CN112802948A - 显示器件及显示器件的制作方法 - Google Patents

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CN112802948A CN202110337133.8A CN202110337133A CN112802948A CN 112802948 A CN112802948 A CN 112802948A CN 202110337133 A CN202110337133 A CN 202110337133A CN 112802948 A CN112802948 A CN 112802948A
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Abstract

本申请涉及显示技术领域，公开了一种显示器件的制作方法，包括：分别在第一基础部件形成光转换层，以及，在第二基础部件形成波长选择层；将光转换层的背离第一基础部件的一面和波长选择层的背离第二基础部件的一面贴合设置，得到显示器件。本申请提供的一种显示器件的制作方法，通过将制作光转换层和制作波长选择层这两个工段分别单独制作，再将制作好的光转换层和波长选择层贴合设置得到显示器件，简化了制作工艺，提高了产品良率。本申请还公开了一种显示器件。

Description

显示器件及显示器件的制作方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，例如涉及一种显示器件及显示器件的制作方法。
背景技术
目前，在显示领域，通常采用光转换层进行彩色显示。
在实现本公开实施例的过程中，发现相关技术中至少存在如下问题：
在光转换层的制作过程中，由于器件结构和制作工艺趋于复杂化，导致制作工艺难度较大，产品良率较低。
发明内容
为了对披露的实施例的一些方面有基本的理解，下面给出了简单的概括。该概括不是泛泛评述，也不是要确定关键／重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围，而是作为后面的详细说明的序言。
本公开实施例提供了一种显示器件及显示器件的制作方法，以解决在光转换层的制作过程中，由于器件结构和制作工艺趋于复杂化，导致制作工艺难度较大，产品良率较低的技术问题。
本公开实施例提供的一种显示器件的制作方法，可以包括：
分别在第一基础部件形成光转换层，以及，在第二基础部件形成波长选择层；
将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面和所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面贴合设置，得到所述显示器件。
在一些实施例中，所述第一基础部件为基板，所述第二基础部件为发光单元层；
或，
所述第一基础部件为发光单元层，所述第二基础部件为基板。
在一些实施例中，所述方法还包括：
设置所述光转换层包括至少相邻的两个像素单元；
所述在第一基础部件形成光转换层，包括：
在所述第一基础部件的一面，对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构；
在相邻的两个像素隔离结构之间，设置与像素单元相对应的光转换材料，得到所述光转换层。
在一些实施例中，对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构，包括：
在所述相邻的两个像素单元之间设置像素间隔区域；
在所述像素间隔区域中的部分或全部区域，设置所述像素隔离结构。
在一些实施例中，在相邻的两个像素隔离结构之间，设置与像素单元相对应的光转换材料，包括：
在所述相邻的两个像素隔离结构之间设置容纳空间；
在所述容纳空间中，部分或全部地设置与所述像素单元相对应的光转换材料。
在一些实施例中，在所述容纳空间中，部分或全部地设置与所述像素单元相对应的光转换材料，包括：
设置所述相邻的两个像素单元对应于相同或不同的光转换材料；
在设置所述相邻的两个像素单元对应于相同的光转换材料的情况下，在相邻的两个容纳空间中，部分或全部地同时设置与所述相邻的两个像素单元相对应的相同的光转换材料；
或，
在设置所述相邻的两个像素单元对应于不同的光转换材料的情况下，在相邻的两个容纳空间中，部分或全部地独立设置与所述相邻的两个像素单元相对应的不同的光转换材料。
在一些实施例中，所述像素隔离结构包括像素隔离主体。
在一些实施例中，所述对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构，还包括：
在所述像素隔离主体和需要进行隔离的像素单元之间设置间隔结构。
在一些实施例中，在所述像素隔离主体和需要进行隔离的像素单元之间设置间隔结构，包括：
在与所述像素隔离主体相邻的像素单元之间设置所述间隔结构。
在一些实施例中，对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构，还包括：
将所述像素隔离结构的截面形状中的部分或全部形状设置为矩形、三角形、梯形、倒梯形中至少之一。
在一些实施例中，在所述第一基础部件为发光单元层，所述第二基础部件为基板时；
所述第一基础部件的一面，为所述发光单元层的出光面。
在一些实施例中，所述设置所述光转换层包括像素单元，包括：
设置所述像素单元包括与所述波长选择层对应设置的红色像素单元和绿色像素单元；
所述在第二基础部件形成波长选择层，包括：
在所述第二基础部件的一面，对应于所述红色像素单元和绿色像素单元设置所述波长选择层。
在一些实施例中，所述设置所述光转换层包括像素单元，还包括：
设置所述像素单元包括与所述波长选择层非对应设置的蓝色像素单元。
在一些实施例中，设置所述波长选择层包括色阻层、分布式布拉格反射镜DBR层中至少之一。
在一些实施例中，将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面和所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面贴合设置，包括：
将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面，部分或全部贴合于所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面。
在一些实施例中，将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面，部分贴合于所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面，包括：
将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面的外周，部分贴合于所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面的外周。
本公开实施例还提供了一种显示器件，该显示器件采用上述的方法制作。
本公开实施例提供的一种显示器件及显示器件的制作方法，可以实现以下技术效果：
通过将制作光转换层和制作波长选择层这两个工段分别单独制作，再将制作好的光转换层和波长选择层贴合设置得到显示器件，简化了制作工艺，提高了产品良率。
以上的总体描述和下文中的描述仅是示例性和解释性的，不用于限制本申请。
附图说明
至少一个实施例通过与之对应的附图进行示例性说明，这些示例性说明和附图并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件示为类似的元件，附图不构成比例限制，并且其中：
图1是本公开实施例提供的一种显示器件的制作方法的流程示意图；
图2是本公开实施例提供的发光单元层的剖面结构示意图；
图3是本公开实施例提供的光转换层的剖面结构示意图；
图4是本公开实施例提供的一种显示器件的制作方法的另一种流程示意图；
图5是本公开实施例提供的像素隔离结构的剖面结构示意图；
图6A是本公开实施例提供的像素间隔区域的剖面结构示意图；
图6B是本公开实施例提供的像素间隔区域的另一剖面结构示意图；
图6C是本公开实施例提供的像素间隔区域的另一剖面结构示意图；
图6D是本公开实施例提供的像素间隔区域的另一剖面结构示意图；
图7A是本公开实施例提供的像素隔离主体的剖面结构示意图；
图7B是本公开实施例提供的像素隔离主体的另一剖面结构示意图；
图7C是本公开实施例提供的像素隔离主体的另一剖面结构示意图；
图8A是本公开实施例提供的在第一基础部件上形成光转换层的剖面结构示意图；
图8B是本公开实施例提供的在第一基础部件上形成光转换层的另一剖面结构示意图；
图8C是本公开实施例提供的在第一基础部件上形成光转换层的另一剖面结构示意图；
图8D是本公开实施例提供的在第一基础部件上形成光转换层的另一剖面结构示意图；
图8E是本公开实施例提供的在第一基础部件上形成光转换层的另一剖面结构示意图；
图9是本公开实施例提供的波长选择层的剖面结构示意图；
图10是本公开实施例提供的波长选择层的另一剖面结构示意图；
图11是本公开实施例提供的波长选择层的另一剖面结构示意图；
图12是本公开实施例提供的波长选择层的另一剖面结构示意图；
图13是本公开实施例提供的显示器件的剖面结构示意图。
附图标记：
10：显示器件；100：第一基础部件；200：第二基础部件；
300：光转换层；301：像素单元；302：光转换材料；
400：像素隔离结构；410：像素间隔区域；420：容纳空间；430：像素隔离主体；440：光隔离材料；450：间隔结构；
500：波长选择层；501：色阻层；502：DBR层；
600：发光单元层；601：发光单元；S：出光面。
具体实施方式
为了能够更加详尽地了解本公开实施例的特点与技术内容，下面结合附图对本公开实施例的实现进行详细阐述，所附附图仅供参考说明之用，并非用来限定本公开实施例。在以下的技术描述中，为方便解释起见，通过多个细节以提供对所披露实施例的充分理解。然而，在没有这些细节的情况下，至少一个实施例仍然可以实施。在其它情况下，为简化附图，熟知的结构和装置可以简化展示。
参见图1，图1示出了本公开实施例提供的一种显示器件的制作方法的流程示意图，本公开实施例提供了一种显示器件10的制作方法，包括：
S101、分别在第一基础部件100形成光转换层300，以及，在第二基础部件200形成波长选择层500；
S102、将光转换层300的背离第一基础部件100的一面和波长选择层500的背离第二基础部件200的一面贴合设置，得到显示器件10。
在一些实施例中，第一基础部件100为基板，第二基础部件200为发光单元层600；或，第一基础部件100为发光单元层600，第二基础部件200为基板。
在一些实施例中，在第一基础部件100为基板时，该基板可以包括透明基板。可选地，第一基础部件100可以附着一些功能结构，例如：功能结构可以包括光栅。
参见图2，图2示出了本公开实施例提供的发光单元层600的剖面结构示意图，在一些实施例中，发光单元层600可以包括多个发光单元601，多个发光单元601可以包括：LED、Mini LED、Micro LED中至少之一。可选地，多个发光单元601可以包括至少一个LED。可选地，多个发光单元601可以包括至少一个Mini LED。可选地，多个发光单元601可以包括至少一个Micro LED。可选地，多个发光单元601可以包括至少一个LED、以及至少一个Mini LED。可选地，多个发光单元601可以包括至少一个LED、以及至少一个Micro LED。可选地，多个发光单元601可以包括至少一个Mini LED、以及至少一个Micro LED。可选地，多个发光单元601可以包括至少一个LED、至少一个Mini LED、以及至少一个Micro LED。可选地，多个发光单元601可以包括除了LED、Mini LED、Micro LED以外的其他发光器件。
在一些实施例中，可以根据工艺需求等实际情况确定发光单元601的器件类型，例如：LED、Mini LED、Micro LED或其他发光器件。
本公开实施例通过将制作光转换层300和制作波长选择层500这两个工段分别单独制作，再将制作好的光转换层300和波长选择层500贴合设置得到显示器件10，简化了制作工艺，提高了产品良率。
下面对光转换层300的制作工艺举例描述。
参见图3，图3示出了本公开实施例提供的光转换层300的剖面结构示意图，在一些实施例中，可以设置光转换层300包括像素单元301。在一些实施例中，像素单元301可以包括：多个复合子像素、多个子像素中至少之一。可选地，每个复合子像素可以包括相同颜色的多个子像素。可选地，多个子像素可以具有以下设置方式：多个子像素可以呈阵列排布，或，不规则排布。
可选地，像素单元301可以包括红色像素单元、绿色像素单元中的至少一种。可选地，像素单元301还可以包括橙色像素单元、黄色像素单元、蓝色像素单元、靛色像素单元、紫色像素单元。可选地，红色像素单元可以吸收红色光。可选地，绿色像素单元可以吸收绿色光。可选地，橙色像素单元可以吸收橙色光。可选地，黄色像素单元可以吸收黄色光。可选地，蓝色像素单元可以吸收蓝色光。可选地，靛色像素单元可以吸收靛色光。可选地，紫色像素单元可以吸收紫色光。
在一些实施例中，多个复合子像素可以包括红色复合子像素、绿色复合子像素中的至少一种。可选地，多个复合子像素还可以包括橙色复合子像素、黄色复合子像素、蓝色复合子像素、靛色复合子像素、紫色复合子像素。可选地，红色复合子像素可以吸收红色光。可选地，绿色复合子像素可以吸收绿色光。可选地，橙色复合子像素可以吸收橙色光。可选地，黄色复合子像素可以吸收黄色光。可选地，蓝色复合子像素可以吸收蓝色光。可选地，靛色复合子像素可以吸收靛色光。可选地，紫色复合子像素可以吸收紫色光。
在一些实施例中，每个复合子像素可以包括相同颜色的多个子像素。可选地，红色复合子像素可以包括多个红色子像素。可选地，绿色复合子像素可以包括多个绿色子像素。可选地，蓝色复合子像素可以包括多个蓝色子像素。可选地，橙色复合子像素可以包括多个橙色子像素。可选地，黄色复合子像素可以包括多个黄色子像素。可选地，蓝色复合子像素可以包括多个蓝色子像素。可选地，靛色复合子像素可以包括多个靛色子像素。可选地，紫色复合子像素可以包括多个紫色子像素。
在一些实施例中，可以根据工艺需求等实际情况对像素单元301进行设置，使多个像素单元301可以包括复合子像素、子像素中至少之一。可选地，无论像素单元301是否包括复合子像素、子像素，像素单元301中还可以包括除像素、子像素以外的其它显示（例如：光转换）结构。
在一些实施例中，光转换层300可以通过波长选择等方式实现光的颜色转换，例如：通过光转换层300中所包括的多个像素单元301中至少之一对来自第二基础部件200的光进行颜色转换。
参见图4，图4示出了本公开实施例提供的一种显示器件的制作方法的另一种流程示意图，步骤S101中，在第一基础部件100形成光转换层300，可以包括：
S401、在第一基础部件100的一面，对应于相邻的两个像素单元301之间设置像素隔离结构400；
S402、在相邻的两个像素隔离结构400之间，设置与像素单元301相对应的光转换材料302，得到光转换层300。
在一些实施例中，在第一基础部件100为发光单元层600，第二基础部件200为基板时；上述第一基础部件100的一面，可以为发光单元层600的出光面S。
参见图5，图5示出了本公开实施例提供的像素隔离结构的剖面结构示意图，在一些实施例中，在第一基础部件100的一面，对应于多个像素单元301的全部中相邻的两个像素单元301之间可以设置像素隔离结构400。可选地，在第一基础部件100的一面，对应于多个像素单元301的部分中相邻的两个像素单元301之间可以设置像素隔离结构400。
在一些实施例中，可以根据工艺需求等实际情况确定在相邻的两个像素单元301之间设置像素隔离结构400的位置、形状、数量等，只要像素隔离结构400能够避免相邻的两个像素单元301发出的光向不希望的方向传导（例如：相邻的两个像素单元301发出的光向彼此传导）即可。
参见图6A、图6B、图6C、图6D，在一些实施例中，基于步骤S401，上述对应于相邻的两个像素单元301之间设置像素隔离结构400，可以包括：
在相邻的两个像素单元301之间设置像素间隔区域410，在相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410中的部分或全部区域，可以设置像素隔离结构400。
在一些实施例中，为了便于识别，将像素间隔区域410采用虚线的方式来表示。
参见图6A，在一些实施例中，可以将截面形状具有倒梯形形状的像素间隔区域410作为相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410，像素间隔区域410可以使得相邻的两个像素单元301的截面形状可以是如图6A中所示的梯形等规则形状，使得贴合得到的显示器件10中相邻的两个像素单元301沿光转换层300的入光方向的截面形状可以是倒梯形等规则形状，也就是说，使得像素单元301的截面形状的倒梯形的下底边（长度较短的底边）朝向光转换层300的出光面，使得像素单元301的截面形状的倒梯形的上底边（长度较长的底边）背离光转换层300的出光面。
可选地，图6A只是示例性的举例，其中，贴合得到的显示器件10中相邻的两个像素单元301沿光转换层300的入光方向的截面形状可以是倒梯形等规则形状还可以应用在前述的相关描述中，例如：可以应用于图3、图5。
在一些实施例中，相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410可能不具有如图6A中所示的像素间隔区域410的倒梯形形状，而是具有封闭弧形、三角形、矩形等其他形状中至少之一。可选地，封闭弧形可以是圆形、半圆形、椭圆形、半椭圆形等。可选地，像素间隔区域410和相邻的两个像素单元301组合得到的结构沿光转换层300的入光方向的截面形状可以是矩形等其他规则形状。
在一些实施例中，可以根据工艺需求等实际情况确定相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410的位置、形状、尺寸等。可选地，为了利于相邻的两个像素单元301的光出射，下面以沿光转换层300的入光方向的截面形状具有梯形形状的像素间隔区域410作为相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410（该像素间隔区域410的长度较短的底边靠近第一基础部件100的一面，长度较长的底边靠近第二基础部件200的出光面），以使贴合得到的显示器件10中相邻的两个像素单元301沿光转换层300的入光方向的截面形状可以是利于光出射的倒梯形形状。
参见图6B，在一些实施例中，在相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410中的部分区域，可以设置像素隔离结构400，该部分区域可以位于相邻的两个像素单元301之间且靠近其中的一个像素单元301（位于图中左侧的像素单元301）。
参见图6C，在一些实施例中，在相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410中的部分区域，可以设置像素隔离结构400，该部分区域可以位于相邻的两个像素单元301之间，且与像素隔离结构400在图6B中所处的位置相对（靠近位于图中右侧的像素单元301）。
参见图6D，在一些实施例中，在相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410中的全部区域，可以设置像素隔离结构400。
在一些实施例中，可以根据工艺需求等实际情况确定在相邻的两个像素单元301之间的像素间隔区域410中设置像素隔离结构400的位置，只要像素隔离结构400能够避免相邻的两个像素单元301发出的光向不希望的方向传导（例如：某一个像素单元301发出的光向相邻的另一像素单元301传导）即可。
在一些实施例中，若第一基础部件100为基板，第二基础部件200为发光单元层时，则在第一基础部件100上设置像素隔离结构400，可以采用以下工艺中的至少一种：通过物理气相沉积PVD、化学气相沉积CVD、电镀、喷墨打印、涂布、注入、印刷、光刻、湿法刻蚀或干法刻蚀的方式设置像素隔离结构400。可选地，通过湿法刻蚀的方式设置像素隔离结构400。若第一基础部件100为发光单元层，第二基础部件200为基板时，则在第一基础部件100上设置像素隔离结构400，可以采用上述工艺中的部分工艺（如光刻）实现。
参见图7A，在一些实施例中，像素隔离结构400可以包括像素隔离主体430。
参见图7B，在一些实施例中，像素隔离主体430可以包含光隔离材料440。可选地，光隔离材料440可以包括光反射材料、光吸收材料中的至少一种。
参见图7C，在一些实施例中，像素隔离结构400还可以包括间隔结构450，该制作方法还可以包括：
将间隔结构450设置于像素隔离主体430和需要进行隔离的像素单元301之间。
在一些实施例中，将间隔结构450设置于像素隔离主体430和需要进行隔离的像素单元301之间，可以包括：
在与像素隔离主体430和相邻的两个像素单元301的至少之一之间设置间隔结构450。
在一些实施例中，设置间隔结构450还可以包括：
在像素隔离主体430中部分或全部地设置间隔结构450。
在一些实施例中，像素隔离主体430和间隔结构450中至少之一可以包含光隔离材料440。
在一些实施例中，对应于相邻的两个像素单元301之间设置像素隔离结构400，还可以包括：
将像素隔离结构400的截面形状中的部分或全部形状设置为矩形、三角形、梯形、倒梯形中至少之一。
在一些实施例中，可以将像素隔离结构400的截面形状中的部分或全部形状设置为倒梯形，使得贴合得到的显示器件10中的像素隔离结构400沿光转换层300的入光方向的截面形状为梯形。
参见图8A、图8B、图8C、图8D、图8E，在一些实施例中，在相邻的两个像素隔离结构400之间，设置与像素单元301相对应的光转换材料302，可以包括：
在相邻的两个像素隔离结构400之间可以存在容纳空间420，
在容纳空间420中，可以部分或全部地设置与像素单元301相对应的光转换材料302。
参见图8A，在一些实施例中，在容纳空间420中，可以部分地设置与像素单元301相对应的光转换材料302，部分容纳空间420可以不设置光转换材料302。可选地，在容纳空间420中，可以部分地设置与红色像素单元相对应的红光转换材料和与绿色像素单元相对应的绿光转换材料。可选地，在容纳空间420中，可以部分地设置与红色像素单元相对应的红光转换材料。可选地，在容纳空间420中，还可以部分地设置与绿色像素单元相对应的绿光转换材料。
参见图8B，在一些实施例中，在容纳空间420中，可以部分地设置与像素单元301相对应的光转换材料302，在容纳空间420中另一部分可以不设置光转换材料302。可选地，在容纳空间420中，可以部分地设置与红色像素单元相对应的红光转换材料。可选地，在容纳空间420中，可以部分地设置与绿色像素单元相对应的绿光转换材料。
参见图8C，在一些实施例中，在容纳空间420中，可以全部地设置与像素单元301相对应的光转换材料302。可选地，在容纳空间420中，可以全部地设置与红色像素单元相对应的红光转换材料。可选地，在容纳空间420中，还可以全部地设置与绿色像素单元相对应的绿光转换材料。可选地，在容纳空间420中，还可以全部地设置与蓝色像素单元相对应的蓝光散射材料。可选地，在容纳空间420中，还可以全部地设置与红色像素单元相对应的红光转换材料、与绿色像素单元相对应的绿光转换材料以及与蓝色像素单元相对应的蓝光散射材料。
在一些实施例中，相邻的两个像素单元301可以对应于相同的光转换材料302，在容纳空间420中，部分或全部地设置与像素单元301相对应的光转换材料302，可以包括：
在相邻的两个像素单元301对应于相同的光转换材料302的情况下，在相邻的两个容纳空间420中可以部分或全部地同时设置与相邻的两个像素单元301相对应的相同的光转换材料302。
在一些实施例中，相邻的两个像素单元301可以对应于不同的光转换材料302，在容纳空间420中，部分或全部地设置与像素单元301相对应的光转换材料302，可以包括：
在相邻的两个像素单元301对应于不同的光转换材料302的情况下，在相邻的两个容纳空间420中可以部分或全部地独立设置与相邻的两个像素单元301相对应的不同的光转换材料302。
可选地，可以根据工艺需求等实际情况采用刻蚀、喷墨打印、光刻等工艺在容纳空间420中设置光转换材料302。
下面以光刻为例对设置光转换材料302进行描述。
参见图8D，在一些实施例中，可以在容纳空间420中涂布包含有红光转换材料的光刻胶。
参见图8E，在一些实施例中，可以使用光刻技术去除非红色像素单元所对应的位置处的光刻胶，并进行固化处理，完成红光转换材料的设置。
可选地，在容纳空间420中涂布包含有绿光转换材料的光刻胶，使用光刻技术去除非绿色像素单元所对应的位置处的光刻胶，并进行固化处理，完成如图8A中所示的绿光转换材料的设置。
可选地，在容纳空间420中涂布包含有蓝光散射材料的光刻胶，使用光刻技术去除非蓝色像素单元所对应的位置处的光刻胶，并进行固化处理，完成如图8C中所示的蓝光散射材料的设置。
可选地，可以采用化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing, CMP）技术将上述光刻胶表面进行抛光处理，可以去除多余的光转换材料302，例如：红光转换材料、绿光转换材料、蓝光散射材料。
在一些实施例中，可以根据工艺需求等实际情况对包含有红光转换材料的光刻胶、包含有绿光转换材料的光刻胶、包含有蓝光散射材料的光刻胶的涂布顺序进行调整。
可选地，像素隔离结构400能够尽量避免相邻的两个像素单元301发出的光向不希望的方向传导（例如：某一个像素单元301发出的光向相邻的另一像素单元301传导），有利于改善显示效果。
下面对波长选择层500的制作工艺举例描述。
在一些实施例中，像素单元301可以包括与波长选择层500对应设置的红色像素单元和绿色像素单元。
在第二基础部件200的一面形成波长选择层500，可以包括：
在第二基础部件200的一面，可以对应于红色像素单元和绿色像素单元设置波长选择层500。
参见图9，图9示出了本公开实施例提供的波长选择层500的剖面结构示意图。
在一些实施例中，像素单元301还可以包括与波长选择层500非对应设置的蓝色像素单元。可选地，光转换材料302可以包括与红色像素单元对应的红光转换材料、与绿色像素单元对应的绿光转换材料，以及与蓝色像素单元对应的蓝光散射材料。
在一些实施例中，波长选择层500可以包括色阻层501和分布式布拉格反射镜（DBR）层502中至少之一。
在一些实施例中，参见图10，以第二基础部件200为发光单元层600为例，在第二基础部件200形成波长选择层500，可以包括：
在第二基础部件200的出光面S，对应于红色像素单元和绿色像素单元可以设置色阻层501。
可选地，在第二基础部件200的出光面S，对应于红色像素单元、绿色像素单元和蓝色像素单元可以设置色阻层501。
在一些实施例中，参见图11，以第二基础部件200为发光单元层600为例，在第二基础部件200形成波长选择层500，可以包括：
在第二基础部件200的出光面S，对应于红色像素单元和绿色像素单元可以设置DBR层502。
可选地，在第二基础部件200的出光面S，对应于红色像素单元、绿色像素单元和蓝色像素单元可以设置DBR层502。
在一些实施例中，参见图12，以第二基础部件200为发光单元层600为例，在第二基础部件200形成波长选择层500，可以包括：
在第二基础部件200的出光面S，对应于红色像素单元和绿色像素单元可以设置色阻层501；
在色阻层501的背离所述第一基础部件100的一面，可以设置DBR层502。
可选地，色阻层501可以设置在DBR层502之上。
可选地，DBR层502可以设置在色阻层501之上。
可选地，可以通过刻蚀等工艺将对应于蓝色像素单元的色阻层501和DBR层502去除掉。
在一些实施例中，将光转换层300的背离第一基础部件100的一面和波长选择层500的背离第二基础部件200的一面贴合设置，可以包括：
将光转换层300的背离第一基础部件100的一面，可以部分贴合于波长选择层500的背离第二基础部件200的一面。
在一些实施例中，将光转换层300的背离第一基础部件100的一面，部分贴合于波长选择层500的背离第二基础部件200的一面，可以包括：
将光转换层300的背离第一基础部件100的一面的外周，可以部分贴合于波长选择层500的背离第二基础部件200的一面的外周。
参见图13，图13是本公开实施例提供的显示器件的剖面结构示意图，本公开实施例提供的显示器件10，采用上述的方法制作。
在一些实施例中，将光转换层300的背离第一基础部件100的一面，可以全部贴合于波长选择层500的背离第二基础部件200的一面。
可选地，图13只是示例性的举例，其中，与光转换层300的背离第一基础部件100的一面全部贴合的波长选择层500还可以是前述相关描述中的波长选择层500，例如：可以是如图10、图11、图12中所描述的波长选择层500。
本公开实施例提供的显示器件及显示器件的制作方法，通过将制作光转换层和制作波长选择层这两个工段分别单独制作，再将制作好的光转换层和波长选择层贴合设置得到显示器件，简化了制作工艺，提高了产品良率。
以上描述和附图充分地示出了本公开的实施例，以使本领域技术人员能够实践它们。其他实施例可以包括结构的、逻辑的、电气的、过程的以及其他的改变。实施例仅代表可能的变化。除非明确要求，否则单独的部件和功能是可选的，并且操作的顺序可以变化。一些实施例的部分和特征可以被包括在或替换其他实施例的部分和特征。本公开实施例的范围包括权利要求书的整个范围，以及权利要求书的所有可获得的等同物。当用于本申请中时，虽然术语“第一”、“第二”等可能会在本申请中使用以描述各元件，但这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一个元件区别开。比如，在不改变描述的含义的情况下，第一元件可以叫做第二元件，并且同样地，第二元件可以叫做第一元件，只要所有出现的“第一元件”一致重命名并且所有出现的“第二元件”一致重命名即可。第一元件和第二元件都是元件，但可以不是相同的元件。而且，本申请中使用的用词仅用于描述实施例并且不用于限制权利要求。如在实施例以及权利要求的描述中使用的，除非上下文清楚地表明，否则单数形式的“一个”（a）、“一个”（an）和“所述”（the）旨在同样包括复数形式。类似地，如在本申请中所使用的术语“和/或”是指包含一个或一个以上相关联的列出的任何以及所有可能的组合。另外，当用于本申请中时，术语“包括”（comprise）及其变型“包括”（comprises）和/或包括（comprising）等指陈述的特征、整体、步骤、操作、元素，和/或组件的存在，但不排除一个或一个以上其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或这些的分组的存在或添加。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个…”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法或者设备中还存在另外的相同要素。本文中，每个实施例重点说明的可以是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分可以互相参见。对于实施例公开的方法、产品等而言，如果其与实施例公开的方法部分相对应，那么相关之处可以参见方法部分的描述。
本领域技术人员可以意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、或者计算机软件和电子硬件的结合来实现。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，可以取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。本领域技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法以实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本公开实施例的范围。本领域技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的系统、装置和单元的工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。
本文所披露的实施例中，所揭露的方法、产品（包括但不限于装置、设备等），可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，单元的划分，可以仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另外，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例。另外，在本公开实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。
在附图中，考虑到清楚性和描述性，可以夸大元件或层等结构的宽度、长度、厚度等。当元件或层等结构被称为“设置在”（或“安装在”、“铺设在”、“贴合在”、“涂布在”等类似描述）另一元件或层“上方”或“上”时，该元件或层等结构可以直接“设置在”上述的另一元件或层“上方”或“上”，或者可以存在与上述的另一元件或层之间的中间元件或层等结构，甚至有一部分嵌入上述的另一元件或层。
附图中的流程图和框图显示了根据本公开实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段或代码的一部分，上述模块、程序段或代码的一部分包含至少一个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。在有些作为替换的实现中，方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个连续的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这可以依所涉及的功能而定。在附图中的流程图和框图所对应的描述中，不同的方框所对应的操作或步骤也可以以不同于描述中所披露的顺序发生，有时不同的操作或步骤之间不存在特定的顺序。例如，两个连续的操作或步骤实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这可以依所涉及的功能而定。框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或动作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。

Claims (17)

1.一种显示器件的制作方法，其特征在于，包括：
分别在第一基础部件形成光转换层，以及，在第二基础部件形成波长选择层；
将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面和所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面贴合设置，得到所述显示器件。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述第一基础部件为基板，所述第二基础部件为发光单元层；
或，
所述第一基础部件为发光单元层，所述第二基础部件为基板。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述光转换层包括至少相邻的两个像素单元；
所述在第一基础部件形成光转换层，包括：
在所述第一基础部件的一面，对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构；
在所述相邻的两个像素隔离结构之间，设置与像素单元相对应的光转换材料，得到所述光转换层。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构，包括：
在相邻的两个像素单元之间设置像素间隔区域；
在所述像素间隔区域中的部分或全部区域，设置所述像素隔离结构。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在相邻的两个像素隔离结构之间，设置与像素单元相对应的光转换材料，包括：
在所述相邻的两个像素隔离结构之间设置容纳空间；
在所述容纳空间中，部分或全部地设置与像素单元相对应的光转换材料。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述容纳空间中，部分或全部地设置与所述像素单元相对应的光转换材料，包括：
设置所述相邻的两个像素单元对应于相同或不同的光转换材料；
在设置所述相邻的两个像素单元对应于相同的光转换材料的情况下，在相邻的两个容纳空间中，部分或全部地同时设置与所述相邻的两个像素单元相对应的相同的光转换材料；
或，
在设置所述相邻的两个像素单元对应于不同的光转换材料的情况下，在相邻的两个容纳空间中，部分或全部地独立设置与所述相邻的两个像素单元相对应的不同的光转换材料。
7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述像素隔离结构包括像素隔离主体。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构，还包括：
在所述像素隔离主体和需要进行隔离的像素单元之间设置间隔结构。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述像素隔离主体和需要进行隔离的像素单元之间设置间隔结构，包括：
在与所述像素隔离主体相邻的像素单元之间设置所述间隔结构。
10.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，对应于所述相邻的两个像素单元之间设置像素隔离结构，还包括：
将所述像素隔离结构的截面形状中的部分或全部形状设置为矩形、三角形、梯形、倒梯形中至少之一。
11.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述第一基础部件为发光单元层，所述第二基础部件为基板时；
所述第一基础部件的一面，为所述发光单元层的出光面。
12.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述设置所述光转换层包括像素单元，包括：
设置所述像素单元包括与所述波长选择层对应设置的红色像素单元和绿色像素单元；
所述在第二基础部件形成波长选择层，包括：
在所述第二基础部件的一面，对应于所述红色像素单元和绿色像素单元设置所述波长选择层。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述设置所述光转换层包括像素单元，还包括：
设置所述像素单元包括与所述波长选择层非对应设置的蓝色像素单元。
14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，设置所述波长选择层包括色阻层、分布式布拉格反射镜DBR层中至少之一。
15.根据权利要求1至14任一项所述的方法，其特征在于，将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面和所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面贴合设置，包括：
将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面，部分或全部贴合于所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面，部分贴合于所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面，包括：
将所述光转换层的背离所述第一基础部件的一面的外周，部分贴合于所述波长选择层的背离所述第二基础部件的一面的外周。
17.一种显示器件，其特征在于，所述显示器件采用如权利要求1至16 任一项所述的方法制作。
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