CN112773239A - 行走机构、表面清洁设备及表面清洁设备的行走方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供的行走机构、表面清洁设备及表面清洁设备的行走方法，包括：基座；盘刷，可旋转的设于所述基座底部，所述盘刷用于与待清洁表面接触；施力件，设置在所述盘刷上；所述盘刷旋转过程中，在所述施力件的作用下，所述盘刷的局部形成施力部，且所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大，其中，所述局部为所述盘刷上与所述基座上一预设位置相对的部分。本发明实施例提供的技术方案，能够有效提高表面清洁设备的行走效率，进而提高清洁效率。

Description

行走机构、表面清洁设备及表面清洁设备的行走方法

技术领域

本发明涉及家庭清洁领域，尤其涉及一种行走机构、表面清洁设备及表面清洁设备的行走方法。

背景技术

随着科技发展的日新月异，人们对生活条件的要求越来越高，生活质量也随之提升，追求生活水平，享受生活成为人们所向往追逐的方向，解放双手，让机器人代替人工作。现在大城市居住环境几乎都是高楼大厦，高层擦窗成为一件必要而又危险的事情。因此，擦窗机器人应用越来越广泛。

现有技术中，擦窗机器人工作时，只能摆动式行走，无法实现直线行走，这样会导致行走效率较低，进而影响整个擦窗机器人的工作效率。

发明内容

鉴于上述问题，提出了本发明以解决上述问题或至少部分地解决上述问题的行走机构、表面清洁设备及表面清洁设备的行走方法。

本发明实施例一方面提供一种行走机构，包括：

基座；

盘刷，可旋转的设于所述基座底部，所述盘刷用于与待清洁表面接触；

施力件，设置在所述盘刷上；

所述盘刷旋转过程中，在所述施力件的作用下，所述盘刷的局部形成施力部，且所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大，其中，所述局部为所述盘刷上与所述基座上一预设位置相对的部分。

进一步的，所述施力件包括多个，在所述盘刷旋转过程中，多个所述施力件能够依次增大所述施力部与所述待清洁表面的接触压力。

进一步的，所述基座朝向所述盘刷的表面上具有一驱动件，在所述盘刷转动到所述施力件位于所述驱动件下方时，所述驱动件能够向所述施力件施加远离所述驱动件的作用力，以使所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大。

进一步的，所述驱动件位于所述基座上、且靠近所述盘刷的一侧边缘处。

进一步的，多个所述施力件以所述旋转轴为中心均匀分散布置。

进一步的，所述施力件为形成于所述盘刷上的第一凸起，所述驱动件为形成于所述基座上的第二凸起，在所述盘刷转动过程中，所述第一凸起与所述第二凸起抵顶而使所述施力部与所述待清洁表面之间的接触压力增大。

进一步的，所述第一凸起沿上下方向可浮动地设于所述盘刷中。

进一步的，所述第一凸起与所述第二凸起接触之间为点接触。

进一步的，所述第二凸起为弧形，且所述第二凸起的圆心与所述旋转轴的中心重合。

进一步的，所述第二凸起的凸起高度由中部逐渐向两端降低。

可选的，所述施力件为第一磁性件，所述驱动件为第二磁性件，所述第一磁性件与所述第二磁性件之间的相对状态至少包括相斥状态。

进一步的，所述第一磁性件和/或第二磁性件的磁极可调；及/或，

所述第一磁性件和/或第二磁性件的磁力可调。

进一步的，所述施力件具有第一工作位置和第二位置，施力件处于第一工作位置时，所述施力件压抵待清洁表面；施力件处于第二工作位置时，所述施力件脱离待清洁表面。

进一步的，所述盘刷上具有多个弹片，每个所述弹片的顶部对应设有一个所述第一磁性件，每个所述弹片的底部用于与待清洁表面接触。

可选的，所述施力件位于所述盘刷内，多个施力件在所述盘刷内以所述旋转轴为中心均匀分散布置，在所述盘刷内还设有控制装置，所述控制装置与所述施力件连接，以用于控制所述施力件向待清洁表面施加压力。

进一步的，所述控制装置设于所述旋转轴处，一个所述控制装置控制所述多个施力件。

进一步的，每个所述施力件上对应设有一个控制装置，每个控制装置分别对应控制一个施力件。

进一步的，所述施力件包括气囊，所述控制装置用于调节所述气囊内的气压，以调节所述施力件向待清洁表面施加的压力。

进一步的，所述施力件包括：

固定部，固定在所述盘刷内；

活动部，与所述固定部滑动连接，所述控制装置用于控制所述活动部相对于所述固定部的伸出量，以调节所述施力部向待清洁表面施加的压力。

可选的，所述施力件为气缸，对应的，所述固定部为气缸缸体，所述活动部为气缸活塞。

本发明实施例第二方面提供一种表面清洁设备，包括机体，以及

包括机体，以及两个的行走机构，其中，所述行走机构包括：基座和两个盘刷；

每个所述盘刷可旋转的设于所述基座底部，所述盘刷用于与待清洁表面接触；

在两个所述盘刷上均设有施力件；

每个所述盘刷旋转过程中，能够在所述施力件的作用下，所述盘刷的局部形成施力部，且所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大，其中，所述局部为所述盘刷上与所述基座上一预设位置相对的部分。

进一步的，所述施力件包括多个，在所述盘刷旋转过程中，多个所述施力件能够依次增大所述施力部与所述待清洁表面的接触压力。

进一步的，所述基座朝向所述盘刷的表面上具有一驱动件，在所述盘刷转动到所述施力件位于所述驱动件下方时，所述驱动件能够向所述施力件施加远离所述驱动件的作用力，以使所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大。

进一步的，所述施力件为形成于所述盘刷上的第一凸起，所述驱动件为形成于所述基座上的第二凸起，在所述盘刷转动过程中，所述第一凸起与所述第二凸起抵顶而使所述施力部与所述待清洁表面之间的接触压力增大。

可选的，所述施力件为第一磁性件，所述驱动件为第二磁性件，所述第一磁性件与所述第二磁性件之间的相对状态至少包括相斥状态。

本发明实施例第三方面提供一种应用于表面清洁设备的行走方法，所述表面清洁设备包含基座，设置在基座底部的第一盘刷和第二盘刷，以及连接第一盘刷和第二盘刷的连接臂，所述行走方法包括：

控制第一盘刷以第一旋转方向转动，以使第一盘刷与所述连接臂产生第一扭力，以通过所述第一扭力驱动所述连接臂沿所述第一旋转方向摆动。

本发明实施例第四方面提供一种应用于表面清洁设备的行走方法，所述表面清洁设备包含基座，设置在基座底部的第一盘刷和第二盘刷，以及连接第一盘刷和第二盘刷的连接臂，所述行走方法包括：

控制第一盘刷和第二盘刷转动方向相反，以使待清洁表面对第一盘刷和第二盘刷产生一合力，以通过所述合力驱动所述表面清洁设备直线移动。

本发明实施例提供的行走机构、表面清洁设备、及表面清洁设备的行走方法，盘刷设于基座下方，盘刷能够相对于基座绕一旋转轴旋转，盘刷上具有用于改变待清洁表面与盘刷的局部接触压力大小的施力件，盘刷在相对于基座旋转的过程中，施力件随着盘刷旋转，在施力件的作用下，盘刷的局部形成施力部，施力件增大施力部与待清洁表面的接触压力，从而使得盘刷的局部与待清洁表面之间形成持续的附加摩擦力以使行走机构能够直线行走，本技术方案能够实现表面清洁设备的直线行走，能够提高表面清洁设备的工作效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一实施例提供的行走机构的爆炸结构示意图；

图2为本发明一实施例提供的行走机构的剖视图；

图3为本发明一实施例提供的行走机构的原理图；

图4为本发明另一实施例提供的行走机构的爆炸示意图；

图5为本发明另一实施例提供的行走机构的剖视图；

图6为本发明又一实施例提供的行走机构的剖视示意图；

图7为本发明实施例提供的表面清洁设备的两个行走机构的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包括”为一开放式用语，故应解释成“包括但不限定于”。“大致”是指在可接收的误差范围内，本领域技术人员能够在一定误差范围内解决所述技术问题，基本达到所述技术效果。

此外，“连接”一词在此包含任何直接及间接的连接手段。因此，若文中描述一第一装置连接于一第二装置，则代表所述第一装置可直接连接于所述第二装置，或通过其它装置间接地连接至所述第二装置。说明书后续描述为实施本发明的较佳实施方式，然所述描述乃以说明本发明的一般原则为目的，并非用以限定本发明的范围。本发明的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

实施例一

本实施例提供的行走机构，可以应用于表面清洁设备，表面清洁设备包括擦窗机器人、扫地机器人等，该表面清洁设备可以在窗户玻璃上工作，也可以在地面上工作。图1为本发明一实施例提供的行走机构的爆炸结构示意图；图2为本发明一实施例提供的行走机构的剖视图；请参照附图1和附图2，本实施例提供的行走机构包括基座10和盘刷20。盘刷20用于与待清洁表面接触。盘刷20可以包括壳体和抹布，抹布可以位于壳体的底部，以用于与待清洁表面接触。盘刷20可以起到与待清洁表面密封的作用，以保证表面清洁设备能够在水平，垂直，倾斜各角度各介质吸附。其中，待清洁表面可以为地面，也可以为玻璃表面，墙面等。盘刷20底部可以具有吸附于待清洁表面的吸附结构，以使得表面清洁设备能够在垂直的表面工作。

具体的，盘刷20设于基座10下方，且能够相对于基座10绕一旋转轴30旋转。盘刷20可以通过电机驱动旋转，盘刷20与基座10可以通过旋转轴30连接，在基座10上朝向盘刷20的表面可以形成有用于容纳盘刷20的容纳槽11，该容纳槽11的槽壁111可以由基座10向内凹陷形成，也可以是在基座10上背离基座10凸出的环壁形成。本实施例中的旋转轴30可以是指一柱状轴，也可以是指虚拟的旋转轴线，本实施例不做限定。

在盘刷20上具有用于改变待清洁表面与盘刷20的局部接触压力大小的施力件21；其中，局部a为盘刷20上与基座10上一预设位置相对的部分。

需要说明的是，施力件21可以主动施加作用力，也可以通过其他驱动装置驱动而施加作用力，在此本实施例不做限定。

“局部a”可以位于盘刷20的壳体上，施力件21作用在壳体上，使得壳体与待清洁表面的摩擦力增大。或者，“局部a”还可以位于盘刷20的抹布上，施力件21作用在抹布上，使得抹布与待清洁表面的摩擦力增大。或者，当施力件21位于盘刷20底部时，则本实施例中所指的“局部a”可以是指施力件21的底面，在施力件21作用时，盘刷20中的施力件21直接与待清洁表面接触。无论是盘刷20中的哪个部件与待清洁表面接触，施力件21的作用均是使得盘刷20的局部a与待清洁表面接触压力变大，从而使得行走机构的局部a能够产生沿局部a的旋转切线相反的摩擦力。

盘刷20旋转过程中，在施力件21的作用下，盘刷20的局部形成施力部，施力件21能够增大施力部(即局部a)与待清洁表面的接触压力，以在局部a与待清洁表面之间形成附加摩擦力以使行走机构直线行走。所谓“附加摩擦力”是指盘刷20与待清洁表面之间由于施力件21的作用而额外增加的摩擦力。可以理解的是，在盘刷20旋转的过程中，盘刷20是相对于基座10旋转的，基座10上的预设位置不变，而盘刷20上与基座10上的预设位置相对的部分则在随之改变，当施力件21具有多个时，在盘刷20旋转过程中，本实施例中所指的“局部a”的位置相对于盘刷20来讲可以是一直变化的。例如，当盘刷20旋转到第一角度时，其中一个施力件21所对应的位置即为局部a的位置，而当盘刷20旋转到第二角度时，另一个施力件21所对应的位置即为局部a的位置。

优选的，施力件21可以包括多个，多个施力件21能够依次增大施力部(局部a)与待清洁表面的接触压力。具体的，在盘刷20旋转过程中，多个施力件21依次运动到基座上的预设位置相对的位置，并施加作用力，例如，在第一个施力件21运动到基座10上的预设位置相对的位置时，此时，盘刷20的局部a与待清洁表面的接触压力增大；当盘刷20继续旋转，第一个施力件21远离基座10上的预设位置相对的位置，盘刷20的局部a与待清洁表面的接触压力减小，而盘刷20继续旋转，第二施力件21运动到基座10上的预设位置相对的位置时，此时，盘刷20的局部a与待清洁表面的接触压力又增大；如此，当施力件21有多个时，随着盘刷20的旋转，多个施力件21依次增大局部a与待清洁表面的接触压力。

盘刷20旋转带动施力件21旋转，当任一施力件21到达与基座10上的预设位置相对的位置时，施力件21加大“局部a”与待清洁表面的接触压力，盘刷20旋转，则各个施力件21依次经过基座10上的预设位置相对的位置，因此，多个施力件21能够提供给局部a与待清洁表面之间附加的摩擦力，以增大该局部a与待清洁表面的摩擦力，进而使得整个行走机构能够直线行走。

图3为本发明一实施例提供的行走机构的原理图。如图3所示，当盘刷20旋转时，局部a处由于受到局部压力，从而产生沿旋转切线方向相反的摩擦力，使得行走机构在该摩擦力的作用下可以直线行走。具体来说，两个盘刷20旋转方向相反，两个盘刷20旋转形成的摩擦力的合力为前进行方向，使得整个行走机构先前直线行走。需要说明的是，行走机构的行走方向与盘刷20的旋转方向有关，例如，如图3所示，若局部a位于左侧，则在盘刷20逆时针旋转时，行走机构前进。当需要行走机构后退时，只需要控制盘刷20顺时针旋转即可。

本实施例提供的行走机构，盘刷20设于基座10下方，盘刷20能够相对于基座10绕一旋转轴30旋转，盘刷20上具有多个用于改变待清洁表面与盘刷20的局部接触压力大小的施力件21，盘刷20在相对于基座10旋转的过程中，施力件21随着盘刷20旋转，各个施力件21分别依次增大局部a与待清洁表面的接触压力，从而使得盘刷20的局部与待清洁表面之间形成持续的附加摩擦力以使行走机构能够直线行走，本技术方案应用于表面清洁设备时，能够实现表面清洁设备的直线行走，能够提高表面清洁设备的工作效率。

实施例二

本实施例在实施例一的基础上，提供一种具体实现方式，如图1和图2所示，基座10朝向盘刷20的表面上可以具有一驱动件12，在盘刷20转动到施力件21位于驱动件12下方时，驱动件12能够向施力件21施加远离驱动件12的作用力，以使施力部(局部a)与待清洁表面的接触压力增大。驱动件12在基座10上的位置即实施例一中所描述的基座10上的一预设位置，施力件21在旋转到驱动件12所在位置下方时，驱动件12可以给施力件21施加作用力，该作用力可以垂直于盘刷20所在平面，或者，至少具有垂直于盘刷20所在平面的分力。

如图1所示，驱动件12可以位于基座10上、且靠近盘刷20的一侧边缘处。这样一来，局部a的位置接近于盘刷20的边缘，可以理解的是，局部a的位置越接近边缘，其旋转时的线速度越大，盘刷20的行走速度也越快，能够尽可能提高行走效率。在某些应用场景中，若需要将行走速度降低，仅需要降低盘刷20转速即可。

多个施力件21可以以旋转轴30为中心均匀分散布置。本实施例对于施力件21的数量不受限制，可以理解的是，施力件21的数量越多，则越能够给局部a与待清洁表面之间施加持续的附加摩擦力，以使得行走机构能够持续前进或持续后退。

具体的，施力件21可以为形成于盘刷20上的第一凸起，驱动件12可以为形成于基座10上的第二凸起，在盘刷20转动过程中，第一凸起与第二凸起抵顶而使施力部(局部a)与待清洁表面之间的接触压力增大。如图1所示，盘刷20上设有多个第一凸起，多个第一凸起可以围绕盘刷20的旋转中心呈环形布置，在盘刷20转动过程中，多个第一凸起跟随盘刷20旋转，多个第一凸起顺次与第二凸起抵顶接触，一旦第一凸起与第二凸起抵顶，由于力的相互作用，盘刷20的局部a会给待清洁表面施加局部压力，使得该局部a产生一附加的摩擦力，整个盘刷20受力不平衡，在该附加的摩擦力作用下，整个行走机构直线行走。

进一步的，第一凸起可以沿上下方向可浮动地设于盘刷20中。其中，上下方向(如图2所示箭头所示上下方向)是指垂直于待清洁表面的方向。具体的，在盘刷20中可以设有用于供第一凸起穿过的通孔23，第一凸起可以滑设在该通孔23内。并且，在盘刷20上还可以具有对第一凸起的上下浮动行程进行限位的限位结构，以防止第一凸起从通孔23内脱出。该限位结构具体可以包括用于限制第一凸起的上浮极限位置的第一限位部m，以及用于限制第一凸起的下浮极限位置的第二限位部n。

第一凸起可以上下浮动，可以降低盘刷20与基座10抵顶的摩擦力，保证盘刷20能够顺畅旋转。盘刷20在旋转过程中，第一凸起的顶面接触到基座10的第二凸起时，第一凸起向上突出，可以起到压迫盘刷20上的抹布的作用，抹布再压迫玻璃，起到很好的擦拭作用，盘刷20在旋转时，通过局部a的旋转的切向力达成前进或后退的动力，盘刷不断旋转，多个第一凸起持续工作，表面清洁设备能够稳定前行或后退。

进一步的，还可以包括用于控制第一凸起的上下浮动量的浮动控制装置，该浮动控制装置可以与第一凸起连接，以用于限制第一凸起的上下浮动量，通过调节第一凸起的上下浮动量可以实现对局部压力大小的调节，以调节行走机构的行走速度。

如图2所示，第一凸起与第二凸起之间的接触可以为点接触，具体的，第一凸起的顶面可以为弧面或球面，第二凸起的顶面可以为平面或与第一凸起的顶面凸出方向背离的弧面。第一凸起与第二凸起之间的接触为点接触，由此，可以使得第一凸起与第二凸起之间的摩擦力较小，在盘刷20旋转过程中，能够保证第一凸起顺畅地从第二凸起上滑过，能够有效保证整个表面清洁设备的工作顺畅性，且有利于提高用户体验。

如图1所示，第二凸起可以为弧形，且第二凸起的圆心与旋转轴30的中心重合。在本实施例中，第二凸起可以呈半圆弧状，这样一来，第二凸起可以同时与多个第一凸起抵顶。或者，在其他实施例中，第二凸起可以呈块状，

第二凸起在同一时刻仅能够与一个第一凸起抵顶。

优选的，第二凸起的凸起高度由中部逐渐向两端降低。也就是说，第二凸起可以呈中间高，两端低的双斜坡轨道状，如此一来，第二凸起可以同时与多个第一凸起抵顶，例如，在某一时刻，五个第一凸起同时与第二凸起抵顶，位于最外缘的第一凸起抵顶在第二凸起的最高点处，其他四个第一凸起以第二凸起的最高点为中心，分别抵顶在第二凸起的两侧，可以理解的是，第二凸起的高度可以以最高点为中心对称设置，位于第二凸起的最高点的两侧的第一凸起所施加的作用力均衡，而位于第二凸起的最高点的第一凸起所施加的作用力对局部a产生局部压力，从而在局部a产生附加的摩擦力。

通过将第二凸起设计成高度渐变的结构，可以使得第一凸起与第二凸起之间的相互作用力能够缓慢变化，以避免第一凸起与第二凸起之间的作用力突然消失，使得整个设备的工作不流畅，产生振动，影响使用效果。

需要说明的是，在同一时刻，第二凸起可以仅与一个第一凸起配合，或者，当第二凸起为上述弧形且高度渐变的结构时，第二凸起可以同时与几个第一凸起抵顶。当同一时刻，第二凸起仅与一个第一凸起抵顶时，仅一个第一凸起与盘刷20可以仅通过第一凸起与抹布接触来实现增大局部a与待清洁表面的接触压力的目的，当同一时刻，第二凸起与多个第一凸起抵顶时，最外边缘的第一凸起施加的作用力最大，其他第一凸起可以与抹布接触但所施加的作用力较小，或可忽略不计，或者，其他第一凸起对待清洁表面所施加的作用力平衡。

实施例三

本实施例在实施例一的基础上，提供一种与实施例二不同的实现方式。图4为本发明另一实施例提供的行走机构的爆炸示意图；图5为本发明另一实施例提供的行走机构的剖视图。如图4和图5所示，施力件21为第一磁性件，驱动件12为第二磁性件，第一磁性件与第二磁性件至少包括相斥状态。本实施例中的第一磁性件的布置方式可以与实施例二中第一凸起的布置方式相同，第二磁性件可以为块状。第一磁性件与第二磁性件的磁极可以相同，以使得第一磁性件在转动到与第二磁性件相对的位置时，两者之间的斥力最大，盘刷20所受到的局部压力最大，盘刷20的局部a与待清洁表面之间的摩擦力最大，在该摩擦力作用下，行走机构直线行走。

需要说明的是，为了使得第一磁性件与第二磁性件之间的作用力能够更好地作用到盘刷20的局部a，可以选择磁力较大的第一磁性件和第二磁性件。

在本实施例中，进一步的，第一磁性件和/或第二磁性件的磁极可调。例如，第一磁性件和第二磁性件可以分别为电磁铁，具体可以通过改变流经第一磁性件和/或第二磁性件的电流方向从而改变第一磁性件和第二磁性件的磁极。例如，初始状态下，第一磁性件和第二磁性件相对的一端可以均为N极，或者第一磁性件和第二磁性件相对的一端可以均为S极，而当改变第一磁性件或第二磁性件的磁极，即可使得第一磁性件与第二磁性件相互吸引。第一磁性件与第二磁性件可以在相斥状态与相吸状态之间切换，通过第一磁性件与第二磁性件的磁极的调节频率，从而可以控制盘刷20与待清洁表面的附加摩擦力，进而改变行走机构的行走方式，使得表面清洁设备能够具有多形态的行走方式，可以快速慢速行走、快速慢速转弯等。

另外，进一步的，第一磁性件和/或第二磁性件的磁力可调。从而使得第一磁性件与第二磁性件之间的作用力的大小可以改变，盘刷20与待清洁表面的附加摩擦力大小可变，进而可以根据实际需要改变行走机构的行走方式，或行走速度，快速慢速行走、快速慢速转弯等。

施力件21可以具有第一工作位置和第二位置，施力件21处于第一工作位置时，施力件21压抵待清洁表面；施力件21处于第二工作位置时，施力件21脱离待清洁表面。需要说明的是，施力件21压抵待清洁表面，包括以下两种情况：第一种是施力件21直接接触并压抵待清洁表面，第二在是施力件压抵在清洁抹布上，而间接压抵待清洁表面。

如图5所示，盘刷20上可以具有多个弹片22，每个弹片22的顶部对应设有一个第一磁性件，每个弹片22的底部用于与待清洁表面接触。弹片22的底部可以呈平面，并与待清洁表面持平，当第一磁性件受到来自于第二磁性件的斥力时，弹片22能够产生微小形变以更好地传递该斥力，使得盘刷20与待清洁表面之间产生局部压力。需要说明的是，由于弹片22与待清洁表面接触，本实施例中的局部a位于弹片22上，并且，是与第二磁性件相对的第一磁性件所对应的弹片22的底部为局部a。

实施例四

本实施例在实施例一的基础上，提供一种与实施例二和实施例三不同的具体实施方式。图6为本发明又一实施例提供的行走机构的剖视示意图。如图6所示，施力件21位于盘刷20内，多个施力件21在盘刷20内以旋转轴30为中心均匀分散布置，在盘刷20内还设有控制装置(图中未示出)，控制装置与施力件21连接，以用于控制施力件21向待清洁表面施加压力。需要说明的是，本实施例中，施力件21属于盘刷20的一部分，由于施力件21与待清洁表面接触并施加压力，则，基于实施例一的局部a是指施力件21与待清洁表面的接触部分。

具体的，控制装置可以设于旋转轴30处，一个控制装置控制多个施力件21。控制装置设于旋转轴30处，并且一个控制装置控制多个施力件21，各个施力件21的重量和体积可以相等，多个施力件21均匀布置在盘刷20上，使得在控制装置未控制施力件21施加作用力时，使得盘刷20在旋转时，周向所受的作用力平衡，而当控制装置控制其中一个施力件21施加作用力时，该施力件21对待清洁表面施加局部压力，整个盘刷20所受的作用力不平衡，在该施力件21的底部与待清洁表面产生附加摩擦力，进而该行走机构能够直线行走。

可选的，在每个施力件21上可以对应设有一个控制装置，每个控制装置分别对应控制一个施力件21。同样的，每个控制装置的重量可以相等，每个施力件21的体积和重量相等，且均匀分布，使得在控制装置未控制施力件21施加作用力时，使得盘刷20在旋转时，周向所受的作用力平衡。

在某一实施例方式中，施力件21可以包括气囊，控制装置可以用于调节气囊内的气压，以调节施力部(即，局部a)向待清洁表面施加的压力。气囊可以设于盘刷20内，并且仅从盘刷20的底部露出一小部分以挤压待清洁表面。通过控制装置调节气囊中的气压，可以理解的是，当气囊中的气压较大时，气囊与待清洁表面之间的局部压力也应越大，当气囊中的气压较小时，气囊与待清洁表面之间的局部压力越小。通过调节气囊的气压，可以调节局部a与待清洁表面之间的局部压力，局部压力的变化产生使得行走机构能够直线行走。

或者，与上述实施方式不同的是，本实施例中的施力件21可以包括：固定部211和活动部212。固定部211可以固定在盘刷20内；活动部212可以与固定部211滑动连接，控制装置可以用于控制活动部212相对于固定部211的伸出量，以调节施力件21向待清洁表面施加的压力。具体的，控制装置可以控制活动部212相对于固定部211的位移量而控制活动部212的伸出量。

更具体的，施力件21可以为气缸，对应的，固定部211为气缸缸体，活动部212为气缸活塞。通过控制装置控制气缸缸体内的压力，从而使得气缸活塞伸出量，气缸活塞伸出对待清洁表面施加局部压力，使得行走机构能够直线行走。

实施例五

本实施例提供一种表面清洁设备，本实施例中的表面清洁设备包括擦窗机器人、扫地机器人等，该表面清洁设备可以在户玻璃上工作，也可以在地面上工作。

请参照附图1和附图2，本实施例提供表面清洁设备包括机体，以及行走机构，行走机构包括基座10和两个盘刷20。每个可旋转的设于基座10底部，盘刷20用于与待清洁表面接触。盘刷20可以包括壳体和抹布，抹布可以位于壳体的底部，以用于与待清洁表面接触。盘刷20可以起到与待清洁表面密封的作用，以保证表面清洁设备能够在水平，垂直，倾斜各角度各介质吸附。其中，待清洁表面可以为地面，也可以为玻璃表面，墙面等。盘刷20底部可以具有吸附于待清洁表面的吸附结构，以使得表面清洁设备能够在垂直的表面工作。

具体的，盘刷20设于基座10底部，且能够相对于基座10绕一旋转轴30旋转。盘刷20与基座10可以通过旋转轴30连接，盘刷20可以通过电机驱动旋转，在基座10上朝向盘刷20的表面可以形成有用于容纳盘刷20的容纳槽11，该容纳槽11的槽壁111可以由基座10向内凹陷形成，也可以是在基座10上背离基座10凸出的环壁形成。本实施例中的旋转轴30可以是指一柱状轴，也可以是指虚拟的旋转轴线，本实施例不做限定。

在两个盘刷20上均具有用于改变待清洁表面与盘刷20的局部接触压力大小的施力件21；其中，局部a为盘刷20上与基座10上一预设位置相对的部分。可以理解的是，在盘刷20旋转的过程中，盘刷20上与基座10上的预设位置相对的部分也在随之改变，因此，在盘刷20旋转过程中，本实施例中所指的“局部a”的位置相对于盘刷20来讲是一直变化的。

需要说明的是，施力件21可以主动施加作用力，也可以通过其他驱动装置驱动而施加作用力，在此本实施例不做限定。

“局部a”可以位于盘刷20的壳体上，施力件21作用在壳体上，使得壳体与待清洁表面的摩擦力增大。或者，“局部a”还可以位于盘刷20的抹布上，施力件21作用在抹布上，使得抹布与待清洁表面的摩擦力增大。或者，当施力件21位于盘刷20底部时，则本实施例中所指的“局部a”可以是指施力件21的底面，在施力件21作用时，盘刷20中的施力件21直接与待清洁表面接触。无论是盘刷20中的哪个部件与待清洁表面接触，施力件21的作用均是使得盘刷20的局部a与待清洁表面接触压力变大，从而使得行走机构的局部a能够产生沿局部a的旋转切线相反的摩擦力。

盘刷20旋转过程中，在施力件21的作用下，盘刷20的局部形成施力部，施力件21能够增大施力部(即局部a)与待清洁表面的接触压力，以在局部a与待清洁表面之间形成附加摩擦力以使行走机构直线行走。所谓“附加摩擦力”是指盘刷20与待清洁表面之间由于施力件21的作用而额外增加的摩擦力。

可以理解的是，在盘刷20旋转的过程中，盘刷20是相对于基座10旋转的，基座10上的预设位置不变，而盘刷20上与基座10上的预设位置相对的部分则在随之改变，当施力件21具有多个时，在盘刷20旋转过程中，本实施例中所指的“局部a”的位置相对于盘刷20来讲可以是一直变化的。例如，当盘刷20旋转到第一角度时，其中一个施力件21所对应的位置即为局部a的位置，而当盘刷20旋转到第二角度时，另一个施力件21所对应的位置即为局部a的位置。

优选的，施力件21可以包括多个，多个施力件21能够依次增大施力部(局部a)与待清洁表面的接触压力。具体的，在盘刷20旋转过程中，多个施力件21依次运动到基座上的预设位置相对的位置，并施加作用力，例如，在第一个施力件21运动到基座10上的预设位置相对的位置时，此时，盘刷20的局部a与待清洁表面的接触压力增大；当盘刷20继续旋转，第一个施力件21远离基座10上的预设位置相对的位置，盘刷20的局部a与待清洁表面的接触压力减小，而盘刷20继续旋转，第二施力件21运动到基座10上的预设位置相对的位置时，此时，盘刷20的局部a与待清洁表面的接触压力又增大；如此，当施力件21有多个时，随着盘刷20的旋转，多个施力件21依次增大局部a与待清洁表面的接触压力。

盘刷20旋转带动施力件21旋转，当任一施力件21到达与基座10上的预设位置相对的位置时，施力件21加大“局部a”与待清洁表面的接触压力，盘刷20旋转，则各个施力件21依次经过基座10上的预设位置相对的位置，因此，多个施力件21能够提供给局部a与待清洁表面之间附加的摩擦力，以增大该局部a与待清洁表面的摩擦力，进而使得整个行走机构能够直线行走。

图3为本发明一实施例提供的行走机构的原理图。如图3所示，当盘刷20旋转时，局部a处由于受到局部压力，从而产生沿旋转切线方向相反的摩擦力，使得行走机构在该摩擦力的作用下可以直线行走。需要说明的是，行走机构的行走方向与盘刷20的旋转方向有关，例如，如图3所示，若局部a位于左侧，则在盘刷20逆时针旋转时，行走机构前进。当需要行走机构后退时，只需要控制盘刷20顺时针旋转即可。

本实施例中的表面清洁设备可以具有两个行走机构，当两个行走机构的盘刷20的旋转方向相反、且两个行走机构的盘刷20的转速相同时，表面清洁设备可以直线行走。当其中一个行走机构的盘刷20转速为零，另一个行走机构的盘刷20旋转时，表面清洁设备可以转弯，或者，其中一个行走机构的盘刷20的转速小于另一个行走机构的盘刷20的转速，表面清洁设备可以边行走边转弯。或者，两个盘刷20交替成为旋转中心，一个盘刷相对另个盘刷摆动，实现整个清洁设备摆动式行走；或者，还可以控制两个行走机构上的施力件21所施加的局部压力的大小而使得两个行走机构的受力不同，从而可以实现表面清洁设备的不同运动模式。

图7为本发明实施例提供的表面清洁设备的两个行走机构的结构示意图。如图7所示，两个行走机构(图示盘刷20)可以通过一连接臂100连接，局部a位于每个行走机构的盘刷的内侧(图7中虚线圆所示)。其中，盘刷的内侧为盘刷靠近连接臂100的一侧。如图7所示，以右边盘刷201为例进行说明，当盘刷201逆时针旋转时，局部a的附加摩擦力的方向向前，该盘刷201具有向前运动的趋势，盘刷与连接臂100之间产生扭力，该扭力使得连接臂100逆时针摆动，从而实现行走机构的行走。同理，当左边盘刷202顺时针旋转时，局部a的附加摩擦力的方向向前，该盘刷202具有向前运动的趋势，盘刷与连接臂100之间产生扭力，该扭力使得连接臂顺时针摆动，实现行走机构行走。在另一实施例中，局部a位于每个行走机构的盘刷的外侧。

本实施例提供的表面清洁设备，盘刷20设于基座10下方，盘刷20能够相对于基座10绕一旋转轴30旋转，盘刷20上具有用于改变待清洁表面与盘刷20的局部接触压力大小的施力件21，盘刷20在相对于基座10旋转的过程中，施力件21随着盘刷20旋转，施力件21增大局部a与待清洁表面的接触压力，从而使得盘刷20的局部与待清洁表面之间形成持续的附加摩擦力以使行走机构能够直线行走，本技术方案应用于表面清洁设备时，能够实现表面清洁设备的直线行走，能够提高表面清洁设备的工作效率。

实施例六

本实施例在实施例五的基础上，提供一种具体实现方式，如图1和图2所示，基座10朝向盘刷20的表面上可以具有一驱动件12，在盘刷20转动到施力件21位于驱动件12下方时，驱动件12能够向施力件21施加远离驱动件12的作用力，以使施力部(局部a)与待清洁表面的接触压力增大。驱动件12在基座10上的位置即实施例一中所描述的基座10上的一预设位置，施力件21在旋转到驱动件12所在位置下方时，驱动件12可以给施力件21施加作用力，该作用力可以垂直于盘刷20所在平面，或者，至少具有垂直于盘刷20所在平面的分力。

如图1所示，驱动件12可以位于基座10上、且靠近盘刷20的一侧边缘处。这样一来，局部a的位置接近于盘刷20的边缘，可以理解的是，局部a的位置越接近边缘，其旋转时的线速度越大，盘刷20的行走速度也越快，能够尽可能提高行走效率。在某些应用场景中，若需要将行走速度降低，仅需要降低盘刷20转速即可。

多个施力件21可以以旋转轴30为中心均匀分散布置。本实施例对于施力件21的数量不受限制，可以理解的是，施力件21的数量越多，则越能够给局部a与待清洁表面之间施加持续的附加摩擦力，以使得行走机构能够持续前进或持续后退。

具体的，施力件21可以为形成于盘刷20上的第一凸起，驱动件12可以为形成于基座10上的第二凸起，在盘刷20转动过程中，第一凸起与第二凸起抵顶而使施力部(局部a)与待清洁表面之间的接触压力增大。如图1所示，盘刷20上设有多个第一凸起，多个第一凸起可以围绕盘刷20的旋转中心呈环形布置，在盘刷20转动过程中，多个第一凸起跟随盘刷20旋转，多个第一凸起顺次与第二凸起抵顶接触，一旦第一凸起与第二凸起抵顶，由于力的相互作用，盘刷20的局部a会给待清洁表面施加局部压力，使得该局部a产生一附加的摩擦力，整个盘刷20受力不平衡，在该附加的摩擦力作用下，整个行走机构直线行走。

进一步的，第一凸起可以沿上下方向可浮动地设于盘刷20中。其中，上下方向(如图2所示箭头所示上下方向)是指垂直于待清洁表面的方向。具体的，在盘刷20中可以设有用于供第一凸起穿过的通孔23，第一凸起可以滑设在该通孔23内。并且，在盘刷20上还可以具有对第一凸起的上下浮动行程进行限位的限位结构，以防止第一凸起从通孔23内脱出。该限位结构具体可以包括用于限制第一凸起的上浮极限位置的第一限位部m，以及用于限制第一凸起的下浮极限位置的第二限位部n。

第一凸起可以上下浮动，可以降低盘刷20与基座10抵顶的摩擦力，保证盘刷20能够顺畅旋转。盘刷20在旋转过程中，第一凸起的顶面接触到基座10的第二凸起时，第一凸起向上突出，可以起到压迫盘刷20上的抹布的作用，抹布再压迫玻璃，起到很好的擦拭作用，盘刷20在旋转时，通过局部a的旋转的切向力达成前进或后退的动力，盘刷不断旋转，多个第一凸起持续工作，表面清洁设备能够稳定前行或后退。

进一步的，还可以包括用于控制第一凸起的上下浮动量的浮动控制装置，该浮动控制装置可以与第一凸起连接，以用于限制第一凸起的上下浮动量，通过调节第一凸起的上下浮动量可以实现对局部压力大小的调节，以调节行走机构的行走速度。

如图2所示，第一凸起与第二凸起之间的接触可以为点接触，具体的，

第一凸起的顶面可以为弧面或球面，第二凸起的顶面可以为平面或与第一凸起的顶面凸出方向背离的弧面。第一凸起与第二凸起之间的接触为点接触，由此，可以使得第一凸起与第二凸起之间的摩擦力较小，在盘刷20旋转过程中，能够保证第一凸起顺畅地从第二凸起上滑过，能够有效保证整个表面清洁设备的工作顺畅性，且有利于提高用户体验。

如图1所示，第二凸起可以为弧形，且第二凸起的圆心与旋转轴30的中心重合。在本实施例中，第二凸起可以呈半圆弧状，这样一来，第二凸起可以同时与多个第一凸起抵顶。或者，在其他实施例中，第二凸起可以呈块状，第二凸起同一时刻仅能够与一个第一凸起抵顶。

优选的，第二凸起的凸起高度由中部逐渐向两端降低。也就是说，第二凸起可以呈中间高，两端低的双斜坡轨道状，如此一来，第二凸起可以同时与多个第一凸起抵顶，例如，在某一时刻，五个第一凸起同时与第二凸起抵顶，位于最外缘的第一凸起抵顶在第二凸起的最高点处，其他四个第一凸起以第二凸起的最高点为中心，分别抵顶在第二凸起的两侧，可以理解的是，第二凸起的高度可以以最高点为中心对称设置，位于第二凸起的最高点的两侧的第一凸起所施加的作用力均衡，而位于第二凸起的最高点的第一凸起所施加的作用力对局部a产生局部压力，从而在局部a产生附加的摩擦力。

通过将第二凸起设计成高度渐变的结构，可以使得第一凸起与第二凸起之间的相互作用力能够缓慢变化，以避免第一凸起与第二凸起之间的作用力突然消失，使得整个设备的工作不流畅，产生振动，影响使用效果。

需要说明的是，在同一时刻，第二凸起可以仅与一个第一凸起配合，或者，当第二凸起为上述弧形且高度渐变的结构时，第二凸起可以同时与几个第一凸起抵顶。当同一时刻，第二凸起仅与一个第一凸起抵顶时，仅一个第一凸起与盘刷20可以仅通过第一凸起与抹布接触来实现增大局部a与待清洁表面的接触压力的目的，当同一时刻，第二凸起与多个第一凸起抵顶时，最外边缘的第一凸起施加的作用力最大，其他第一凸起可以与抹布接触但所施加的作用力较小，或可忽略不计，或者，其他第一凸起对待清洁表面所施加的作用力平衡。

实施例七

本实施例在实施例五的基础上，提供一种与实施例六不同的实现方式。如图4和图5所示，施力件21为第一磁性件，驱动件12为第二磁性件，第一磁性件与第二磁性件至少包括相斥状态。本实施例中的第一磁性件的布置方式可以与实施例二中第一凸起的布置方式相同，第二磁性件可以为块状。第一磁性件与第二磁性件的磁极可以相同，以使得第一磁性件在转动到与第二磁性件相对的位置时，两者之间的斥力最大，盘刷20所受到的局部压力最大，盘刷20的局部a与待清洁表面之间的摩擦力最大，在该摩擦力作用下，行走机构直线行走。

需要说明的是，为了使得第一磁性件与第二磁性件之间的作用力能够更好地作用到盘刷20的局部a，可以选择磁力较大的第一磁性件和第二磁性件。

在本实施例中，进一步的，第一磁性件和/或第二磁性件的磁极可调。例如，第一磁性件和第二磁性件可以分别为电磁铁，具体可以通过改变流经第一磁性件和/或第二磁性件的电流方向从而改变第一磁性件和第二磁性件的磁极。例如，初始状态下，第一磁性件和第二磁性件相对的一端可以均为N极，或者第一磁性件和第二磁性件相对的一端可以均为S极，而当改变第一磁性件或第二磁性件的磁极，即可使得第一磁性件与第二磁性件相互吸引。第一磁性件与第二磁性件可以在相斥状态与相吸状态之间切换，通过第一磁性件与第二磁性件的磁极的调节频率，从而可以控制盘刷20与待清洁表面的附加摩擦力，进而改变行走机构的行走方式，使得表面清洁设备能够具有多形态的行走方式，可以快速慢速行走、快速慢速转弯等。

另外，进一步的，第一磁性件和/或第二磁性件的磁力可调。从而使得第一磁性件与第二磁性件之间的作用力的大小可以改变，盘刷20与待清洁表面的附加摩擦力大小可变，进而可以根据实际需要改变行走机构的行走方式，或行走速度，快速慢速行走、快速慢速转弯等。

如图5所示，盘刷20上可以具有多个弹片22，每个弹片22的顶部对应设有一个第一磁性件，每个弹片22的底部用于与待清洁表面接触。弹片22的底部可以呈平面，并与待清洁表面持平，当第一磁性件受到来自于第二磁性件的斥力时，弹片22能够产生微小形变以更好地传递该斥力，使得盘刷20与待清洁表面之间产生局部压力。需要说明的是，由于弹片22与待清洁表面接触，本实施例中的局部a位于弹片22上，并且，是与第二磁性件相对的第一磁性件所对应的弹片22的底部为局部a。

实施例八

本实施例在实施例五的基础上，提供一种与实施例六和实施例七不同的具体实施方式。如图6所示，施力件21位于盘刷20内，多个施力件21在盘刷20内以旋转轴30为中心均匀分散布置，在盘刷20内还设有控制装置(图中未示出)，控制装置与施力件21连接，以用于控制施力件21向待清洁表面施加压力。需要说明的是，本实施例中，施力件21属于盘刷20的一部分，由于施力件21与待清洁表面接触并施加压力，则，基于实施例一的局部a是指施力件21与待清洁表面的接触部分。

具体的，控制装置可以设于旋转轴30处，一个控制装置控制多个施力件21。控制装置设于旋转轴30处，并且一个控制装置控制多个施力件21，各个施力件21的重量和体积可以相等，多个施力件21均匀布置在盘刷20上，使得在控制装置未控制施力件21施加作用力时，使得盘刷20在旋转时，周向所受的作用力平衡，而当控制装置控制其中一个施力件21施加作用力时，该施力件21对待清洁表面施加局部压力，整个盘刷20所受的作用力不平衡，在该施力件21的底部与待清洁表面产生附加摩擦力，进而该行走机构能够直线行走。

可选的，在每个施力件21上可以对应设有一个控制装置，每个控制装置分别对应控制一个施力件21。同样的，每个控制装置的重量可以相等，每个施力件21的体积和重量相等，且均匀分布，使得在控制装置未控制施力件21施加作用力时，使得盘刷20在旋转时，周向所受的作用力平衡。

在某一实施例方式中，施力件21可以包括气囊，控制装置可以用于调节气囊内的气压，以调节施力部(局部a)向待清洁表面施加的压力。气囊可以设于盘刷20内，并且仅从盘刷20的底部露出一小部分以挤压待清洁表面。通过控制装置调节气囊中的气压，可以理解的是，当气囊中的气压较大时，气囊与待清洁表面之间的局部压力也应越大，当气囊中的气压较小时，气囊与待清洁表面之间的局部压力越小。通过调节气囊的气压，可以调节局部a与待清洁表面之间的局部压力，局部压力的变化产生使得行走机构能够直线行走。

或者，与上述实施方式不同的是，本实施例中的施力件21可以包括：固定部211和活动部212。固定部211可以固定在盘刷20内；活动部212可以与固定部211滑动连接，控制装置可以用于控制活动部212相对于固定部211的伸出量，以调节施力部(局部a)向待清洁表面施加的压力。具体的，控制装置可以控制活动部212相对于固定部211的位移量而控制活动部212的伸出量。

更具体的，施力件21可以为气缸，对应的，固定部211为气缸缸体，活动部212为气缸活塞。通过控制装置控制气缸缸体内的压力，从而使得气缸活塞伸出量，气缸活塞伸出对待清洁表面施加局部压力，使得行走机构能够直线行走。

实施例九

本实施例提供一种应用于表面清洁设备的行走方法，其应用于实施例五至实施例八中任一实施例的表面清洁设备，具体的，表面清洁设备包括基座，设置在基座底部的第一盘刷和第二盘刷，且第一盘刷设有第一施力件和第二盘刷设有第二施力件，本实施例的行走方法包括：

控制第一盘刷以第一旋转方向转动，以使第一盘刷与所述连接臂产生第一扭力，以通过所述第一扭力驱动所述连接臂沿所述第一旋转方向摆动。

如图7所示，控制其中一个盘刷逆时针转动，另一个盘刷与连接臂产生第一扭力，第一扭力驱动连接臂沿逆时针摆动。

实施例十

本实施例提供另一种应用于表面清洁设备的行走方法，其应用于实施例五至实施例八中任一实施例的表面清洁设备，具体的，表面清洁设备包括基座，设置在基座底部的第一盘刷和第二盘刷，且第一盘刷设有第一施力件和第二盘刷设有第二施力件，本实施例的行走方法包括：

控制第一盘刷和第二盘刷转动方向相反，以使待清洁表面对第一盘刷和第二盘刷产生一合力，以通过所述合力驱动所述表面清洁设备直线移动。

下面结合具体应用场景，对本发明实施例二提供的行走机构及表面清洁设备进行说明：

应用场景1：

表面清洁设备在窗户上进行擦拭，盘刷吸附在窗户上，并且盘刷上的抹布擦拭窗户，当该表面清洁设备需要移动到目标位置进行擦拭时，可以控制表面清洁设备上的两个行走机构的盘刷的转速相同，且旋转方向相反，且控制两个行走机构的第一凸起的浮动量相同，以控制两个行走机构的施力件对盘刷产生的局部压力的相同，以使得该表面清洁设备直线行走到目标位置。当该表面清洁设备遇到障碍物需要绕过障碍物时，可以控制表面清洁设备上的两个行走机构的盘刷的转速不同，且旋转方向相反，且控制两个行走机构的第一凸起的浮动量不同，以控制两个行走机构的施力件对盘刷产生的局部压力的不同，该表面清洁设备能够转弯。

下面结合具体应用场景，对本发明实施例三提供的行走机构及表面清洁设备进行说明：

应用场景2：

表面清洁设备在窗户上进行擦拭，盘刷上的抹布擦拭窗户，当该表面清洁设备需要移动到目标位置进行擦拭时，可以控制表面清洁设备上的两个行走机构的盘刷的转速相同，且旋转方向相反，且控制两个行走机构的第一磁性件与第二磁性件的磁极极性或磁极大小，以使得两个行走机构的第一磁性件与第二磁性件之间的磁力相同，以控制两个行走机构的施力件对盘刷产生的局部压力的相同，以使得该表面清洁设备直线行走到目标位置。当该表面清洁设备遇到障碍物需要绕过障碍物时，可以控制表面清洁设备上的两个行走机构的盘刷的转速不同，且旋转方向相反，且控制两个行走机构的第一磁性件与第二磁性件的磁极极性或磁极大小，以使得两个行走机构的第一磁性件与第二磁性件之间的磁力不同，以控制两个行走机构的施力件对盘刷产生的局部压力的不同，该表面清洁设备能够转弯。

下面结合具体应用场景，对本发明实施例四提供的行走机构及表面清洁设备进行说明：

应用场景3：

表面清洁设备在窗户上进行清扫，盘刷吸附在窗户上，并且盘刷上的抹布擦拭窗户，当该表面清洁设备需要移动到目标位置进行清扫时，可以控制表面清洁设备上的两个行走机构的盘刷的转速相同，且旋转方向相反，且控制两个行走机构的施力件的气压，以使得两个行走机构的施力件在对局部进行作用时的气压或伸出量相同，以控制两个行走机构的施力件对盘刷产生的局部压力的相同，以使得该表面清洁设备直线行走到目标位置。当该表面清洁设备遇到障碍物需要绕过障碍物时，可以控制表面清洁设备上的两个行走机构的盘刷的转速不同，且旋转方向相反，且控制两个行走机构的施力件对局部进行作用时的气压或伸出量不同，以控制两个行走机构的施力件对盘刷产生的局部压力的不同，该表面清洁设备能够转弯。

需要说明的是，当表面清洁设备工作在地面上时，盘刷无需吸附在地面上，盘刷上的抹布工作。行走机构的原理与以上描述的表面清洁设备工作在窗户上的原理相同，在此不再赘述。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (25)

1.一种行走机构，其特征在于，包括：

基座；

盘刷，可旋转的设于所述基座底部，所述盘刷用于与待清洁表面接触；

施力件，设置在所述盘刷上；

所述盘刷旋转过程中，在所述施力件的作用下，所述盘刷的局部形成施力部，且所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大，其中，所述局部为所述盘刷上与所述基座上一预设位置相对的部分。

2.根据权利要求1所述的行走机构，其特征在于，所述施力件包括多个，在所述盘刷旋转过程中，多个所述施力件能够依次增大所述施力部与所述待清洁表面的接触压力。

3.根据权利要求1所述的行走机构，其特征在于，所述基座朝向所述盘刷的表面上具有一驱动件，在所述盘刷转动到所述施力件位于所述驱动件下方时，所述驱动件能够向所述施力件施加远离所述驱动件的作用力，以使所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大。

4.根据权利要求3所述的行走机构，其特征在于，所述驱动件位于所述基座上、且靠近所述盘刷的一侧边缘处。

5.根据权利要求3所述的行走机构，其特征在于，多个所述施力件以所述旋转轴为中心均匀分散布置。

6.根据权利要求3-5任一项所述的行走机构，其特征在于，所述施力件为形成于所述盘刷上的第一凸起，所述驱动件为形成于所述基座上的第二凸起，在所述盘刷转动过程中，所述第一凸起与所述第二凸起抵顶而使所述施力部与所述待清洁表面之间的接触压力增大。

7.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第一凸起沿上下方向可浮动地设于所述盘刷中。

8.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第一凸起与所述第二凸起接触之间为点接触。

9.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第二凸起为弧形，且所述第二凸起的圆心与所述旋转轴的中心重合。

10.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第二凸起的凸起高度由中部逐渐向两端降低。

11.根据权利要求3-5任一项所述的行走机构，其特征在于，所述施力件为第一磁性件，所述驱动件为第二磁性件，所述第一磁性件与所述第二磁性件之间的相对状态至少包括相斥状态。

12.根据权利要求11所述的行走机构，其特征在于，所述第一磁性件和/或第二磁性件的磁极可调；

及/或，第一磁性件和/或第二磁性件的磁力可调。

13.根据权利要求11所述的行走机构，其特征在于，所述施力件具有第一工作位置和第二位置，施力件处于第一工作位置时，所述施力件压抵待清洁表面；施力件处于第二工作位置时，所述施力件脱离待清洁表面。

14.根据权利要求11所述的行走机构，其特征在于，所述盘刷上具有多个弹片，每个所述弹片的顶部对应设有一个所述第一磁性件，每个所述弹片的底部用于与待清洁表面接触。

15.根据权利要求2所述的行走机构，其特征在于，所述施力件位于所述盘刷内，多个施力件在所述盘刷内以所述旋转轴为中心均匀分散布置，在所述盘刷内还设有控制装置，所述控制装置与所述施力件连接，以用于控制所述施力件向待清洁表面施加压力。

16.根据权利要求15所述的行走机构，其特征在于，所述施力件包括气囊，所述控制装置用于调节所述气囊内的气压，以调节所述施力部向待清洁表面施加的压力。

17.根据权利要求15所述的行走机构，其特征在于，所述施力件包括：

固定部，固定在所述盘刷内；

活动部，与所述固定部滑动连接，所述控制装置用于控制所述活动部相对于所述固定部的伸出量，以调节所述施力部向待清洁表面施加的压力。

18.根据权利要求17所述的行走机构，其特征在于，所述施力件为气缸，对应的，所述固定部为气缸缸体，所述活动部为气缸活塞。

19.一种表面清洁设备，其特征在于，包括机体，以及行走机构，其中，所述行走机构包括：基座和两个盘刷；

每个所述盘刷可旋转的设于所述基座底部，所述盘刷用于与待清洁表面接触；

在两个所述盘刷上均设有施力件；

每个所述盘刷旋转过程中，能够在所述施力件的作用下，所述盘刷的局部形成施力部，且所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大，其中，所述局部为所述盘刷上与所述基座上一预设位置相对的部分。

20.根据权利要求19所述的表面清洁设备，其特征在于，所述施力件包括多个，在所述盘刷旋转过程中，多个所述施力件能够依次增大所述施力部与所述待清洁表面的接触压力。

21.根据权利要求19所述的表面清洁设备，其特征在于，所述基座朝向所述盘刷的表面上具有一驱动件，在所述盘刷转动到所述施力件位于所述驱动件下方时，所述驱动件能够向所述施力件施加远离所述驱动件的作用力，以使所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大。

22.根据权利要求21所述的表面清洁设备，其特征在于，所述施力件为形成于所述盘刷上的第一凸起，所述驱动件为形成于所述基座上的第二凸起，在所述盘刷转动过程中，所述第一凸起与所述第二凸起抵顶而使所述施力部与所述待清洁表面之间的接触压力增大。

23.根据权利要求21所述的表面清洁设备，其特征在于，所述施力件为第一磁性件，所述驱动件为第二磁性件，所述第一磁性件与所述第二磁性件之间的相对状态至少包括相斥状态。

24.一种应用于表面清洁设备的行走方法，所述表面清洁设备包含基座，设置在基座底部的第一盘刷和第二盘刷，以及连接第一盘刷和第二盘刷的连接臂，其特征在于，所述行走方法包括：

控制第一盘刷以第一旋转方向转动，以使第一盘刷与所述连接臂产生第一扭力，以通过所述第一扭力驱动所述连接臂沿所述第一旋转方向摆动。

25.一种应用于表面清洁设备的行走方法，所述表面清洁设备包括基座，设置在基座底部的第一盘刷和第二盘刷，且所述第一盘刷设有第一施力件和第二盘刷设有第二施力件，其特征在于，所述行走方法包括：

控制第一盘刷和第二盘刷转动方向相反，以使待清洁表面对第一盘刷和第二盘刷产生一合力，以通过所述合力驱动所述表面清洁设备直线移动。

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