CN112808707A - 一种表面清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体底部还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱一侧设有高压电源，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述主机体内部中空形成腔体，本发明中采用石墨作为电极对活性气体与惰性气体进行电离，石墨电极与活性气体及惰性气体反应后，不会对被清洗产品表面造成残留，设置有多组石墨电极，增加了对惰性气体与活性气体的电离速率。
Description
技术领域
本发明涉及产品清洗技术领域，特别涉及一种表面清洁装置。
背景技术
生产的产品要求表面无污染杂质粒子，以及任何化学物质残留，现有的表面清洁装置多采用金属电极，金属电极溅射后，生成的金属及金属化合物对产品表面造成残留。
发明内容
有鉴于此，本发明旨在提出一种表面清洁装置，以解决现有的表面清洁装置多采用金属电极，金属电极溅射后，生成的金属及金属化合物对产品表面造成残留的问题。
为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：
一种表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体底部还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱一侧设有高压电源，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述主机体内部中空形成腔体，所述腔体内部设有固定架及连接杆，所述固定架包覆有若干石墨电极，所述固定架一侧设有接线板，所述接线板与所述高压电源连接，所述连接杆设有转动杆，所述连接杆与所述转动杆控制连接，所述转动杆设有卡爪。
进一步的，所述固定架具有槽口，所述固定架还设有用于隔离所述石墨电极的隔板，所述隔板设于所述固定架的槽口内，并且所述石墨电极横向分布于所述隔板的两侧。
进一步的，所述接线架开设有若干接线孔，所述接线孔与所述石墨电极固定连接。
进一步的，所述腔体顶部设有真空度检测器。
进一步的，所述惰性气体箱、活性气体箱与所述主机体连接的管道上均设有电磁阀。
进一步的，所述主机体一侧设有电控箱，所述电控箱与所述电磁阀电连接。
进一步的，所述主机体上开设有观察窗。
相对于现有技术，本发明所述的一种表面清洁装置具有以下优势：
1、采用石墨作为电极对活性气体与惰性气体进行电离，石墨电极与活性气体及惰性气体反应后生成气体，不会对被清洗产品表面造成残留；
2、设置有多组石墨电极，增加了对惰性气体与活性气体的电离速率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下文中将对本发明实施例的附图进行简单介绍。其中，附图仅仅用于展示本发明的一些实施例，而非将本发明的全部实施例限制于此。
图1为本发明第一结构示意图；
图2为本发明主机体结构示意图；
图3为本发明固定架结构示意图；
图4为本发明接线架第一结构示意图；
图5为本发明物质分布状态示意图；
图6为本发明清洗系统的简图；
图7为本发明清洗系统中离子分布区域示意图。
附图标记：
1、真空泵组；2、主机体；201、观察窗；3、腔体；4、卡爪；5、转动杆；6、连接杆；7、真空度检测器；8、固定架；801、接线架；802、接线孔；9、石墨电极；10、隔板；11、电控箱；12、高压电源；13、惰性气体箱；14、活性气体箱；15、电磁阀。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
实施例一：
参见附图1，一种表面清洁装置，所述主机体2内部中空形成腔体3，所述腔体3内部设置有固定架8与石墨电极9，所述固定架8将所述石墨电极9覆盖，所述固定架8与高压电源12电连接，所述主机体2分别与惰性气体箱13、活性气体箱14、真空泵组1连通。
具体的，所述主机体2整体呈矩形，所述主机体2内部设置有耐压板，所述主机体2为中空结构，所述固定架8覆盖在所述石墨电极9上，对所述石墨电极9进行固定，所述固定架8与所述石墨电极9固定在所述腔体3底部，所述石墨电极9与所述高压电源12电连接，所述高压电源12为所述石墨电极9供电，所述惰性气体箱13、所述活性气体箱14、所述真空泵组1均通过管道与所述主机体2连接，所述惰性气体箱13中储存有惰性气体，并向所述主机体2的所述腔体3中提供惰性气体，所述活性气体箱14中储存活性气体，并向所述主机体2的所述腔体3中提供活性气体，所述真空泵组1对所述主机体2的所述腔体3内部进行抽真空，使整个清洗过程在真空状态下进行。
优选的，所述固定架8具有槽口，所述固定架8还设有用于隔离所述石墨电极9的隔板10，所述隔板10设于所述固定架8的槽口内，并且所述石墨电极9横向分布于所述隔板10的两侧，并设置多组所述石墨电极9，在惰性气体遇上所述石墨电极9时能够更有效的进行电离。
优选的，参见附图3-4所述固定架8一侧设置有接线架801，所述接线架801开设有若干接线孔802，所述接线孔802与所述石墨电极9固定连接，所述石墨电极9插入所述接线孔802中，通过所述接线架801中的所述接线孔802对所述石墨电极9进行固定，同时所述接线架801采用绝缘材料制成，所述接线孔802底部设置有连通所述高压电源12的导电片，所示石墨电极9端部与导电片接触。
优选的，所述腔体3顶部设置有真空度检测器7，所述真空度检测器7对所述腔体3内部真空度进行检测，使装置能够在不同真空度下对物体表面的清洗。
优选的，所述惰性气体箱13、所述活性气体箱14与所述主机体2连接的管道上均设置有电磁阀15，所述电磁阀15控制所述惰性气体箱13与所述活性气体箱14的开启与闭合，所述电磁阀15的型号为PHS530。
优选的，所述主机体2顶部内壁上设置有连接杆6，所述连接杆6下方设置有转动杆5，所述转动杆5下方设置有卡爪4，所述卡爪4对被清洗零件进行夹持，所述转动杆5带动所述卡爪4转动，使被清洗零件以不同角度进行清洗，所述连接杆6对所述转动杆5固定。
实施例二：
在实施例一的基础上，对实施例一表面清洁装置进行进一步优化：
所述主机体2一侧设置有电控箱11，所述电控箱11与所述电磁阀15电连接。
具体的，通过所述电控箱11控制所述电磁阀15的开关，即通过所述电控箱11控制进入所述主机体2内部的气体。
实施例三：
在实施例一的基础上，对实施例一表面清洁装置进行进一步优化：
所述主机体2上开有观察窗201。
具体的，参见附图2，所述观察窗201能够将所述卡爪4暴露，将被清洗零件卡在所述卡爪4之间，能够通过所述观察窗201观察产品的清洗过程。
参见附图5-7，在具体使用过程中，所述真空泵组1先对装置的所述腔体3进行抽真空，使所述腔体3为真空腔体3；所述真空度检测器7对所述腔体3内部真空度进行检测，可以根据零件不同在不同真空度下进行清洗，在真空腔内首先充入氩气和氧气，随之将所述石墨电极9与高压电源12电连接，使所述腔体3内形成一个交变电场，接着，其发射出来的大量电子高速飞向接地阳极，并与真空中的氩气和氧气发生碰撞产生电离，惰性气体在真空的高压电场下，生产等离子体，等离子体对产品表面的残留物进行轰击清洗，对于强力残留于晶圆表面的污染物，利用等离子轰击清洗晶圆表面，避免以使用滚刷直接接触晶圆表面摩擦的方式去除，使用离子轰击清洗为绿色无残留清洗；并且由于等离子体积小于水分子，其可以深入到晶圆微细孔眼和内部完成清洗，提高了清洗效果；
通过所述活性气体箱14向等离子清洗装置的所述腔体3中通入活性气体；活性气体为氧气，当通入氧气，靶表面轻微氧化，被溅射出来的物质，包括二次电子、CO2、CO、CC、C等，飞向基材，并和真空中的氧气、氧离子发生反应，生成氧化合物，撞向基材，部分氧气与所述石墨电极9反应生成二氧化碳形成气体，当负氧离子被加速撞向基材和没有完成氧化的C、CC 发生反应生成CO2、CO 从基材上逃离，被真空泵吸走，清洗过程中，所述转动杆5带动卡爪4转动，能使基材均匀地在阳极等离子区内/附近，被飘动的氩分子/离子、氧分子/离子和被加速的氧离子与被加速的CO2、CO 化合物、二次电子等撞击，使基材产生物理和化学清洗，所述主机体2上开有观察窗201，可以通过所述观察窗201观察所述腔体3中的，所述电控箱11对清洗装置进行控制。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。
Claims (7)
1.一种表面清洁装置，其特征在于：包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体底部还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱一侧设有高压电源，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述主机体内部中空形成腔体；
所述腔体内部设有固定架及连接杆，所述固定架包覆有若干石墨电极，所述固定架一侧设有接线板，所述接线板与所述高压电源连接，所述连接杆设有转动杆，所述连接杆与所述转动杆控制连接，所述转动杆设有卡爪。
2.根据权利要求1所述的一种表面清洁装置，其特征在于，所述固定架具有槽口，所述固定架还设有用于隔离所述石墨电极的隔板，所述隔板设于所述固定架的槽口内，并且所述石墨电极横向分布于所述隔板的两侧。
3.根据权利要求1所述的一种表面清洁装置，其特征在于，所述接线架开设有若干接线孔，所述接线孔与所述石墨电极固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种表面清洁装置，其特征在于，所述腔体顶部设置有真空度检测器。
5.根据权利要求1所述的一种表面清洁装置，其特征在于，所述惰性气体箱、活性气体箱与所述主机体连接的管道上均设有电磁阀。
6.根据权利要求1所述的一种表面清洁装置，其特征在于，所述主机体一侧设置有电控箱，所述电控箱与所述电磁阀电连接。
7.根据权利要求1所述的一种表面清洁装置，其特征在于，所述主机体上开设有观察窗。
Priority Applications (1)
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| CN202110247601.2A CN112808707A (zh) | 2021-03-06 | 2021-03-06 | 一种表面清洁装置 |
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| CN202110247601.2A CN112808707A (zh) | 2021-03-06 | 2021-03-06 | 一种表面清洁装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN112808707A true CN112808707A (zh) | 2021-05-18 |
Family
ID=75862977
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN202110247601.2A Pending CN112808707A (zh) | 2021-03-06 | 2021-03-06 | 一种表面清洁装置 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN112808707A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116673273A (zh) * | 2023-08-03 | 2023-09-01 | 北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司 | 一种氟化钙原料表面去杂方法及其装置 |
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2021
- 2021-03-06 CN CN202110247601.2A patent/CN112808707A/zh active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116673273A (zh) * | 2023-08-03 | 2023-09-01 | 北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司 | 一种氟化钙原料表面去杂方法及其装置 |
| CN116673273B (zh) * | 2023-08-03 | 2023-10-27 | 北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司 | 一种氟化钙原料表面去杂方法及其装置 |
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