CN112824556A - 用于arc镀膜生产线的基片翻面设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，包括基片架、旋转底板、基片架底座、固定座和旋转电机，固定座固定在所述镀膜生产线的箱体内，旋转电机安装在固定座上，基片架位于旋转底板上，旋转电机连接并驱动旋转底板和基片架转动。本发明旋转底板和基片架底座同步旋转，带动基片架同步转动，实现基片架翻面的同时旋转平稳；基片架上设有多个基片区，可放置多个基片，充分利用基片架的位置。

Description

用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备

技术领域

本发明涉及镀膜生产技术领域，具体为用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备。

背景技术

真空镀膜是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。ARC(减反射)镀膜需要提高待镀膜基片的减反射性能，因此常常需要对待镀膜的基片进行双面镀膜，而待镀膜的基片安装在基片架上，一次只能对基片的一面进行镀膜，如此便会使镀膜生产线的长度较长。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，旋转底板和基片架底座同步旋转，带动基片架同步转动，实现基片架翻面的同时旋转平稳；基片架上设有多个基片区，可放置多个基片，充分利用基片架的位置。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：

用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于，包括基片架、旋转底板、基片架底座、固定座和旋转电机，固定座固定在所述镀膜生产线的箱体内，旋转电机安装在固定座上，基片架位于旋转底板上，旋转电机连接并驱动旋转底板和基片架转动。

作为上述技术方案的进一步改进为：

旋转电机的电机轴垂直于水平面，旋转底板为一矩形平板，旋转底板的中部套接在旋转电机的电机轴的外部，旋转底板和固定座之间设有轴承，旋转底板和水平面平行。

轴承的一个端面接触旋转底板、另一个端面接触固定座，轴承的端面和水平面平行，旋转底板和旋转电机的电机轴之间设有轴承，旋转电机的电机轴穿过轴承的内圈，旋转底板的中心套接在轴承的外圈外部。

基片架底座位于旋转底板上，基片架底座长方体形，旋转电机的电机轴驱动端共运动的连接基片架底座的中部，基片架底座的两端通过插销可拆卸连接在旋转底板上。

基片架底座上部设有滑槽，基片架底端滑设在所述滑槽内。

基片架底座底部的两个各设有一个限位座，限位座一端铰接在基片架底座上，另一端可拆卸的连接在基片架底座上。

基片架包括框架和基片区，框架围设在基片区周围，片区包括多个基片区A和多个基片区B，基片区A和基片区B装载不同型号的待镀膜基片。

一个基片区包括四个基片区A和三个基片区B，三个基片区B位于四个基片区A的下方，四个基片区A呈两排两列均匀布置，三个基片区B呈一行均匀布置。

基片区A上包括多个基片位，每个基片位装载一个待镀膜的基片，每个基片区B装载一个待镀膜的另一种基片，基片区B的面积大于基片位的面积，

所述翻面设备还包括盖板和卡扣，盖板盖合在基片区A上，卡扣扣在盖板上，将盖板压紧。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：旋转底板和基片架底座同步旋转，带动基片架同步转动，实现基片架翻面的同时旋转平稳；基片架上设有多个基片区，可放置多个基片，充分利用基片架的位置。

附图说明

图1为本发明一个实施例的结构示意图；

图2为本发明一个实施例的基片区A的结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明提供的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备作进一步详细、完整地说明。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，如图1和图2所示，包括基片架5、旋转底板1、基片架底座2、固定座4和旋转电机3，固定座4固定在所述镀膜生产线的箱体内，旋转电机3安装在固定座4上，基片架5位于旋转底板1上，旋转电机3连接并驱动旋转底板1和基片架5转动。

固定座4的具体形状和结构根据其它部件的设置适应性设计，其作用为支撑上述部件并限定它们的位置，具体形状设计为本领域技术人员所熟知的技术，在此不再赘述。旋转电机3安装在固定座4，且旋转电机3的电机轴垂直于水平面，其电机轴的传动端位于所述旋转电机3本体的上方，即所述电机轴的向上指向。

旋转底板1为一矩形平板，旋转底板1的中部套接在旋转电机3的电机轴的外部，旋转底板1和固定座4之间设有轴承，且旋转底板1和水平面平行，具体的，轴承的一个端面接触旋转底板1、另一个端面接触固定座4，轴承的端面和水平面平行。轴承的设置使旋转底板1可相对固定座4转动，且转动的中心轴垂直于水平面。旋转底板1和旋转电机3的电机轴之间设有轴承，旋转电机3的电机轴穿过轴承的内圈，旋转底板1的中心套接在轴承的外圈外部，如此使旋转底板1和旋转电机3的电机轴之间可发生相对转动。

基片架底座2位于旋转底板1上，基片架底座2长方体形，旋转电机3的电机轴驱动端共运动的连接基片架底座2的中部，具体的，旋转电机3的电机轴驱动端和基片架底座2的中部通过连接法兰共运动的连接，电机驱动轴通过法兰和被驱动部件连接的方式为本领域技术人员所熟知的技术，在此不再赘述。基片架底座2的两端通过插销可拆卸连接在旋转底板1上。可拆卸的连接一方面使基片架底座2和旋转底板1同步运动，另一方面使基片架底座2和旋转底板1便于拆卸进行维修和清理。由上可知，旋转电机3启动时，其驱动端驱动基片架底座2旋转，旋转中心轴为旋转电机3的电机轴，即垂直于水平面，且基片架底座2带动旋转底板1同步旋转，由于旋转底板1和固定座4之间的轴承，以及旋转底板1和旋转电机3的电机轴之间的轴承的设置，旋转底板1可顺畅的被基片架底座2带动旋转。

基片架底座2用于支撑基片架5，基片架底座2上部设有滑槽，基片架5底端滑设在所述滑槽内。同时基片架底座2底部的两个各设有一个限位座，限位座一端铰接在基片架底座2上，另一端可拆卸的连接在基片架底座2上，具体的，另一端钩挂在基片架底座2上。限位座的另一端连接在基片架底座2上时，限位座横跨基片架5的厚度，即限位座实现对基片架5的限位，防止在翻面基片架5从所述滑槽上滑落下来。基片架5未进入所述滑槽时，两个所述限位座打开；基片架5进入所述滑槽后，两个所述限位座的两端连接基片架底座2。

基片架5用于装载待镀膜的基片，基片架5包括框架和基片区，框架围设在基片区周围，具体的，框架连接基片架5的一周，框架的作用一方面用于支撑所述基片区，另一方面用于保护基片区，防止基片区边缘被磨损。当基片架5底端滑设在所述滑槽内时，是基片架5底端的框架滑设在所述滑槽内。基片区包括多个基片区A和多个基片区B7，基片区A和基片区B7装载不同型号的待镀膜基片，即，对不同的待镀膜基片进行分区以在同一个基片架5上装载不同的基片，实现对基片架5的充分利用。较佳的，一个基片区包括四个基片区A和三个基片区B7，三个基片区B7位于四个基片区A的下方，四个基片区A呈两排两列均匀布置，三个基片区B7呈一行均匀布置。基片区A上包括多个基片位8，每个基片位8装载一个待镀膜的基片。较佳的，基片区A上包括十六个基片位8，分成四排四列均匀布置。每个基片区B7装载一个待镀膜的另一种基片。基片区B7的面积大于基片位8的面积，即基片区B7适用的待镀膜的基片的面积大于基片位8适用的待镀膜的基片的面积。

当基片区A内未装载待镀膜的基片时，通过盖板6保护所述基片区A。具体的，盖板6盖合在基片区A上，且盖板6为可拆卸的盖合在基片区A上，较佳的，盖板6盖合在基片区A时，卡扣9扣在盖板6上，将盖板6压紧，以实现盖板6的盖合功能。

最后有必要在此说明的是：以上实施例只用于对本发明的技术方案作进一步详细地说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于，包括基片架(5)、旋转底板(1)、基片架底座(2)、固定座(4)和旋转电机(3)，固定座(4)固定在所述镀膜生产线的箱体内，旋转电机(3)安装在固定座(4)上，基片架(5)位于旋转底板(1)上，旋转电机(3)连接并驱动旋转底板(1)和基片架(5)转动。

2.根据权利要求1所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：旋转电机(3)的电机轴垂直于水平面，旋转底板(1)为一矩形平板，旋转底板(1)的中部套接在旋转电机(3)的电机轴的外部，旋转底板(1)和固定座(4)之间设有轴承，旋转底板(1)和水平面平行。

3.根据权利要求2所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：轴承的一个端面接触旋转底板(1)、另一个端面接触固定座(4)，轴承的端面和水平面平行，旋转底板(1)和旋转电机(3)的电机轴之间设有轴承，旋转电机(3)的电机轴穿过轴承的内圈，旋转底板(1)的中心套接在轴承的外圈外部。

4.根据权利要求2所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：基片架底座(2)位于旋转底板(1)上，基片架底座(2)长方体形，旋转电机(3)的电机轴驱动端共运动的连接基片架底座(2)的中部，基片架底座(2)的两端通过插销可拆卸连接在旋转底板(1)上。

5.根据权利要求2所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：基片架底座(2)上部设有滑槽，基片架(5)底端滑设在所述滑槽内。

6.根据权利要求5所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：基片架底座(2)底部的两个各设有一个限位座，限位座一端铰接在基片架底座(2)上，另一端可拆卸的连接在基片架底座(2)上。

7.根据权利要求5所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：基片架(5)包括框架和基片区，框架围设在基片区周围，片区包括多个基片区A和多个基片区B(7)，基片区A和基片区B(7)装载不同型号的待镀膜基片。

8.根据权利要求7所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：一个基片区包括四个基片区A和三个基片区B(7)，三个基片区B(7)位于四个基片区A的下方，四个基片区A呈两排两列均匀布置，三个基片区B(7)呈一行均匀布置。

9.根据权利要求8所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：基片区A上包括多个基片位(8)，每个基片位(8)装载一个待镀膜的基片，每个基片区B(7)装载一个待镀膜的另一种基片，基片区B(7)的面积大于基片位(8)的面积。

10.根据权利要求8所述的用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，其特征在于：所述翻面设备还包括盖板(6)和卡扣(9)，盖板(6)盖合在基片区A上，卡扣(9)扣在盖板(6)上，将盖板(6)压紧。

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