CN112768330B - 一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置及其方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置，包含腔体和衬套，所述衬套上方设有介电窗，所述腔体、衬套和介电窗围绕形成反应腔；所述反应腔内底部包括用于放置晶圆的基座，基座下方包括用于抽出反应腔内气体维持反应腔内低压的抽真空装置；所述衬套一侧的侧壁设有开口，用于容纳晶圆进出，所述衬套外设有一遮挡板，用于对所述开口进行密封；所述腔体内还设置与遮挡板连接的导向机构，通过所述导向机构实现遮挡板进行竖直运动和水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口。本发明还提供一种防止反应气体泄露的方法。

Description

一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置及其方法

技术领域

本发明涉及蚀刻设备的耐腐蚀防护技术领域，特别涉及一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置及其方法。

背景技术

如图1所示是一个简化的刻蚀(ETCH)系统示意图，由传输腔102、真空阀103(slitvalve)和等离子处理装置101组成。其中，等离子处理装置1包含介电窗111(insulationwindow)、衬套112(liner)、腔体113(chamber body)、抽真空装置115。其中，所述腔体113、衬套112、介电窗111围绕形成等离子体处理装置1的反应腔。

现有技术中，传输腔102(Transmission Machine，简称TM)与反应腔相互传片的过程中，由于两个腔体内的气压的不平衡，会出现腔体间的气体流动，悬浮在各腔体中的颗粒(particle)会随着气体流向另一个腔体，造成腔体的颗粒污染问题。假设气体是从传输腔102流向等离子处理装置101，则传输腔102的腔体内的悬浮颗粒会随着气体流向等离子处理装置101，对等离子体处理装置101内的晶圆造成污染。

目前解决上述问题的办法是，在腔体内设置一个遮挡在腔体侧壁上的开口和衬套侧壁上的开口之间的遮挡板116，其阻挡由传输腔102流向所述反应腔的气体中的污染颗粒。如图1A所示，所述遮挡板116底部固定连接有支撑杆124，所述支撑杆124由反应腔外部的驱动装置(如气缸)驱动进行上下运动，从而实现遮挡板116竖直的上下运动。遮挡板116为打开状态时，晶圆可以在反应腔与传输腔102之间传输。遮挡板116为关闭状态时，遮挡板116遮挡在衬套侧壁开口。

进一步，还可以通过控制遮挡板116(slit door shutter)开关的时间顺序，和传输腔102与反应腔的压差来减小颗粒污染的程度。例如，在晶圆刻蚀完毕后，通过抽真空装置115将反应腔内的等离子体气体抽走，接着使当前放置晶圆的反应腔内气压高于传输腔102内气压，在打开真空阀103之前，遮挡板116伸出处于关闭状态遮挡在衬套侧壁开口；打开真空阀103，反应腔内气体中的污染颗粒落在遮挡板116上；经过预设的一个时间再打开遮挡板116，此时遮挡板116缩回处于打开状态，遮挡板116不再遮挡衬套侧壁开口，最后将晶圆从反应腔送入传输腔。再例如，将晶圆从传输腔102送入反应腔时，使传输腔内气压高于反应腔内气压；在打开真空阀之前，遮挡板116处于伸出状态遮挡在衬套侧壁开口；打开真空阀103，传输腔102内气体中的污染颗粒落在遮挡板116上；经过预设的一个时间再打开遮挡板116，此时遮挡板116缩回，将晶圆从传输腔2送入反应腔。

然而为了防止遮挡板116与衬套112的侧壁产生硬接触，避免遮挡板116在运动过程中与衬套侧壁产生摩擦，现有技术中遮挡板116与衬套侧壁之间设有一个4mm～5mm的间隙。在晶圆刻蚀的过程中，解离后的等离子体气体会通过该间隙进入遮挡板与腔体侧壁开口之间的区域，腐蚀遮挡板16内的零件。由于遮挡板16在气缸的驱动下只能进行竖直的上下运动，该间隙无法被遮挡板16封堵。

发明内容

本发明的目的是提供一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置及方法。通过在腔体内设置一个与遮挡板连接的导向机构，通过所述导向机构驱动遮挡板进行竖直运动和水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口，防止反应腔内的反应气体泄露。

为了达到上述目的，本发明提供一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置，包含腔体和衬套，所述衬套上方设有介电窗，所述腔体、衬套和介电窗围绕形成反应腔；

所述反应腔内底部包括用于放置晶圆的基座，基座下方包括用于抽出反应腔内气体维持反应腔内低压的抽真空装置；

所述衬套一侧的侧壁设有开口，用于容纳晶圆进出，所述衬套外设有一遮挡板，用于对所述开口进行密封；

所述腔体内还设置与遮挡板连接的导向机构，通过所述导向机构实现遮挡板进行竖直运动和水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口。

所述导向机构包含：

遮挡块，设置在所述遮挡板与所述腔体之间；所述遮挡块相对遮挡板的一侧设有轨道；

驱动装置，用于实现所述遮挡块在竖直方向位移；

平动机构，一端作用于所述遮挡板，另一端设有一凸轮，所述凸轮沿所述轨道滚动，实现所述遮挡板在水平方向的位移。

所述导向机构还包含缓冲块；所述缓冲块设置在遮挡块上方弹性连接所述遮挡块，且与遮挡块无水平方向的相对位移；所述缓冲块、遮挡块、遮挡板在所述驱动装置的驱动下沿竖直方向移动；所述腔体上设置一腔体限位，所述缓冲块向上移动一定距离后与所述腔体限位抵靠，此时所述遮挡板与所述衬套侧壁上的开口高度相匹配；当缓冲块与腔体限位抵靠时，通过遮挡块在竖直方向的运动实现凸轮沿所述轨道滚动。

所述遮挡块的轨道包括一曲面，所述平动机构的凸轮在所述曲面上滚动；从下至上的，所述曲面与衬套侧壁之间的水平距离渐增。

优选的，所述平动机构还包含第一连接件，所述第一连接件包含横向段和纵向段；所述纵向段垂直于水平面且设置在所述遮挡板和所述轨道之间；所述横向段固定连接缓冲块顶部并与腔体无干涉。

优选的，所述缓冲块的顶面设有与所述横向段匹配的第一凹槽；横向段固定的嵌入设置在第一凹槽内，与腔体无接触。

优选的，所述平动机构还包含：第三弹簧、水平设置的第二导向杆；

第二导向杆第一端端部设有一个台阶，所述台阶位于第一连接件的纵向段与遮挡块之间，且与遮挡块无干涉；第二导向杆第二端依序垂直穿设第一连接件的纵向段、遮挡板；第二导向杆第二端固定连接遮挡板，不自遮挡板伸出；第二导向杆第二端滑动连接第一连接件纵向段；

所述第三弹簧套设在第二导向杆的第一端，弹性连接设置在第一连接件纵向段和所述台阶之间；通过第三弹簧的被压缩时的弹性恢复力，实现第二导向杆带动遮挡板背向衬套侧壁开口方向水平运动。

优选的，所述平动机构还包含：水平设置的凸轮连杆；

凸轮连杆第一端设置在第一连接件的纵向段与所述轨道之间，且与轨道无干涉；凸轮设置在凸轮连杆第一端端部；凸轮连杆第二端垂直的穿设第一连接件的纵向段，滑动连接第一连接件，并能自第一连接件伸出抵接遮挡板，推动遮挡板朝向衬套开口的方向水平运动。

所述平动机构还包含第二连接件，固定设置在凸轮连杆第一端端部，并与遮挡块无干涉；凸轮的轮轴固定连接第二连接件。

优选的，所述平动机构还包含：凸轮弹簧，弹性连接设置在第一连接件的纵向段和所述第二连接件之间，用于使凸轮沿着轨道的曲面滚动。

优选的，缓冲块的顶部还设置有橡胶片，用于在腔体限位缓冲块时进行减震。

所述驱动装置包含：支撑杆和驱动装置；所述驱动装置设置在腔体外部；所述支撑杆的上端固定连接遮挡块底部，支撑杆的下端自腔体下方伸出连接所述驱动装置；通过所述驱动装置驱动支撑杆竖直上下运动。

优选的，所述驱动装置为电机或气缸。

本发明还揭示了一种防止反应气体泄露的方法，采用本发明所述的等离子体处理装置实现的，包含步骤：

S1、驱动支撑杆带动遮挡块、遮挡板、缓冲块一体化的竖直上行；

S2、当遮挡块上升至第一位置，缓冲块顶部抵靠腔体限位，缓冲块、第一连接件固定不动，遮挡板不发生竖直方向的运动并保持在与衬套侧壁上的开口匹配的高度；

S3、继续驱动支撑杆带动遮挡块竖直上行，凸轮距地高度不变，通过遮挡块竖直上行，使凸轮在轨道的曲面向下滚动，轨道与第一连接件纵向段之间的水平距离渐缩；轨道推动凸轮、凸轮连杆朝向衬套侧壁开口的方向水平运动；

S4、凸轮连杆第二端自第一连接件伸出，推动遮挡板朝向衬套侧壁开口的方向水平运动；

S5、遮挡块上升至第二位置，遮挡板贴合衬套外侧壁，停止驱动支撑杆竖直上行。

所述的防止反应气体泄露的方法，还包含步骤：

S6、驱动支撑杆带动遮挡块从第二位置竖直下行，缓冲块顶部抵靠腔体限位，轨道的曲面与第一连接件纵向段之间水平距离渐增；凸轮在轨道的曲面向上滚动；

S7、第三弹簧恢复弹性形变，通过第三弹簧的弹性恢复力，推动第二导向杆带动遮挡板背向衬套侧壁开口的方向运动；

S8、遮挡块下行至第一位置，凸轮弹簧与第三弹簧无弹性形变；遮挡板停止水平运动；

S9、支撑杆带动遮挡块、遮挡板一体化从第一位置竖直下行，直至遮挡板不遮挡衬套侧壁开口，停止驱动支撑杆。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：本发明通过在腔体内设置一个与遮挡板连接的导向机构，通过所述导向机构驱动遮挡板竖直上行至衬套侧壁开口位置后，并通过所述导向机构继续驱动遮挡板朝向衬套侧壁开口水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口，防止反应腔内的反应气体泄露。本发明的防止反应气体泄露的等离子体处理装置体积小，结构简单，能有效阻止反应腔内的反应气体泄露。

附图说明

为了更清楚地说明本发明技术方案，下面将对描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一个实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图：

图1A为现有技术的ETCH简化系统示意图；

图1B为本发明的防止反应气体泄露的等离子体处理装置示意图；

图2A为本发明的实施例一中导向机构驱动遮挡板沿竖直方向运动示意图；

图2B为本发明的实施例一中缓冲块被腔体限位示意图；

图2C为本发明的实施例一中导向机构驱动遮挡板沿水平方向运动示意图；

图3A为本发明的实施例一中轨道的示意图；

图3B的本发明的实施例二中轨道的示意图；

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1B所示，本发明提供一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置201，包含腔体213和衬套212，所述衬套上方设有介电窗211，所述腔体213、衬套212和介电窗211围绕形成反应腔；

所述反应腔内底部包括用于放置晶圆的基座204，基座下方包括用于抽出反应腔内气体维持反应腔内低压的抽真空装置215；

所述衬套和反应腔体的一侧侧壁设有开口，用于容纳晶圆进出，所述衬套212外设有一遮挡板216，用于对所述衬套上的开口进行密封；所述反应腔体的侧壁外也设有遮挡板，用于遮挡所述反应腔体侧壁上的开口(图中未示出)。所述遮挡板216朝向衬套侧壁一侧的型面匹配衬套外侧壁的型面；

所述腔体213内还设置与遮挡板216连接的导向机构，通过所述导向机构实现遮挡板216进行竖直运动和水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口。

所述导向机构包含：遮挡块221、缓冲块223、驱动装置和平动机构。

所述遮挡块221，设置在所述遮挡板216与所述腔体之间；所述遮挡块221相对遮挡板216的一侧设有轨道；所述遮挡块的轨道包括一曲面217，从下至上的，所述曲面与衬套侧壁之间的水平距离渐增。在本发明的实施例一中，如图3A所示，所述轨道可以是凹槽，凹槽的开口朝向遮挡板216，凹槽相对于遮挡板216的一个面即为所述曲面217。在本发明的实施例二中，如图3B所示，所述轨道设置在遮挡块321相对于遮挡板的一侧，为遮挡块321向遮挡板方向延伸形成的若干个条状突起。所述突起相对于遮挡板的一个面即为所述曲面317。

所述缓冲块223设置在遮挡块221上方弹性连接所述遮挡块221，且与遮挡块221无水平方向的相对位移。所述缓冲块223还连接遮挡板216。如图2A至图2C所示，在本发明的实施例一中，所述遮挡块221和缓冲块223之间设置有第一导向杆290和第一弹簧291。第一导向杆下端固定连接遮挡块顶部。第一导向杆上端嵌入设置在缓冲块223内与缓冲块223滑动连接，且第一导向杆上端不自缓冲块顶部伸出。所述第一弹簧291套设在第一导向杆290外周,并弹性连接设置在所述遮挡块221和缓冲块223之间。通过所述第一弹簧291支承所述缓冲块223，并通过所述第一导向杆290对缓冲块223导向，实现缓冲块223与遮挡块221之间无水平方向的相对位移。

所述缓冲块223、遮挡块221、遮挡板216在所述驱动装置的驱动下沿竖直方向移动；所述腔体上设置一腔体限位，所述缓冲块223向上移动一定距离后与所述腔体限位抵靠，优选的，如图2A所示，缓冲块的顶部还设置有橡胶片224，用于在所述缓冲块223抵靠所述腔体限位时进行减震。当缓冲块223抵靠所述腔体限位时,所述遮挡板216与所述衬套侧壁上的开口高度相匹配。

所述驱动装置，用于实现所述遮挡块221在竖直方向位移，包含：支撑杆224和驱动装置(图中未示出)。所述驱动装置设置在腔体外部；所述支撑杆224的上端固定连接遮挡块221的底部，支撑杆224的下端自腔体下方伸出连接所述驱动装置；通过所述驱动装置驱动支撑杆224竖直上下运动。优选的，所述驱动装置为电机或气缸。

所述平动机构包含凸轮250、第一连接件230、第三弹簧282、水平设置的第二导向杆281、水平设置的凸轮连杆251。

如图2A至图2C所示，所述第一连接件230用于固定缓冲块223和一凸轮连杆251保持一体升降，为安装方便，一种可选的方式中，第一连接件包含横向段和纵向段。所述纵向段垂直于水平面且设置在所述遮挡板216和所述轨道之间；所述横向段固定连接缓冲块顶部并与腔体无干涉。在本发明的实施例一中，所述缓冲块223的顶面设有与所述横向段匹配的第一凹槽；横向段固定的嵌入设置在所述第一凹槽内，与腔体无干涉。优选的，在本发明的实施例中，所述横向段与所述纵向段互相垂直，第一连接件230形成L形结构。

如图2A至图2C所示，凸轮连杆251的第一端设置在第一连接件230的纵向段与所述轨道之间，且与轨道无干涉；凸轮250设置在凸轮连杆第一端端部。如图2B、2C所示，当缓冲块223与腔体限位抵靠时，通过遮挡块221在竖直方向的运动实现凸轮250沿轨道的曲面217滚动。凸轮连杆251的第二端垂直穿设第一连接件230的纵向段，滑动连接第一连接件230，并能自第一连接件230伸出抵接遮挡板216，推动遮挡板216朝向衬套开口的方向水平运动。且凸轮连杆251不自第一连接件230的纵向段脱出。

优选的，如图2A所示，所述平动机构还包含第二连接件和凸轮弹簧。所述第二连接件260固定设置在凸轮连杆第一端端部，并与遮挡块221无干涉；凸轮250的轮轴固定连接第二连接件260。所述凸轮弹簧252弹性连接设置在第一连接件230的纵向段和所述第二连接件260之间，用于使凸轮250沿着轨道的曲面217滚动。通过第二连接件260连接凸轮250与凸轮连杆251，并对凸轮250的运动进行导向。

如图2A至图2C所示，所述第二导向杆281的第一端端部设有一个台阶280，所述台阶280位于第一连接件230的纵向段与遮挡块221之间，且与遮挡块221无干涉。第二导向杆281的第二端依序垂直穿设第一连接件230的纵向段、遮挡板216。第二导向杆第二端固定连接遮挡板216，不自遮挡板216伸出。第二导向杆第二端滑动连接第一连接件纵向段。在本发明的实施例一中，优选的，第二导向杆第二端螺纹连接遮挡板216。

所述第三弹簧282套设在第二导向杆281的第一端，弹性连接设置在第一连接件230的纵向段和所述台阶280之间；通过第三弹簧282被压缩时的弹性恢复力，实现第二导向杆281带动遮挡板216背向衬套侧壁开口方向水平运动。

如图2A至图2C所示，在本发明的实施例一中，当遮挡块221竖直上行至第一位置，缓冲块223被腔体213限位，此后，缓冲块223不再产生任何运动。由于第一连接件230的横向段固定连接缓冲块223，因此第一连接件230也不产生任何运动。当遮挡块221进一步上行，遮挡块221与缓冲块223之间的第一弹簧被压缩。凸轮250在竖直方向保持距地高度不变，但由于遮挡块221上行，使凸轮250在所述曲面217向下滚动，曲面217与第一连接件230之间的水平距离渐缩。曲面217推动凸轮250朝向衬套侧壁开口的方向运动，凸轮连杆第一端自第一连接件230伸出，抵接遮挡板216并推动遮挡板216朝向衬套侧壁开口的方向水平运动。此时凸轮弹簧252被压缩。由于第二导向杆281固定连接遮挡板216，第二导向杆281在遮挡板216的带动下也朝向衬套侧壁开口的方向运动，使得第三弹簧282被压缩。当遮挡块221上升至第二位置时，遮挡板216完全封堵衬套侧壁的开口。

当遮挡块221从第二位置下行至第一位置时，曲面217与第一连接件230之间的水平距离渐增。凸轮弹簧252逐渐恢复弹性形变，其弹性恢复力分别施加在其两端的第一连接件230的纵向段和第二连接件260之间。由于第一连接件230不产生任何运动，凸轮弹簧252推动凸轮连杆251背向衬套侧壁的方向水平运动，凸轮250始终抵接所述曲面217。凸轮250在竖直方向距地高度不变，由于遮挡快下行，使得凸轮250在曲面217向上滚动。第三弹簧282逐渐恢复弹性形变。第三弹簧282的两端分别作用于第一连接件230的纵向段和所述台阶280。由于第一连接件230不产生任何运动，第三弹簧282的弹性恢复力作用在所述台阶250上，推动第二导向杆281带动遮挡板216背向衬套侧壁开口的方向水平运动。

当遮挡块221从第一位置继续下行时，缓冲块223不再抵接腔体限位，凸轮250不产生水平方向的运动。支撑杆224带动遮挡块221、缓冲块223、遮挡板216一体化竖直下行，遮挡板216不再遮挡衬套侧壁上的开口。

本发明还揭示了一种防止反应气体泄露的方法，采用本发明所述的等离子体处理装置实现的，包含步骤：

S1、驱动支撑杆224带动遮挡块221、遮挡板216、缓冲块223一体化的竖直上行；

S2、当遮挡块221上升至第一位置，缓冲块顶部抵靠腔体限位，缓冲块223、第一连接件230固定不动，遮挡板216不发生竖直方向的运动并保持在与衬套侧壁上的开口匹配的高度；

S3、继续驱动支撑杆224带动遮挡块221竖直上行，凸轮250距地高度不变，通过遮挡块竖直上行，使凸轮250在轨道的曲面217向下滚动，曲面217与第一连接件纵向段之间的水平距离渐缩；曲面217推动凸轮250、凸轮连杆251朝向衬套侧壁开口的方向水平运动；

S4、凸轮连杆251的第二端自第一连接件230伸出，推动遮挡板216朝向衬套侧壁开口的方向水平运动；

S5、遮挡块221上升至第二位置，遮挡板216贴合衬套外侧壁，停止驱动支撑杆224竖直上行。

所述的防止反应气体泄露的方法，还包含步骤：

S6、驱动支撑杆224带动遮挡块221从第二位置竖直下行，缓冲块顶部抵靠腔体限位，轨道的曲面217与第一连接件230的纵向段之间水平距离渐增；凸轮250在轨道的曲面217向上滚动；

S7、第三弹簧282恢复弹性形变，通过第三弹簧282的弹性恢复力，推动第二导向杆281带动遮挡板216背向衬套侧壁开口的方向运动；

S8、遮挡块221下行至第一位置，遮挡板216停止水平运动；

S9、支撑杆224带动遮挡块221、遮挡板216一体化从第一位置竖直下行，直至遮挡板216不遮挡衬套侧壁开口，停止驱动支撑杆224。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：本发明通过在腔体213内设置一个与遮挡板216连接的导向机构，通过所述导向机构的驱动装置驱动遮挡板216竖直上行至衬套侧壁开口位置后，并通过所述导向机构的平动机构继续驱动遮挡板216朝向衬套侧壁开口水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口，防止反应腔内的反应气体泄露。本发明的防止反应气体泄露的等离子体处理装置201体积小，结构简单，能有效阻止反应腔内的反应气体泄露。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，包含腔体和衬套，所述衬套上方设有介电窗，所述腔体、衬套和介电窗围绕形成反应腔；

所述反应腔内底部包括用于放置晶圆的基座，基座下方包括用于抽出反应腔内气体维持反应腔内低压的抽真空装置；

所述衬套一侧的侧壁设有开口，用于容纳晶圆进出，所述衬套外设有一遮挡板，用于对所述开口进行密封；

所述腔体内还设置与遮挡板连接的导向机构，通过所述导向机构实现遮挡板进行竖直运动和水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口；

所述导向机构包含：

遮挡块，设置在所述遮挡板与所述腔体之间；所述遮挡块相对所述遮挡板的一侧设有轨道；

平动机构，一端作用于所述遮挡板，另一端设有一凸轮，所述凸轮沿所述轨道滚动，推动所述遮挡板在水平方向的位移；

缓冲块，设置在所述遮挡块的上方并弹性连接所述遮挡块；

驱动装置，所述缓冲块、遮挡块、遮挡板在所述驱动装置的驱动下沿竖直方向移动；当所述缓冲块向上移动一定距离后与所述腔体上设置的腔体限位抵靠时，通过所述遮挡块在竖直方向的运动实现所述凸轮沿所述轨道滚动。

2.如权利要求1所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述缓冲块与遮挡块无水平方向的相对位移；所述缓冲块所述腔体限位抵靠时，所述遮挡板与所述衬套侧壁上的开口高度相匹配。

3.如权利要求1所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述遮挡块的轨道包括一曲面，所述平动机构的凸轮在所述曲面上滚动；从下至上的，所述曲面与衬套侧壁之间的水平距离渐增。

4.如权利要求2所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含第一连接件，所述第一连接件包含横向段和纵向段；所述纵向段垂直于水平面且设置在所述遮挡板和所述轨道之间；所述横向段固定连接缓冲块顶部并与腔体无干涉。

5.如权利要求4所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述缓冲块的顶面设有与所述横向段匹配的第一凹槽；横向段固定的嵌入设置在第一凹槽内，与腔体无接触。

6.如权利要求4所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含：第三弹簧、水平设置的第二导向杆；

第二导向杆第一端端部设有一个台阶，所述台阶位于第一连接件的纵向段与遮挡块之间，且与遮挡块无干涉；第二导向杆第二端依序垂直穿设第一连接件的纵向段、遮挡板；第二导向杆第二端固定连接遮挡板，不自遮挡板伸出；第二导向杆第二端滑动连接第一连接件纵向段；

所述第三弹簧套设在第二导向杆的第一端，弹性连接设置在第一连接件纵向段和所述台阶之间；通过第三弹簧的被压缩时的弹性恢复力，实现第二导向杆带动遮挡板背向衬套侧壁开口方向水平运动。

7.如权利要求6所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含：水平设置的凸轮连杆；

凸轮连杆第一端设置在第一连接件的纵向段与所述轨道之间，且与遮挡块无干涉；凸轮设置在凸轮连杆第一端端部；凸轮连杆第二端垂直的穿设第一连接件的纵向段，滑动连接第一连接件，并能自第一连接件伸出抵接遮挡板，推动遮挡板朝向衬套开口的方向水平运动。

8.如权利要求7所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含第二连接件，固定设置在凸轮连杆第一端端部，并与遮挡块无干涉；凸轮的轮轴固定连接第二连接件。

9.如权利要求8所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含：凸轮弹簧，弹性连接设置在第一连接件的纵向段和所述第二连接件之间，用于使凸轮沿着轨道的曲面滚动。

10.如权利要求1所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，缓冲块的顶部还设置有橡胶片，用于在腔体限位缓冲块时进行减震。

11.如权利要求1所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述驱动装置包含：支撑杆和驱动装置；所述驱动装置设置在腔体外部；所述支撑杆的上端固定连接遮挡块底部，支撑杆的下端自腔体下方伸出连接所述驱动装置；通过所述驱动装置驱动支撑杆竖直上下运动。

12.如权利要求11所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述驱动装置为电机或气缸。

13.一种防止反应气体泄露的方法，采用如权利要求1至12任一所述的等离子体处理装置实现的，其特征在于，包含步骤：

S1、驱动支撑杆带动遮挡块、遮挡板、缓冲块一体化的竖直上行；

S2、当遮挡块上升至第一位置，缓冲块顶部抵靠腔体限位，缓冲块、第一连接件固定不动，遮挡板不发生竖直方向的运动并保持在与衬套侧壁上的开口匹配的高度；

S3、继续驱动支撑杆带动遮挡块竖直上行，凸轮距地高度不变，通过遮挡块竖直上行，使凸轮在轨道的曲面向下滚动，轨道与第一连接件纵向段之间的水平距离渐缩；轨道推动凸轮、凸轮连杆朝向衬套侧壁开口的方向水平运动；

S4、凸轮连杆第二端自第一连接件伸出，推动遮挡板朝向衬套侧壁开口的方向水平运动；

S5、遮挡块上升至第二位置，遮挡板贴合衬套外侧壁，停止驱动支撑杆竖直上行。

14.如权利要求13所述的防止反应气体泄露的方法，其特征在于，还包含步骤：

S6、驱动支撑杆带动遮挡块从第二位置竖直下行，缓冲块顶部保持抵靠腔体限位，轨道的曲面与第一连接件纵向段之间水平距离渐增；凸轮在轨道的曲面向上滚动；

S7、第三弹簧恢复弹性形变，通过第三弹簧的弹性恢复力，推动第二导向杆带动遮挡板背向衬套侧壁开口的方向运动；

S8、遮挡块下行至第一位置，遮挡板停止水平运动；

S9、支撑杆带动遮挡块、遮挡板一体化从第一位置竖直下行，直至遮挡板不遮挡衬套侧壁开口，停止驱动支撑杆。