时，利用放置机构将光伏晶片稳定的支撑，并在光伏晶片一面蚀刻完成后，配合转换机构，使放置机构进行转动，放置机构先进行闭合，将光伏晶片进行夹持稳定，避免在转动过程中光伏晶片滑出，且在转换过后，转换机构使放置机构中部打开，避免放置机构干扰蚀刻液蚀刻光伏晶片，保证蚀刻液对光伏晶片的蚀刻效果，快速对光伏晶片双面进行蚀刻。
2.本发明通过利用夹紧板将光伏晶片进行弹性夹持，使光伏晶片处于两个转动网板顶部，使得顶部的转动网板打开时，光伏晶片的顶部完全暴露，能与蚀刻液完全接触，且在两个搁置网板转换位置的过程中，顶部的搁置网板向下移动，通过防护板带动第二滑杆、拉动板和引导块一同向内移动，引导块被引导槽作用，使得引导块和拉动板一同向外移动，通过第二滑杆拉动两个夹紧板向外侧移动打开，同时，底部的导向块始终被引导槽作用处于打开状态，但搁置网板翻转到一定程度时，光伏晶片落在顶部的搁置网板上，此时，夹紧板被打开，使得光伏晶片能更顺利地进入两个夹紧板之间，避免光伏晶片落在两个夹紧板的顶部，两个夹紧板位于转动网板与搁置网板边缘，从而限制光伏晶片，使光伏晶片处于转动网板顶部，在顶部的转动网板打开后，光伏晶片能完全被蚀刻，保证蚀刻的效果。
附图说明
图1为本发明的总体结构第一立体视图；
图2为本发明的总体结构第二立体视图(打开状态)；
图3为图2中A处结构放大图；
图4为本发明的总体结构第三立体剖视图；
图5为本发明的放置机构结构示意图；
图6为本发明的转换机构结构示意图；
图7为本发明的对中结构和防护板结构示意图；
图8为图7中B处结构放大图。
附图中，各标号所代表的部件列表如下：
防护壳1、第一转轴2、第一转板3、第一滑槽4、第一滑板5、搁置网板6、强力弹簧7、第一电机8、导向滑杆9、第一连杆10、引导轨11、第一通槽12、第一转杆13、转动网板14、第一齿轮15、第一连接板16、第一齿条17、防护板18、第二滑杆19、夹紧板20、拉动板21、引导块22、第一弹簧23、第二连接板24、引导长条块25、进液管26、喷淋板27、收集壳28。
具体实施方式
请参阅图1-8，本发明提供一种技术方案：一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，包括防护壳1，防护壳1内侧设有用于夹持放置光伏晶片的放置机构，放置机构左右两侧连接有用于驱动放置机构转动变换光伏晶片的转换机构，放置机构在转换机构驱动的同时发生上下的移动并使放置机构顶部的打开，防护壳1顶部连接有用于对光伏晶片进行喷淋蚀刻液的喷淋机构，喷淋机构位于放置机构的正上方；
放置机构包括两个第一转轴2，两个第一转轴2分别转动连接在防护壳1左右两侧壁上，两个第一转轴2内端均固定连接有第一转板3，两个第一转板3内侧均开设有两个第一滑槽4，每个第一滑槽4内侧壁上均滑动连接有第一滑板5，同水平两个第一滑板5之间共同固定连接有搁置网板6，每个第一滑槽4内侧壁上均固定连接有强力弹簧7，强力弹簧7外端固定连接在第一滑板5上；
转换机构包括第一电机8，第一电机8固定连接在防护壳1的外侧壁上，第一电机8的输出轴与第一转轴2固定连接，每个第一滑板5外端均固定连接有导向滑杆9，防护壳1左右内侧壁上均通过两个第一连杆10固定连接有引导轨11，导向滑杆9位于引导轨11的内侧，引导轨11用于使两个搁置网板6在转换位置的过程中闭合，两个搁置网板6中部均开设有第一通槽12，两个第一通槽12内侧均转动连接有第一转杆13，每个第一转杆13外表面上均固定连接有转动网板14，第一转板3外侧壁上连接在转换两个搁置网板6过程中使转动网板14打开的转动机构；
转动机构包括四个第一齿轮15，四个第一齿轮15分别固定连接在四个第一转杆13的外表面上，每个第一转板3外侧壁上均固定连接有两个第一连接板16，每个第一连接板16外端均固定连接有第一齿条17，第一齿条17与第一齿轮15相啮合；
工作时，先将需要进行蚀刻的光伏晶片放置在底部搁置网板6上，使光伏晶片处于两个搁置网板6的中间，然后，关闭防护壳1，此时，强力弹簧7作用顶部的第一滑板5，使顶部的搁置网板6与底部的搁置网板6处于打开的转台，避免顶部的搁置网板6干扰蚀刻液蚀刻光伏晶片，顶部的喷淋机构开始向光伏晶片顶面喷淋蚀刻液进行蚀刻，当光伏晶片的顶面蚀刻完成后，启动驱动电机，驱动电机带动第一转轴2转动，同时，驱动第一转板3，使位于第一转板3内侧的第一滑板5一同转动，两个第一滑板5带动与其固定连接的搁置网板6转动，从而使两个搁置网板6同时发生转动，且在转动的同时，导向滑杆9沿着引导轨11内侧壁滑动，使导向滑杆9和第一滑板5沿第一滑槽4向内滑动，压缩强力弹簧7，带动顶部的搁置网板6缓慢靠近底部的搁置网板6，即缓慢将光伏晶片夹持，避免在转换过程中光伏晶片掉落，而底部的导向滑杆9始终被挤压处于第一滑槽4的最内侧，在顶部的第一滑板5和搁置网板6转动并向内移动过程中，搁置网板6通过第一转杆13带动转动网板14一同移动，第一转杆13向内滑动时，带动第一齿轮15相内移动，第一齿轮15被第一齿条17作用快速转动，使第一转杆13和转动网板14快速向内侧转动，与搁置网板6形成避免，当搁置网板6转动至一定弧度时，顶部的导向滑杆9被引导至最内侧，顶部的搁置网板6与底部的搁置网板6形成闭合，完全加工光伏晶片进行上下面的稳固，避免光伏晶片在转动过程中滑落，然后，第一转轴2继续进行转动，顶部的搁置网板6被缓慢转动至底部，与底部的搁置网板6进行变换位置，且原本处于底部的搁置网板6则被转动至顶部，再次过程中，原本处于底部搁置网板6上的光伏晶片在重力作用下自动落在顶部的搁置网板6上，且两个搁置网板6相互闭合后，几乎不存在间距，避免损坏光伏晶片，底部的搁置网板6左右两侧的导向滑杆9沿着引导轨11向外滑动，同理，第一齿轮15被第一齿条17作用反向转动，使第一转杆13和转动网板14向外转动，使得两个转动网板14缓慢打开，避免中部的网板阻碍蚀刻液落下的位置，保证蚀刻液能准确、完整地落在光伏晶片的蚀刻位置，搁置网板6主动180°后，两个搁置网板6完全变换位置，此时，关闭第一电机8，顶部的喷淋机构再次启动喷出蚀刻液，对变换蚀刻面的光伏晶片进行蚀刻，从而将光伏晶片的两面均能进行蚀刻，蚀刻完成后，打开防护壳1，将光伏晶片取出，完成蚀刻，从而实现在每次对光伏晶片进行双面蚀刻时，利用放置机构将光伏晶片稳定的支撑，并在光伏晶片一面蚀刻完成后，配合转换机构，使放置机构进行转动，放置机构先进行闭合，将光伏晶片进行夹持稳定，避免在转动过程中光伏晶片滑出，且在转换过后，转换机构使放置机构中部打开，避免放置机构干扰蚀刻液蚀刻光伏晶片，保证蚀刻液对光伏晶片的蚀刻效果，快速对光伏晶片双面进行蚀刻。
作为本发明的进一步方案，两个搁置网板6相对面均固定连接有防护板18，防护板18用于防止光伏晶片滑出；工作时，由于光伏晶片本身较重，且在利用两个搁置网板6相互挤压光伏晶片可能无法完全稳固光伏晶片，光伏晶片可能会滑落，通过在两个搁置网板6的放置面上固定连接有防护板18，防护板18突出与搁置网板6，在光伏晶片滑动过程中，对其进行阻挡，避免光伏晶片滑出搁置网板6。
作为本发明的进一步方案，两个防护板18内侧均连接有两组相对布置的用于对中光伏晶片的对中机构，对中机构包括若干第二滑杆19，若干第二滑杆19均贯穿防护板18并与其滑动连接，若干第二滑杆19内端共同固定连接有夹紧板20，若干第二滑杆19外端共同固定连接有拉动板21，拉动板21外侧壁上固定连接有若干引导块22，顶部引导块22与底部引导块22错位布置，每个第二滑杆19外表面上均套设有位于夹紧板20与防护板18之间的第一弹簧23，两个第一转板3外侧壁上均固定连接有第二连接板24，两个第二连接板24之间共同固定连接有引导长条块25，引导长条块25内部开设有引导槽，引导槽用于与引导块22相作用；工作时，由于光伏晶片在更换过程中可能会发生滑动，容易导致光伏晶片不完全处于转动网板14上，会影响后续蚀刻液落在光伏晶片的位置，影响光伏晶片的蚀刻效果，通过利用夹紧板20将光伏晶片进行弹性夹持，使光伏晶片处于两个转动网板14顶部，使得顶部的转动网板14打开时，光伏晶片的顶部完全暴露，能与蚀刻液完全接触，且在两个搁置网板6转换位置的过程中，顶部的搁置网板6向下移动，通过防护板18带动第二滑杆19、拉动板21和引导块22一同向内移动，引导块22被引导槽作用，使得引导块22和拉动板21一同向外移动，通过第二滑杆19拉动两个夹紧板20向外侧移动打开，同时，底部的导向块始终被引导槽作用处于打开状态，但搁置网板6翻转到一定程度时，光伏晶片落在顶部的搁置网板6上，此时，夹紧板20被打开，使得光伏晶片能更顺利地进入两个夹紧板20之间，避免光伏晶片落在两个夹紧板20的顶部，两个夹紧板20位于转动网板14与搁置网板6边缘，从而限制光伏晶片，使光伏晶片处于转动网板14顶部，在顶部的转动网板14打开后，光伏晶片能完全被蚀刻，保证蚀刻的效果。
作为本发明的进一步方案，喷淋机构包括进液管26，进液管26固定连接在防护壳1的内部，进液管26的底端固定连通有喷淋板27，喷淋板27位于两个转动网板14的正上方；工作时，由于需要对光伏晶片的蚀刻面进行完全蚀刻，而光伏晶片处于转动网板14的任意位置，通过设置的喷淋板27，使喷淋板27的包围转动网板14，且处于转动网板14的正上方，从而对位于转动网板14顶部任意位置的光伏晶片进行喷淋蚀刻，保证蚀刻的效果。
作为本发明的进一步方案，防护壳1底部固定连接有收集壳28，收集壳28大于搁置网板6，收集壳28用于收集蚀刻液；工作时，由于在喷淋蚀刻液蚀刻光伏晶片的过程中，会喷出较多的蚀刻液，而蚀刻液在蚀刻过后，落在防护壳1底部，不易对其进行收集，通过在防护壳1内侧底部固定连接有收集壳28，将落下的蚀刻液进行收集，避免蚀刻液胡乱地流动，有利于人员快速回收或者集中处于蚀刻液。
Claims (6)
1.一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，包括防护壳(1)，其特征在于：所述防护壳(1)内侧设有用于夹持放置光伏晶片的放置机构，所述放置机构左右两侧连接有用于驱动放置机构转动变换光伏晶片的转换机构，所述放置机构在转换机构驱动的同时发生上下的移动并使放置机构顶部的打开，所述防护壳(1)顶部连接有用于对光伏晶片进行喷淋蚀刻液的喷淋机构，所述喷淋机构位于放置机构的正上方；
所述放置机构包括两个第一转轴(2)，两个所述第一转轴(2)分别转动连接在所述防护壳(1)左右两侧壁上，两个所述第一转轴(2)内端均固定连接有第一转板(3)，两个所述第一转板(3)内侧均开设有两个第一滑槽(4)，每个所述第一滑槽(4)内侧壁上均滑动连接有第一滑板(5)，同水平两个所述第一滑板(5)之间共同固定连接有搁置网板(6)，每个所述第一滑槽(4)内侧壁上均固定连接有强力弹簧(7)，所述强力弹簧(7)外端固定连接在第一滑板(5)上；
所述转换机构包括第一电机(8)，所述第一电机(8)固定连接在防护壳(1)的外侧壁上，所述第一电机(8)的输出轴与第一转轴(2)固定连接，每个所述第一滑板(5)外端均固定连接有导向滑杆(9)，所述防护壳(1)左右内侧壁上均通过两个第一连杆(10)固定连接有引导轨(11)，所述导向滑杆(9)位于引导轨(11)的内侧，所述引导轨(11)用于使两个搁置网板(6)在转换位置的过程中闭合，两个所述搁置网板(6)中部均开设有第一通槽(12)，两个所述第一通槽(12)内侧均转动连接有第一转杆(13)，每个所述第一转杆(13)外表面上均固定连接有转动网板(14)，所述第一转板(3)外侧壁上连接在转换两个搁置网板(6)过程中使转动网板(14)打开的转动机构。
2.根据权利要求1所述的一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，其特征在于：所述转动机构包括四个第一齿轮(15)，四个所述第一齿轮(15)分别固定连接在四个所述第一转杆(13)的外表面上，每个所述第一转板(3)外侧壁上均固定连接有两个第一连接板(16)，每个所述第一连接板(16)外端均固定连接有第一齿条(17)，所述第一齿条(17)与第一齿轮(15)相啮合。
3.根据权利要求2所述的一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，其特征在于：两个所述搁置网板(6)相对面均固定连接有防护板(18)，所述防护板(18)用于防止光伏晶片滑出。
4.根据权利要求3所述的一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，其特征在于：两个所述防护板(18)内侧均连接有两组相对布置的用于对中光伏晶片的对中机构，所述对中机构包括若干第二滑杆(19)，若干所述第二滑杆(19)均贯穿防护板(18)并与其滑动连接，若干所述第二滑杆(19)内端共同固定连接有夹紧板(20)，若干所述第二滑杆(19)外端共同固定连接有拉动板(21)，所述拉动板(21)外侧壁上固定连接有若干引导块(22)，顶部所述引导块(22)与底部引导块(22)错位布置，每个所述第二滑杆(19)外表面上均套设有位于夹紧板(20)与防护板(18)之间的第一弹簧(23)，两个所述第一转板(3)外侧壁上均固定连接有第二连接板(24)，两个所述第二连接板(24)之间共同固定连接有引导长条块(25)，所述引导长条块(25)内部开设有引导槽，所述引导槽用于与引导块(22)相作用。
5.根据权利要求1所述的一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，其特征在于：所述喷淋机构包括进液管(26)，所述进液管(26)固定连接在防护壳(1)的内部，所述进液管(26)的底端固定连通有喷淋板(27)，所述喷淋板(27)位于两个转动网板(14)的正上方。
6.根据权利要求1所述的一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机，其特征在于：所述防护壳(1)底部固定连接有收集壳(28)，所述收集壳(28)大于搁置网板(6)，所述收集壳(28)用于收集蚀刻液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111193374.6A CN114038939B (zh) | 2021-10-13 | 2021-10-13 | 一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111193374.6A CN114038939B (zh) | 2021-10-13 | 2021-10-13 | 一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114038939A CN114038939A (zh) | 2022-02-11 |
| CN114038939B true CN114038939B (zh) | 2022-11-25 |
Family
ID=80141215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111193374.6A Active CN114038939B (zh) | 2021-10-13 | 2021-10-13 | 一种新能源光伏晶片的高效蚀刻机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114038939B (zh) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103065996A (zh) * | 2012-12-31 | 2013-04-24 | 上海新阳半导体材料股份有限公司 | 晶圆表面处理装置 |
| CN112133659A (zh) * | 2020-09-30 | 2020-12-25 | 青田林心半导体科技有限公司 | 一种半导体晶圆表面清理和安全储存保护箱 |
| CN112490107A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-03-12 | 北京瓢虫星球信息技术有限公司 | 一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法 |
| CN112547603A (zh) * | 2020-11-13 | 2021-03-26 | 马鞍山锲恒精密组件科技有限公司 | 一种半导体晶圆表面清洗装置 |
| CN112735992A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-04-30 | 亚电科技南京有限公司 | 基于惰性气体的防水痕半导体晶圆清洗装置及使用方法 |
| CN112928046A (zh) * | 2021-01-22 | 2021-06-08 | 徐州中辉光伏科技有限公司 | 一种太阳能光伏晶片蚀刻装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113206028A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-08-03 | 王珏 | 一种用于蚀刻半导体晶片的设备 |
-
2021
- 2021-10-13 CN CN202111193374.6A patent/CN114038939B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN103065996A (zh) * | 2012-12-31 | 2013-04-24 | 上海新阳半导体材料股份有限公司 | 晶圆表面处理装置 |
| CN112133659A (zh) * | 2020-09-30 | 2020-12-25 | 青田林心半导体科技有限公司 | 一种半导体晶圆表面清理和安全储存保护箱 |
| CN112547603A (zh) * | 2020-11-13 | 2021-03-26 | 马鞍山锲恒精密组件科技有限公司 | 一种半导体晶圆表面清洗装置 |
| CN112490107A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-03-12 | 北京瓢虫星球信息技术有限公司 | 一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法 |
| CN112928046A (zh) * | 2021-01-22 | 2021-06-08 | 徐州中辉光伏科技有限公司 | 一种太阳能光伏晶片蚀刻装置 |
| CN112735992A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-04-30 | 亚电科技南京有限公司 | 基于惰性气体的防水痕半导体晶圆清洗装置及使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114038939A (zh) | 2022-02-11 |
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