CN113796771B - 清洁设备及控制方法、可移动设备 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种清洁设备及控制方法、可移动设备。包括设备本体；同心设置于设备本体上的内层转盘及外层转盘；该内层转盘与外层转盘相对设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；设置于设备本体上，内层转盘对应第一区域的第一施力组件及外层转盘对应第二区域的第二施力组件；以及控制组件，用以控制内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过第一施力组件及第二施力组件向内层转盘及外层转盘施加作用力，使内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与待清洁表面之间产生第二摩擦力，并在第一摩擦力和第二摩擦力作用下控制设备本体在待清洁表面沿行走方向行走。本申请的方案提高了清洁设备的工作效率。

Description

清洁设备及控制方法、可移动设备

技术领域

本申请实施例涉及家庭清洁领域，尤其涉及一种清洁设备及控制方法、可移动设备。

背景技术

随着科技发展的日新月异，人们对生活条件的要求越来越高，生活质量也随之提升，越来越多的工作可以由智能设备完成，如可以进行清洁作业的清洁设备等。

以清洁设备中的擦窗机器人为例，传统方案中，擦窗机器人通常包括设备本体及平行设置于设备本体上的两个转盘，转盘上可以贴附有抹布等清洁工具，用于与待清洁表面接触，并清洁该表面。擦窗机器人进行作业时，设备本体内的控制组件控制转盘旋转，使得擦窗机器人可以沿待清洁表面摆动式行走，清洁表面。该种行走方式效率较低，从而影响擦窗机器人的工作效率。

发明内容

本申请实施例提供一种清洁设备及控制方法、可移动设备，用以解决现有技术中清洁设备工作效率较低的问题。

第一方面，本申请实施例中提供了一种清洁设备，包括：

设备本体；

同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘；所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；

设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力组件；

控制组件，用以控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述待清洁表面之间产生第二摩擦力，并在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下控制所述设备本体在所述待清洁表面沿所述行走方向行走。

第二方面，本申请实施例提供了一种控制方法，应用于清洁设备，所述设备包括设备本体；同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘，所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力组件；以及控制组件；

所述方法包括：

控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；

根据行走方向，控制所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述待清洁表面之间产生第二摩擦力；

在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下，控制所述设备本体在所述待清洁表面沿所述行走方向行走。

第三方面，本申请实施例中提供了一种可移动设备，包括：

设备本体；

同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘；所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；

设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力组件；

控制组件，用以控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与行走表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述行走表面之间产生第二摩擦力，并在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下控制所述设备本体在所述行走表面沿所述行走方向行走。

本申请实施例提供的清洁设备中，同心设置于设备本体上的内层转盘及外层转盘相对设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转，设备本体上与内层转盘对应的第一区域上设置有第一施力组件，以及与外层转盘对应的第二区域上设置有第二施力组件，内层转盘及外层转盘旋转过程中，旋转方向相反，根据行走方向，控制第一施力组件及第二施力组件向内层转盘及外层转盘施加作用力，使得内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与待清洁表面之间产生第二摩擦力，该第一摩擦力与第二摩擦力形成的旋转力矩方向相反，相互抵消，设备自身不发生旋转，同时，第一摩擦力与第二摩擦力的合力方向与行走方向一致，该设备可以在第一摩擦力和第二摩擦力的作用下在待清洁表面沿行走方向直线行走。本方案能够实现清洁设备沿行走方向直线行走，提高清洁设备的工作效率。

本申请的这些方面或其他方面在以下实施例的描述中会更加简明易懂。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本申请提供的一种清洁设备中转盘一个实施例的结构示意图；

图2示出了本申请提供的一种清洁设备中设备本体俯视图一个实施例的结构示意图；

图3示出了本申请提供的一种清洁设备一个实施例的原理图；

图4示出了本申请提供的一种清洁设备行走方向一个实施例的示意图；

图5示出了本申请提供的一种控制方法一个实施例的流程图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

在本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的描述的一些流程中，包含了按照特定顺序出现的多个操作，但是应该清楚了解，这些操作可以不按照其在本文中出现的顺序来执行或并行执行，操作的序号如101、102等，仅仅是用于区分开各个不同的操作，序号本身不代表任何的执行顺序。另外，这些流程可以包括更多或更少的操作，并且这些操作可以按顺序执行或并行执行。需要说明的是，本文中的“第一”、“第二”等描述，是用于区分不同的消息、设备、模块等，不代表先后顺序，也不限定“第一”和“第二”是不同的类型。

本申请适用于可以沿表面行走，提供表面清洁功能的清洁设备，如可以包括擦窗机器人、擦地机器人等。

以擦窗机器人为例，传统方案中，该擦窗机器人通常包括设备本体及平行设置于设备本体上的两个转盘，转盘上可以贴附有抹布等清洁工具，用于与待清洁表面接触，并清洁该表面。擦窗机器人工作时，设备本体内的控制组件控制转盘旋转，由于设备的自身旋转，擦窗机器人在待清洁表面上通常是摆动式行走，无法沿指定方向直线行走，从而影响擦窗机器人的工作效率。

为了解决上述问题，发明人经过一系列研究及实验，提出了本申请的技术方案，提出一种清洁设备，包括设备本体；同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘；所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力组件；以及控制组件，用以控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述待清洁表面之间产生第二摩擦力，并在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下控制所述设备本体在所述待清洁表面沿所述行走方向行走。

本申请提出的清洁设备，内层转盘及外层转盘旋转过程中，旋转方向相反，根据行走方向，控制第一施力组件及第二施力组件向内层转盘及外层转盘施加作用力，使得内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与待清洁表面之间产生第二摩擦力，该第一摩擦力与第二摩擦力形成的旋转力矩方向相反，相互抵消，设备自身不发生旋转，同时，第一摩擦力与第二摩擦力的合力方向与行走方向一致，该设备可以在第一摩擦力和第二摩擦力的作用下在待清洁表面沿行走方向直线行走。本方案能够实现清洁设备沿行走方向直线行走，提高清洁设备的工作效率。

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本实施例中，清洁设备可以实现为表面清洁设备，用于进行表面清洁。该设备可以在待清洁表面行走，以清洁待清洁表面。例如可以包括擦窗机器人、擦地机器人等。

该设备可以包括设备本体；同心设置于设备本体上的内层转盘及外层转盘，其中，内层转盘与外层转盘相对设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；设置于设备本体上，内层转盘对应第一区域的第一施力组件及外层转盘对应第二区域的第二施力组件；以及控制组件。

如图1所示，为本申请提供的一种清洁设备中转盘一个实施例的结构示意图，内层转盘10与外层转盘20同心设置，且旋转方向相反。以及如图2所示，为本申请提供的一种清洁设备中设备本体俯视图一个实施例的结构示意图，设备本体上，内层转盘对应第一区域30上设置有第一施力组件301，外层转盘对应第二区域40上设置有第二施力组件401。

具体的，控制组件可以控制内层转盘10及外层转盘20旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过第一施力组件301及第二施力组件401向内层转盘10以及外层转盘20施加作用力，使得内层转盘10与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及外层转盘20与待清洁表面之间产生第二摩擦力，并在第一摩擦力和第二摩擦力作用下控制设备本体在待清洁表面沿行走方向行走。

本实施例中，设备本体可以包括壳体，上述控制组件设置于设备本体内，具体可以是设置于壳体内。壳体外表面可以设置有转盘底座，内层转盘10与外层转盘20可以同心设置于该转盘底座上，该转盘底座可以包括与内层转盘10及外层转盘20形状相配合的结构。可选的，内层转盘与外层转盘可以实现为圆环，转盘底座可以实现为直径大于或等于外层圆环外直径的圆形结构，或者可以实现为内直径与内层圆环内直径相同、外直径与外层圆环外直径相同的圆环结构等，此处不进行具体限制。

内层转盘10与外层转盘20以转盘底座中心为旋转轴旋转。可选的，旋转轴可以指虚拟的旋转轴线。

可选的，转盘底座的中心处可以设置有轴部件，内层转盘10与外层转盘20可以套设在该轴部件上，围绕该轴部件旋转。本申请对轴部件的形状不做具体限定，如可以是柱状轴。其中，内层转盘10与外层转盘20的旋转方向相反。可选的，控制组件可以控制内层转盘10与外层转盘20围绕该轴部件旋转，并且旋转方向相反。如控制组件可以控制外层转盘20顺时针旋转，内层转盘10逆时针旋转，或者控制外层转盘20逆时针旋转，内层转盘10顺时针旋转。

可选的，施力组件可以设置于转盘底座上。其中，第一施力组件301可以设置于转盘底座上与内层转盘对应的第一区域30，以及第二施力组件401可以设置于转盘底座上与外层转盘对应的第二区域40。具体的，转盘底座上与内层转盘对应的第一区域可以指转盘底座上，内直径与内层转盘内直径相同，以及外直径与内层转盘外直径相同的圆环形区域。同样的，转盘底座上与外层转盘对应的第二区域可以指转盘底座上，内直径与外层转盘内直径相同，以及外直径与外层转盘外直径相同的圆环形区域。

内层转盘10及外层转盘20旋转的过程中，根据行走方向，控制组件分别通过设置于第一区域30中的第一施力组件301及第二区域40中的第二施力组件401向内层转盘10及外层转盘20施加作用力，施力组件所在设备本体向转盘施加的作用力作用在转盘上，使转盘与待清洁表面之间的正压力增大，从而使转盘与待清洁表面之间产生的摩擦力增大，使转盘与待清洁表面之间产生附加摩擦力，该附加摩擦力是指转盘与待清洁表面之间由于施力组件施加的作用力而额外增加的摩擦力。为了便于描述，可以将内层转盘10与待清洁表面之间产生的附加摩擦力称为第一摩擦力，以及将外层转盘20与待清洁表面之间产生的附加摩擦力称为第二摩擦力。

根据行走方向，由控制组件控制施力组件向转盘施加作用力产生的上述第一摩擦力及第二摩擦力的合力方向沿行走方向，使得在第一摩擦力及第二摩擦力的作用下，该清洁设备可以在待清洁表面沿行走方向行走。

本申请实施例提供的清洁设备中，同心设置于设备本体上的内层转盘及外层转盘相对设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转，设备本体上与内层转盘对应的第一区域上设置有第一施力组件，以及与外层转盘对应的第二区域上设置有第二施力组件，内层转盘及外层转盘旋转过程中，旋转方向相反，根据行走方向，控制第一施力组件及第二施力组件向内层转盘及外层转盘施加作用力，使得内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与待清洁表面之间产生第二摩擦力，该第一摩擦力与第二摩擦力形成的旋转力矩方向相反，相互抵消，设备自身不发生旋转，同时，第一摩擦力与第二摩擦力的合力方向与行走方向一致，该设备可以在第一摩擦力和第二摩擦力的作用下在待清洁表面沿行走方向直线行走。本方案能够实现清洁设备沿行走方向直线行走，提高清洁设备的工作效率。

在某些实施例中，控制组件根据行走方向，通过设置于第一区域中的第一施力组件及第二区域中的第二施力组件向内层转盘及外层转盘施加作用力具体可以包括：

根据行走方向，优先确定第一区域中的第一施力区域以及第二区域中的第二施力区域。其中，该第一施力区域位于第一区域中，相对于行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域，第二施力区域位于第二区域中，相对于行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域，且第一侧区域与第二侧区域不同侧。

控制组件可以通过第一施力区域设置的第一施力组件向内层转盘施加作用力，以及通过第二施力区域设置的第二施力组件向外层转盘施加作用力。

图3是本申请提供的一种清洁设备一个实施例的原理图。如图3所示，该设备的行走方向为沿箭头方向向前行走，内层转盘10逆时针旋转，以及外层转盘20顺时针旋转过程中，根据行走方向，优先确定相对于行走方向平行的对称轴X对称的两侧区域中的第一侧区域及第二侧区域，再确定第一侧区域内，位于第一区域中的第一施力区域，以及第二侧区域内，位于第二区域中的第二施力区域。内层转盘10逆时针旋转时，第一施力区域设置的第一施力组件向内层转盘10施加作用力，内层转盘10上与第一施力区域对应的区域a处由于受到局部压力，产生沿旋转切线方向相反的第一摩擦力。与此同时，外层转盘20顺时针旋转时，第二施力区域设置的第二施力组件向外层转盘20施加作用力，外层转盘20上与第二施力区域对应的区域b处由于受到局部压力，产生沿旋转切线方向相反的第二摩擦力。

为了便于描述，可以将内层转盘10上与第一施力区域对应的区域称为第一受力区域a，以及将外层转盘20上与第二施力区域对应的区域称为第二受力区域b。可以理解的是，在转盘旋转的过程中，转盘是相对于设备本体旋转的，根据行走方向确定的设备本体中的施力区域不变，而转盘上与设备本体中的施力区域对应的区域会随之改变，即第一受力区域a的位置相对于内层转盘10来讲可以是一直变化的，第二受力区域b的位置相对于外层转盘20来讲也是一直变化的。

由于内层转盘10与外层转盘20的旋转方向相反，上述第一受力区域a处产生的第一摩擦力与第二受力区域b处产生的第二摩擦力形成的旋转力矩的方向相反，相互抵消，使得该设备自身不发生旋转。同时，第一摩擦力与第二摩擦力的合力方向与行走方向一致，因此，可以在第一摩擦力和第二摩擦力的作用下控制该设备在待清洁表面沿该行走方向直线行走。

在实际应用中，与上述施力组件对应的，该设备还可以包括受力组件。因此，在某些实施例中，该设备还可以包括设置于内层转盘朝向设备本体的表面上的第一受力组件，以及设置于外层转盘朝向设备本体的表面上的第二受力组件。

此时，控制组件根据行走方向，通过第一施力组件及第二施力组件向内层转盘及外层转盘施加作用力具体可以包括：

控制组件根据行走方向，通过第一施力组件向第一受力组件施加作用力，以及通过第二施力组件向第二受力组件施加作用力。

可选的，根据行走方向，可以优先确定第一区域中的第一施力区域以及第二区域中的第二施力区域，控制组件可以通过第一施力区域设置的第一施力组件向第一受力组件施加作用力，以及通过第二施力区域设置的第二施力组件向第二受力组件施加作用力。其中，第一施力区域及第二施力区域的确定方式在上述实施例已有详细说明，此处不再赘述。

实际应用中，上述施力组件可以包括多个。多个第一施力组件可以在第一区域上均匀分散设置，以及多个第二施力组件可以在第二区域上均匀分散设置。可选的，第一施力组件可以与第二施力组件数量相同。为了实现该设备可以在待清洁表面沿前后左右四个方向的行走，该施力组件可以包括至少四个。

如图4所示，为本申请提供的一种清洁设备行走方向一个实施例的示意图。以内层转盘逆时针旋转，外层转盘顺时针旋转为例。图4中，根据a所示的行走方向，确定与行走方向平行的对称轴对称的左右两侧区域中，左侧区域位于第一区域中的第一施力区域，以及右侧区域位于第二区域中的第二施力区域，控制第一施力区域中的第一施力组件向第一受力组件施加作用力，以及第二施力区域中的第二施力组件向第二受力组件施加作用力，可以实现设备沿行走方向向前直线行走。同样的，根据b所示的行走方向，可以确定与行走方向平行的对称轴对称的上下两侧区域中，上侧区域位于第一区域中的第一施力区域，下侧区域位于第二区域中的第二施力区域，实现设备沿行走方向向右直线行走。以及根据c所示的行走方向，可以确定与行走方向平行的对称轴对称的左右两侧区域中，右侧区域位于第一区域中的第一施力区域，左侧区域位于第二区域中的第二施力区域，实现设备沿行走方向向下直线行走。以及根据d所示的行走方向，可以确定与行走方向平行的对称轴对称的上下两侧区域中，下侧区域位于第一区域中的第一施力区域，左侧区域位于第二区域中的第二施力区域，实现设备沿行走方向向左直线行走。从而实现了设备在待清洁表面沿前后左右四个方向的行走。

可选的，受力组件也可以包括多个。多个第一受力组件可以在内层转盘上均匀分散设置，多个第二受力组件可以在外层转盘上均匀分散设置。可选的，第一受力组件可以与第二受力组件数量相同。

可选的，第一施力组件可以与第一受力组件数量相同，以及第二施力组件可以与第二受力组件数量相同。

在实际应用中，施力组件与受力组件可以包括多种实现形式。

在某些实施例中，施力组件及受力组件均可以实现为磁性组件。控制组件可以包括多个控制电路。控制组件通过第一施力区域设置的第一施力组件向第一受力组件施加作用力，以及通过第二施力区域设置的第二施力组件向第二受力组件施加作用力可以包括：

控制电路控制向第一施力区域设置的第一施力组件提供工作电压，使得第一施力区域中的第一施力组件产生磁场，并基于该磁场向第一受力组件施加作用力，以及向第二施力区域设置的第二施力组件提供工作电压，使得第二施力区域中的第二施力组件产生磁场，并基于该磁场向第二受力组件施加作用力。

具体的，控制电路可以与施力组件数量相同，多个控制电路可以与施力组件一一对应，用于单独控制向各个施力组件提供工作电压。在转盘旋转时，多个控制电路分别控制向第一施力区域设置的第一施力组件提供工作电压，以及向第二施力区域设置的第二施力组件提供工作电压。其中，工作电压的数值及极性可以根据实际应用进行设置。第一施力区域设置的第一施力组件在工作电压的作用下，产生磁场，并可以通过磁场向第一受力组件施加作用力，以及第二施力区域设置的第二施力组件在工作电压的作用下，产生磁场，并可以通过磁场向第二受力组件施加作用力。

可选的，第一施力区域的磁场与第一受力组件可以产生排斥力，此时，内层转盘上的第一受力区域与第一施力组件所在设备本体之间的正压力增大，第一受力区域与待清洁表面之间的正压力增大，第一受力区域与待清洁表面之间产生沿旋转切线方向相反的第一摩擦力。同样的，外层转盘上的第二受力区域与待清洁表面之间产生沿旋转切线方向相反的第二摩擦力。结合图3所示，第一摩擦力与第二摩擦力的合力方向沿行走方向。此时，该设备可以在第一摩擦力和第二摩擦力的作用下沿行走方向行走。

在实际应用中，上述第一及第二施力组件可以实现为电磁铁，以及第一及第二受力组件也可以实现为电磁铁。具体的，作为受力组件的电磁铁可以在控制电路的控制下保持工作，作为施力组件的电磁铁在控制电路的控制下，只在电磁铁所在区域属于施力区域时工作，在电磁铁所在区域不属于施力区域时不工作。其中，电磁铁的极性可以根据工作电压的极性进行变化，产生磁场的磁力可以根据工作电压的数值进行变化等。

可选的，上述第一及第二受力组件还可以实现为永磁体。其中，永磁体的结构及形状不受具体限制，可以根据实际情况进行设置。

在某些实施例中，施力组件及受力组件可以实现为弹性组件。可选的，该弹性组件可以实现为凸起。其中，凸起的结构及形状不受具体限制，可以根据实际情况进行设置。可以理解的是，当施力组件及受力组件实现为磁性组件时，施力组件向受力组件施加的作用力可以是磁力。而当施力组件及受力组件实现为弹性组件时，施力组件向受力组件施加的作用力可以是弹力。具体的施力组件及受力组件的设置在上述实施例中已有详细说明，此处不再赘述。

在实际应用中，内层转盘及外层转盘上朝向待清洁表面的一面设置有清洁工具。内层转盘与外层转盘可以通过清洁工具与待清洁表面接触。其中，该清洁工具可以实现为清洁抹布等。

可选的，内层转盘与外层转盘上朝向待清洁表面的一面设置有与清洁工具可拆卸连接的连接件。该连接件可以实现为粘性部件，如魔术贴等。以清洁工具是清洁抹布为例，该清洁抹布可以通过魔术贴等粘性部件贴附在转盘上，并随转盘一起转动。

在某些实施例中，该清洁设备的内层转盘与待清洁表面形成内环负压腔，以及外层转盘与待清洁表面形成外环负压腔。具体可以是贴附在内层转盘上的清洁工具与待清洁表面形成内环负压腔，以及贴附在外层转盘上的清洁工具与待清洁表面形成外环负压腔。负压腔的内部压强低于外部压强，使得该设备可以吸附在待清洁表面进行清洁作业。

具体的，该待清洁表面可以包括壁面或水平面。待清洁表面是壁面时，可以通过大气压力提供设备对待清洁表面的正压力，使得该设备吸附在壁面上。待清洁表面是水平面时，可以通过重力提供设备对待清洁表面的正压力，此时设备无需吸附在水平面上。

可选的，该清洁设备还可以包括与内环负压腔连接的第一负压源，以及与外环负压腔连接的第二负压源，用于控制负压腔的内部压强低于外部压强，实现设备吸附在待清洁表面。该负压源可以实现为风机或真空泵等。例如，该设备在水平面上进行清洁作业时，可以开启真空泵增强擦拭力，提高清洁效果。

在一个可选的实施例中，上述内环负压腔和外环负压腔是相对封闭独立的。在另外一个可选的实施例中，内环负压腔和外环负压腔是连通的，两者构成的整体负压腔封闭密封。其中，内环负压腔和外环负压腔可以分别调节形成局部压力。

在某些实施例中，该清洁设备还可以包括与控制组件连接的驱动组件，用于驱动转盘旋转。

可选的，驱动组件可以包括第一驱动组件及第二驱动组件，控制组件可以利用第一驱动组件驱动内层转盘旋转，以及利用第二驱动组件驱动外层转盘旋转，其中，内外层转盘旋转方向相反。

在实际应用中，该第一驱动组件及第二驱动组件均可以实现为电机，控制组件可以向电机提供工作电压，电机在工作电压的作用下驱动转盘旋转。

在某些实施例中，该清洁设备还可以包括与控制组件连接的检测组件，用于检测设备是否行走至待清洁表面边界。

可选的，控制组件可以利用检测组件检测设备的外层转盘是否位于待清洁表面的边界；

若是，更换该设备的行走方向。

本实施例中，该设备通过同心设置的内层转盘及外层转盘与待清洁表面接触，且外层转盘的外直径大于内层转盘的外直径，若检测外层转盘位于待清洁表面的边界，表明该设备本体行走至待清洁表面的边界。此时，该设备无法再沿当前方向行走，可以更换设备的行走方向。

可选的，若检测外层转盘位于待清洁表面的边界时，该设备的清洁作业已结束，可以控制该设备停止行走。

可选的，若检测外层转盘并未位于待清洁表面的边界，可以沿当前行走方向继续行走。

在实际应用中，该检测组件可以有多种实现方式。

作为一种可选的实现方式，检测组件可以实现为压力传感器。此时，控制组件利用检测组件检测外层转盘是否位于待清洁表面的边界具体可以包括：

控制组件利用压力传感器检测外环负压腔的负压值；

负压值在预设时间间隔内的变化值超过压力变化阈值时，确定外层转盘位于待清洁表面的边界。

具体的，设备的外层转盘位于待清洁表面的边界时，外环负压腔的负压值将会发生变化。如待清洁表面实现为无边框玻璃壁面时，若外层转盘位于玻璃边界外，外环负压腔的负压值将会急剧减小。此时，压力传感器可以检测到该外环负压腔的负压值在预设时间间隔内的变化值超过压力变化阈值，从而确定外层转盘位于待清洁表面的边界。其中，该预设时间间隔及压力变化阈值可以根据实际情况进行设定，此处不进行具体限制。

此时，若设备的内环负压腔与外环负压腔相互独立，当检测外环负压腔的负压值急剧减小时，内环负压腔可以支撑该设备继续吸附在待清洁表面，确保该设备不会掉落。

若设备的内环负压腔与外环负压腔连通，整体负压腔封闭，由于内环负压腔和外环负压腔可以分别调节形成局部压力，当检测负压值急剧减小时，可以调节内环负压腔形成局部压力，支撑该设备继续吸附在待清洁表面，确保该设备不会掉落。

作为检测组件的另一种可实现方式，检测组件还可以实现为电流检测组件。此时，控制组件利用检测组件检测外层转盘是否位于待清洁表面的边界具体可以包括：

控制组件利用电流检测组件检测第二驱动组件的电流值；

电流值在预设时间间隔内的变化值超过电流变化阈值时，确定外层转盘位于待清洁表面的边界。

具体的，设备的外层转盘位于待清洁表面的边界时，驱动外层转盘旋转的第二驱动组件内的电流值将会发生变化，如急剧减小等。此时，电流检测组件可以检测到该第二驱动组件的电流值在预设时间间隔内的变化值超过电流变化阈值，从而确定外层转盘位于待清洁表面的边界。其中，该预设时间间隔及电流变化阈值可以根据实际情况进行设定，此处不进行具体限制。

可选的，该电流检测组件可以实现为电流表，通过读取电流表的数值获得检测电流值。或者，该电流检测组件还可以实现为检测电路等，通过检测电路电压，结合电阻计算获得检测电流值。具体的，该检测电路可以根据实际情况进行设置，此处不进行具体限制。

在实际应用中，该设备可以在不同的模式下运行。如可以包括自动运行模式、半自动运行模式等。具体的，自动运行模式可以指自动行走模式，半自动运行模式可以指半自动行走模式。其中，自动行走模式可以指在控制组件的控制下，内层转盘与外层转盘旋转，并沿行走方向行走的行走模式。半自动行走模式可以指在控制组件的控制下，内层转盘与外层转盘旋转，并在用户的手动控制下行走的行走模式。

可选的，该设备还可以包括与设备本体连接的交互组件，该交互组件可以用于检测针对设备本体的模式设置操作，向控制组件发送模式设置请求；

此时，控制组件可以用于基于该模式设置请求，控制设备本体运行。

具体的，交互组件可以供用户与设备进行交互。用户可以通过该交互组件设置或切换设备的运行模式。其中，交互组件的结构及形状可以根据实际情况进行设定，此处不进行具体限制。例如，该交互组件可以实现为按钮，按钮的结构及形状可以根据实际情况进行设置。

可选的，该交互组件还可以实现为手柄，用于在半自动运行模式下由用户通过该手柄控制设备本体行走。其中，手柄的形状及长度可以根据使用场景不同而不同。

图5为本申请提供的一种控制方法一个实施例的流程图，该方法可以应用于清洁设备，该设备包括设备本体；同心设置于设备本体上的内层转盘及外层转盘，内层转盘与外层转盘相对设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；设置于设备本体上，内层转盘对应第一区域的第一施力组件及外层转盘对应第二区域的第二施力组件；以及控制组件；

该方法可以包括以下几个步骤：

501：控制内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；

502：根据行走方向，控制第一施力组件及第二施力组件向内层转盘以及外层转盘施加作用力，使得内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与待清洁表面之间产生第二摩擦力；

503：在第一摩擦力和第二摩擦力作用下，控制设备本体在待清洁表面沿行走方向行走。

图5所述的控制方法可以应用于图1所示实施例所述的清洁设备，其实现原理和技术效果不再赘述。

在某些实施例中，本申请还提供了一种可移动设备，包括设备本体；

同心设置于设备本体上的内层转盘及外层转盘；内层转盘与外层转盘相对设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；

设置于设备本体上，内层转盘对应第一区域的第一施力组件及外层转盘对应第二区域的第二施力组件；

控制组件，用以控制内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过第一施力组件及第二施力组件向内层转盘以及外层转盘施加作用力，使得内层转盘与行走表面之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与行走表面之间产生第二摩擦力，并在第一摩擦力和第二摩擦力作用下控制设备本体在行走表面沿行走方向行走。

本实施例中，可移动设备可以实现为移动机器人，如擦地机器人、擦窗机器人等。行走表面可以包括壁面或水平面。如，壁面可以实现为玻璃壁面，水平面可以实现为地面等。

上述可移动设备中各结构的组成及连接方式可以参考图1所示实施例中各结构的组成及连接方式，其实现原理及技术效果在图1所示实施例中已有详细说明，此处不再进行赘述。

上述可移动设备的控制方法可以参考图5所示实施例中的控制方法，其实现原理及技术效果不再赘述。

在一个可能的设计中，上述清洁设备可以实现为擦窗机器人或擦地机器人，其中，相应的原理和技术效果可以参考清洁设备的相应说明，此处不再进行赘述。

应用场景一：

当清洁设备为擦窗机器人时，以下就用户使用擦窗机器人清洁窗户为例来说明。

擦窗机器人在窗户上进行擦拭，同心设置于擦窗机器人本体上的内层转盘与外层转盘吸附在窗户上，内层转盘及外层转盘上朝向窗户的一面设置清洁抹布，清洁抹布以窗户接触，擦拭窗户。

在进行清洁作业时，设置于擦窗机器人本体内的控制组件利用第一驱动组件驱动内层转盘旋转，以及利用第二驱动组件驱动外层转盘旋转，且两个转盘的旋转方向相反。根据预设的行走方向，控制组件控制擦窗机器人本体上第一施力区域设置的电磁铁工作，利用电磁铁产生的磁场向内层转盘上设置的永磁体施加作用力，以及控制擦窗机器人本体上第二施力区域设置的电磁铁工作，利用电磁铁产生的磁场向外层转盘上设置的永磁体施加作用力，其中，第一施力区域位于擦窗机器人本体与内层转盘对应的第一区域中，相对于行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域，第二施力区域位于擦窗机器人本体与外层转盘对应的第二区域中，相对于行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域。基于第一施力区域中磁场施加的作用力，内层转盘上与第一施力区域对应的区域与窗户之间产生第一摩擦力，以及基于第二施力区域中磁场施加的作用力，外层转盘上与第二施力区域对应的区域与窗户之间产生第二摩擦力。该第一摩擦力与第二摩擦力形成的旋转力矩的方向相反，相互抵消，使得擦窗机器人自身不发生旋转。同时，第一摩擦力与第二摩擦力的合力方向与行走方向一致，在第一摩擦力与第二摩擦力的作用下，擦窗机器人在窗户表面沿行走方向直线行走，进行清洁作业。

应用场景二：

当清洁设备为擦窗机器人时，以下就用户使用擦窗机器人清洁窗户为例来说明。

擦窗机器人在窗户上进行擦拭，同心设置于擦窗机器人本体上的内层转盘与外层转盘吸附在窗户上。其中，内层转盘与窗户之间形成内环负压腔，外层转盘与窗户之间形成外环负压腔。内层转盘及外层转盘上朝向窗户的一面设置清洁抹布，清洁抹布以窗户接触，擦拭窗户。

在进行清洁作业时，设置于擦窗机器人本体内的控制组件控制内层转盘及外层转盘旋转，且两个转盘的旋转方向相反。根据预设的行走方向，控制组件控制擦窗机器人本体上第一区域设置的第一施力组件向内层转盘施加作用力，以及控制擦窗机器人本体上第二区域设置的第二施力组件向外层转盘施加作用力，使得内层转盘与窗户之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与窗户之间产生第二摩擦力，在第一摩擦力与第二摩擦力作用下，擦窗机器人在窗户表面沿行走方向直线行走。在行走过程中，控制组件利用压力传感器检测外环负压腔的负压值。当检测的负压值在预设时间间隔内的变化值超过压力变化阈值时，如负压值急剧减小，判断该擦窗机器人的外层转盘位于窗户边界，更换行走方向，该擦窗机器人在窗户表面沿更换后的行走方向直线行走，进行清洁作业。

应用场景三：

当清洁设备为擦窗机器人时，以下就用户使用擦窗机器人清洁窗户为例来说明。

擦窗机器人在窗户上进行擦拭，同心设置于擦窗机器人本体上的内层转盘与外层转盘吸附在窗户上。内层转盘及外层转盘上朝向窗户的一面设置清洁抹布，清洁抹布以窗户接触，擦拭窗户。

在进行清洁作业时，控制组件利用第一电机控制内层转盘旋转，以及利用第二电机控制外层转盘旋转，且两个转盘的旋转方向相反。根据预设的行走方向，控制组件控制擦窗机器人本体上第一区域设置的第一施力组件向内层转盘施加作用力，以及控制擦窗机器人本体上第二区域设置的第二施力组件向外层转盘施加作用力，使得内层转盘与窗户之间产生第一摩擦力，以及外层转盘与窗户之间产生第二摩擦力，在第一摩擦力与第二摩擦力作用下，擦窗机器人在窗户表面沿行走方向直线行走。在行走过程中，控制组件利用电流检测组件检测第二电机的电流值。当检测的电流值在预设时间间隔内的变化值超过电流变化阈值时，判断该擦窗机器人的外层转盘位于窗户边界，更换行走方向，该擦窗机器人在窗户表面沿更换后的行走方向直线行走，进行清洁作业。

可以理解的是，当清洁设备为擦地机器人，用户使用擦地机器人清洁地面时，内层转盘及外层转盘无需吸附在地面上，内层转盘及外层转盘上朝向地面的一面设置清洁抹布，清洁抹布以地面接触，擦拭地面。擦地机器人在地面上的工作原理与上述描述的擦窗机器人在窗户上的工作原理相同，此处不再赘述。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的系统，装置和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，其中所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。本领域普通技术人员在不付出创造性的劳动的情况下，即可以理解并实施。

通过以上的实施例的描述，本领域的技术人员可以清楚地了解到各实施例可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现，当然也可以通过硬件。基于这样的理解，上述技术方案本质上或者说对传统方案做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品可以存储在计算机可读存储介质中，如ROM/RAM、磁碟、光盘等，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等)执行各个实施例或者实施例的某些部分所述的方法。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (15)

1.一种清洁设备，其特征在于，包括：

设备本体；

同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘；所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；

设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力组件；

控制组件，用以控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述待清洁表面之间产生第二摩擦力，并在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下控制所述设备本体在所述待清洁表面沿所述行走方向行走；

所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力包括：

所述控制组件根据行走方向，通过第一施力区域设置的第一施力组件向所述内层转盘施加作用力，以及通过第二施力区域设置的第二施力组件向所述外层转盘施加作用力；其中，所述第一施力区域位于所述第一区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域，所述第二施力区域位于所述第二区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域，所述第一侧区域与所述第二侧区域不同侧。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括设置于所述内层转盘朝向所述设备本体的表面上的第一受力组件，以及设置于所述外层转盘朝向所述设备本体的表面上的第二受力组件；

所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力包括：

所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力包括：

所述控制组件根据行走方向，确定所述第一区域中的第一施力区域以及所述第二区域中的第二施力区域；通过所述第一施力区域设置的第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力区域设置的第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力；其中，所述第一施力区域位于所述第一区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域；所述第二施力区域位于所述第二区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域；其中，所述第一侧区域与所述第二侧区域不同侧。

4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一施力组件在所述第一区域上均匀分散设置；所述第二施力组件在所述第二区域上均匀分散设置；

所述第一受力组件在所述内层转盘上均匀分散设置，所述第二受力组件在所述外层转盘上均匀分散设置。

5.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述第一施力组件、所述第二施力组件、所述第一受力组件及所述第二受力组件包括磁性组件；所述控制组件包括多个控制电路；

所述控制组件通过所述第一施力区域设置的第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力区域设置的第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力包括：

所述控制电路控制向所述第一施力区域设置的第一施力组件提供工作电压，使得所述第一施力区域中的第一施力组件产生磁场，并基于所述磁场向所述第一受力组件施加作用力，以及向所述第二施力区域设置的第二施力组件提供工作电压，使得所述第二施力区域中的第二施力组件产生磁场，并基于所述磁场向所述第二受力组件施加作用力。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述第一施力组件及所述第二施力组件包括电磁铁，所述第一受力组件及所述第二受力组件包括永磁体。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括与所述控制组件连接的第一驱动组件及第二驱动组件；

所述控制组件控制所述内层转盘及外层转盘旋转包括：

所述控制组件利用所述第一驱动组件驱动所述内层转盘旋转，以及利用所述第二驱动组件驱动所述外层转盘旋转。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括与所述控制组件连接的检测组件；

所述控制组件还用于利用所述检测组件检测所述外层转盘是否位于所述待清洁表面的边界；

若是，更换行走方向。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述外层转盘与所述待清洁表面形成外环负压腔；

所述检测组件包括压力传感器；

所述控制组件利用所述检测组件检测所述外层转盘是否位于所述待清洁表面的边界包括：

所述控制组件利用所述压力传感器检测所述外环负压腔的负压值；

所述负压值在预设时间间隔内的变化值超过压力变化阈值时，确定所述外层转盘位于所述待清洁表面的边界。

10.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述检测组件包括电流检测组件；所述设备还包括与所述控制组件连接的第一驱动组件及第二驱动组件；

所述控制组件控制所述内层转盘及外层转盘旋转包括：

所述控制组件利用所述第一驱动组件驱动所述内层转盘旋转，以及利用所述第二驱动组件驱动所述外层转盘旋转；

所述控制组件利用所述检测组件检测所述外层转盘是否位于所述待清洁表面的边界包括：

所述控制组件利用所述电流检测组件检测所述第二驱动组件的电流值；

所述电流值在预设时间间隔内的变化值超过电流变化阈值时，确定所述外层转盘位于所述待清洁表面的边界。

11.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述内层转盘及外层转盘上朝向所述待清洁表面的一面设置有与清洁工具可拆卸连接的连接件。

12.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括设置于所述设备本体上的交互组件；

所述交互组件用于检测针对所述设备本体的模式设置操作，向所述控制组件发送模式设置请求；

所述控制组件还用于基于所述模式设置请求，控制所述设备本体运行。

13.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备包括设置于所述内层转盘朝向所述设备本体的表面上的第一受力组件，以及设置于所述外层转盘朝向所述设备本体的表面上的第二受力组件；

所述第一施力组件、所述第二施力组件、所述第一受力组件及所述第二受力组件包括磁性组件；所述控制组件包括多个控制电路；

所述控制组件通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力包括：

所述控制电路控制向第一施力区域设置的第一施力组件提供工作电压，使得所述第一施力区域中的第一施力组件产生磁场，并基于所述磁场向所述第一受力组件施加作用力，以及向第二施力区域设置的第二施力组件提供工作电压，使得所述第二施力区域中的第二施力组件产生磁场，并基于所述磁场向所述第二受力组件施加作用力；其中，所述第一施力区域位于所述第一区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域；所述第二施力区域位于所述第二区域中，相对于行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域；其中，所述第一侧区域与所述第二侧区域不同侧。

14.一种控制方法，其特征在于，应用于清洁设备，所述设备包括设备本体；同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘，所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力区域中的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力区域中的第二施力组件；以及控制组件；所述第一施力区域位于所述第一区域中，相对于行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域，所述第二施力区域位于所述第二区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域，所述第一侧区域与所述第二侧区域不同侧；

所述方法包括：

控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；

根据所述行走方向，控制所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述待清洁表面之间产生第二摩擦力；

在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下，控制所述设备本体在所述待清洁表面沿所述行走方向行走。

15.一种可移动设备，其特征在于，包括：

设备本体；

同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘；所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；

设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力组件；

控制组件，用以控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与行走表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述行走表面之间产生第二摩擦力，并在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下控制所述设备本体在所述行走表面沿所述行走方向行走；

所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力包括：

所述控制组件根据行走方向，通过第一施力区域设置的第一施力组件向所述内层转盘施加作用力，以及通过第二施力区域设置的第二施力组件向所述外层转盘施加作用力；其中，所述第一施力区域位于所述第一区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域，所述第二施力区域位于所述第二区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域，所述第一侧区域与所述第二侧区域不同侧。

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