CN112725727A - 掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法 - Google Patents

掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112725727A
CN112725727A CN202011423740.8A CN202011423740A CN112725727A CN 112725727 A CN112725727 A CN 112725727A CN 202011423740 A CN202011423740 A CN 202011423740A CN 112725727 A CN112725727 A CN 112725727A
Authority
CN
China
Prior art keywords
holes
mask
edge
penetrating
alignment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202011423740.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112725727B (zh
Inventor
黄文科
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan Tianma Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Wuhan Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan Tianma Microelectronics Co Ltd filed Critical Wuhan Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority to CN202011423740.8A priority Critical patent/CN112725727B/zh
Publication of CN112725727A publication Critical patent/CN112725727A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112725727B publication Critical patent/CN112725727B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
    • H10K59/353Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels characterised by the geometrical arrangement of the RGB subpixels
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法,该掩膜板包括:至少一个掩膜条;其中,所述掩膜条包括多个孔,所述多个孔在所述掩膜条上沿第一方向排布且沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向交叉,所述多个孔包括在所述第一方向上位于边缘位置的多个边缘孔,所述多个边缘孔中的至少一个设置为对位孔,所述掩膜条包括识别单元,所述识别单元用于识别所述边缘孔中所设置的所述对位孔。本申请提供的掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法,提高了所制作的掩膜板张网时的张网精度,以提高所制作的显示面板制作精度和良品率。

Description

掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法
技术领域
本发明属于显示器件技术领域,尤其涉及一种掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法。
背景技术
目前,在显示装置的制造过程中,通常采用高精度金属掩膜板(Fine Metal Mask,缩写FMM)作为蒸镀掩膜板,从而将发光材料蒸镀在阵列基板上对应的开口位置,从而制得所需的显示面板。但是,现有中用于蒸镀设备内有机材料蒸发至阵列基板指定位置的掩膜板,在张网过程中,容易发生张网机对位时无法识别掩膜板的准确位置的情况,导致抓取错误,从而导致蒸镀后形成的显示面板的不良,增加了制作成本。
发明内容
本发明的目的在于:通过设计的掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法,提高了所制作的掩膜板张网时的张网精度,以提高所制作的显示面板制作精度和良品率。
第一方面,为解决上述技术问题,本发明实施例提供一种掩膜板,该掩膜板包括至少一个掩膜条;其中,所述掩膜条包括多个孔,所述多个孔在所述掩膜条上沿第一方向排布且沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向交叉,所述多个孔包括在所述第一方向上位于边缘位置的多个边缘孔,所述多个边缘孔中的至少一个设置为对位孔,所述掩膜条包括识别单元,所述识别单元用于识别所述边缘孔中所设置的所述对位孔。
第二方面,本发明实施例还提供一种显示面板,包括衬底,所述衬底包括多个像素,所述多个像素根据上述所描述的掩膜板蒸镀而成。
第三方面,本发明实施例还提供一种掩膜板的制作方法,包括:安装支撑条;在所述支撑条上安装掩膜条,所述掩膜条包括多个孔,所述多个孔在所述掩膜条上沿第一方向排布且沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向交叉,所述多个孔包括在所述第一方向上位于边缘位置的多个边缘孔,所述多个边缘孔中的至少一个设置为对位孔,所述掩膜条包括识别单元,所述识别单元用于识别所述边缘孔中所设置的所述对位孔;以及通过所述对位孔校正所述掩膜条的位置。
采用本发明实施例的技术方案,通过在掩膜条上设置的多个边缘孔的相应位置处设置识别单元,以通过识别单元的布置位置,以识别到边缘孔中所预先设计的对位孔的形式,一方面,利用原有开设的孔作为对位孔的形式,避免额外在掩膜条四周蚀刻孔作为对位孔时,在张网过程对位孔容易被遮挡部分或全部,容易产生张网对位时精度较差而影响像素精度的问题,将用于蒸镀像素的孔作为对位孔能够避免被遮挡,以提高对位精度;另一方面,通过识别单元的设置以便于张网机在位于边缘孔的相应行中,能够通过识别单元方便快速的识别抓取到对位孔,以便于张网机的识别抓取,提高对位的效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种掩膜条主视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图2是本发明实施例提供的另一种掩膜条主视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图3是本发明实施例提供的又一种掩膜条主视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图4是图3中提供的具有另一种非穿透单元的掩膜条主视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图5是本发明实施例提供的一种掩膜板的后视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图6是图5中A部分的局部放大图;
图7是本发明实施例提供的另一种掩膜板的后视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图8是本发明实施例提供的又一种掩膜板的后视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图9是图8中提供的具有另一种掩膜条的掩膜板后视图,其中,箭头 W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图10是本发明实施例提供的显示面板主视图,其中,箭头W所指方向为第一方向,箭头L所指方向为第二方向;
图11是本发明实施例提供的蒸镀像素时的简单结构示意图。
附图中:
1-掩膜条;11-孔;111-边缘孔;12-对位孔;13-非穿透单元;131-非穿透孔;15-孔阵列模块;16-辅助对位孔;2-支撑条;21-本体部;22-凸起部;3-衬底;31-显示区;32-非显示区;33-像素;331-边缘像素;4-蒸镀台;41-蒸镀口。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中,提出了许多具体细节,以便提供对本发明的全面理解。但是,对于本领域技术人员来说很明显的是,本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
为了更好地理解本发明,下面结合图1至图11对本发明实施例的掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法进行详细描述。
请参阅图1,本发明实施例提供了一种掩膜板,该掩膜板用于蒸镀设备中,以通过掩膜板将蒸镀设备内的有机材料蒸发至玻璃基板的指定开口位置,形成相应的像素33,以制得所需的显示面板。对于所设置的掩膜板,在使用时需要通过设置的张网机进行张网,在张网过程中,为了能够满足不同尺寸的蒸镀需求,且能够便于掩膜板的制作,掩膜板包括至少一个掩膜条1,掩膜条1包括多个孔11,多个孔11在掩膜条1上沿第一方向W 排布且沿第二方向L延伸,第一方向W与第二方向L交叉,其中,设置于掩膜条1上的多个孔11,根据所需蒸镀的像素33在显示面板的排布的不同,对应掩膜条1上的孔11的排布也会适应性调整,在此不做具体限定。可选的,参照图1,第一方向W与第二方向L垂直,多个孔11在掩膜条1中阵列排布,第一方向W为箭头W所指方向,第二方向L为箭头 L所指方向,且箭头的指向仅为简单的方向示意,并不代表具有正负方向之分,以下以第一方向W和第二方向L垂直时多个孔11阵列排布的掩膜条1为例做具体说明。
在阵列排布于掩膜条1的多个孔11中,多个孔11包括在第一方向W 上位于边缘位置的多个边缘孔111,即在第一方向W上掩膜条1相对的两侧中,掩膜条1具有位于相对两侧的边缘,且在第一方向W上靠近边缘的位置为掩膜板在第一方向W上的边缘位置,在该边缘位置设置的多个孔 11即为边缘孔111。为了能够使掩膜条1在张网时能够与位于下方的玻璃基板对齐,使蒸镀的像素33精度较高,提高掩膜条1相对玻璃基板的对位精度。多个边缘孔111中的至少一个设置为对位孔12,掩膜条1包括识别单元,识别单元用于识别边缘孔111中所设置的对位孔12,以通过识别单元的布置位置,识别到边缘孔111中所预先设计的对位孔12的形式,一方面,利用原有开设的孔11作为对位孔12的形式,避免额外在掩膜条 1四周蚀刻孔11作为对位孔12时,在张网过程对位孔12容易被遮挡部分或全部,容易产生张网对位时精度较差而影响像素33精度的问题,将用于蒸镀像素33的孔11作为对位孔12能够避免被遮挡,以提高对位精度;另一方面,通过识别单元的设置以便于张网机在位于边缘孔111的相应行中,能够通过识别单元方便快速的识别抓取到对位孔12,以便于张网机的识别抓取,提高对位的效率。
可选的,对于设置于掩膜条1的识别单元,其目的在于能够通过识别单元在掩膜条1的设置,能够方便快速的识别到对位孔12,以提高张网时张网速率和张网精度。而对于识别单元具体通过何种方式在掩膜条1上快速的识别到对位孔12以便于抓取,可以采用多种形式,如可以将识别单元设置为在对应对位孔12的周围设置的能够便于张网机识别的电子器件,也可以设置为在对应对位孔12的周围设置的区别于对位孔12特征的结构,以便于通过具有不同特征的识别单元快速抓取到对位孔12的特征,在此不做具体限定。
在一种具体的实施方式中,参照图1,识别单元为非穿透单元13,非穿透单元13至少位于多个边缘孔111在第二方向L的一侧,多个边缘孔 111中,与非穿透单元13相邻的边缘孔111设置为对位孔12。通过在多个边缘孔111沿第二方向L上布置相应的非穿透单元13,选取边缘孔111中与非穿透单元13相邻的边缘孔111作为对位孔12的形式,以便于张网机在位于边缘孔111的相应行中,识别抓取第一个透光的孔就是对位孔12,以便于张网机的识别抓取,提高对位的效率。
继续参照图1,对位孔12可以仅设置于掩膜条1的四角处,即非穿透单元13位于多个边缘孔111在第二方向L的最外两侧,从而在掩膜条1 上显示的对位孔12为设置于四角处的形式,在张网机张网过程中,利用较少的对位孔12即可快速的抓取到,在保证对位精度的同时,提高对位的效率。
可选的,参照图2,为了能够保证更好的对位精度,对位孔12也可以在设置于上述四角位置的基础上,设置于多个边缘孔111之间,以将边缘孔111在第二方向L上间隔开。即非穿透单元13位于在第二方向L的任一相邻边缘孔111之间,以使多个边缘孔111为一组,非穿透单元13与多组边缘孔111在第二方向L上交错排布,以使对位孔12不仅设置于掩膜条1靠近四角的位置,在向靠近掩膜条1沿第二方向L的中心也间隔的布置有对位孔12,从而使其在张网机张网时,能够通过多个对位孔12的抓取来确认对齐精度,避免在张网过程中出现没有抓取到其中的某一个或多个对位孔12时而影响对位精度的情况,保证对位精度。
参照图3,在将多个掩膜条1通过张网机张网后向玻璃基板上蒸镀像素33时,该玻璃基板为较大的玻璃板,在完成图案化金属线、蒸镀像素 33等一系列操作后,再通过切割设备将整块的玻璃基板切割成显示面板所需的尺寸。根据所需制作的显示面板不同,掩膜条1上的孔11的排布也会有所不同,且掩膜条1沿长度方向的多个孔11被划分为多个孔阵列模块15,以对应本切割后的显示面板的尺寸,即多个孔阵列模块15沿第二方向L布置。而为了能够使对应尺寸的显示面板上形成所需的像素33,保证蒸镀在每个显示面板的像素33都有较高的精度,在任一孔阵列模块15 中,多个边缘孔111在第二方向L的两侧设置非穿透单元13,且边缘孔 111中与非穿透单元13相邻的边缘孔111设置为对位孔12。通过以每个孔阵列模块15为基准,对应设置相应的非穿透单元13,使非穿透单元13在每个孔阵列模块15中均沿第二方向L位于边缘孔111的两外侧,以保证在掩膜条1与玻璃基板对位时,每个待分隔的显示面板都能通过对位孔12 保证其高精度的对位,提高切割后的显示面板的良品率。
参照图3至图4所示,无论采用上述中的何种方式设置对位孔12和非穿透单元13,对于所设置的非穿透单元13,为了能够通过非穿透单元13 的设置定位对位孔12的位置,只要抓取位于边缘孔111对应行中与非穿透单元13相邻的第一个透光孔即可方便快速的实现对位,对于非穿透单元13可以为如图3中不做任何处理的平板结构,即非穿透单元13的位置为掩膜条1本体的部分,也可以为如图4中在非穿透单元13对应位置设置至少一个沿第二方向L布置的非穿透孔131,或者为在非穿透单元13对应位置设置至少一个沿第二方向L布置的凸起等结构,以便于在张网过程中,通过非穿透孔131进行初步识别,快速识别抓取到对位孔12,在此不做具体限定。
另外,由于掩膜条1上的边缘孔111以及对位孔12均位于边缘位置,在张网过程中,位于掩膜条1四角处的边缘位置中的边缘孔111、对位孔 12容易受拉扯而变形,进而影响其上所设置的对位孔12的形状,导致对位精度降低。因此,在非穿透单元13设置多个非穿透孔131,该非穿透孔 131至少位于掩膜条1四角处的边缘位置,以在掩膜条1受到拉扯力时,通过非穿透孔131的变形来缓冲拉扯力,且非穿透的设计不仅能够快速定位至对位孔12,而且能够承受更多的拉扯力,避免力传递至对位孔12的位置而导致对位孔12变形,从而保证了对位精度。
可选的,设置于掩膜板的多个孔11通过全蚀刻成形,使蚀刻而成的孔11的精度较高,便于蒸镀而成的像素33尺寸的精度,而将非穿透单元 13设置为非穿透孔131时,为了便于加工,提高加工效率、降低成本,所设置的非穿透孔131设置为半蚀刻成形的盲孔,盲孔与孔11的尺寸相同,以节约蚀刻步骤。而盲孔在掩膜条1上的深度、盲孔内底部具体的凹陷形状在此不做具体限定。
另外,对于在掩膜条1上全蚀刻形成的孔11,孔11的形状可以为圆形、矩形、菱形、椭圆形或其他形状,需要根据显示面板中所需的像素33 形状做适应性调整,在此不做具体限定。
作为本申请的一种具体实施方式,参照图5,在通过张网机张网以通过掩膜板向玻璃基板蒸镀像素33时,为了保证张网的掩膜板的稳定性,掩膜板还包括至少一个支撑条2,多个掩膜条1沿第一方向W布置,多个支撑条2沿第二方向L布置,用于支撑多个掩膜条1,且每个掩膜条1中沿第二方向L相邻的支撑条2之间对应为一个显示面板的尺寸,在该范围内的孔11用于蒸镀于一个显示面板中,以保证显示面板不会缺失像素33。
而在通过支撑条2对掩膜条1进行支撑的结构配合中,支撑条2和掩膜条1之间在配合出现误差时,容易导致掩膜条1的部分将掩膜条1中的对位孔12产生局部遮挡或对整个对位孔12遮挡,而影响张网时的对位精度。为了避免产生此种问题,参照图5、图7和图8所示,图5为对位孔12仅设置于掩膜条1靠近四角位置时与支撑条2配合的后视图,图中支撑条2位于掩膜条1上方;图7为对位孔12为多个且边缘孔111与非穿透单元13在第二方向L上交替布置时的支撑条2与掩膜条1配合的后视图,图中支撑条2位于掩膜条1上方;图8为掩膜条1分为多个孔阵列模块15 时,在每个孔阵列模块15中非穿透单元13设置于边缘孔111在第二方向 L的两侧时的与支撑条2配合的后视图,图中支撑条2位于掩膜条1上方。将支撑条2设置于掩膜条1中对应非穿透单元13的位置,以使多个支撑条 2在多个掩膜条1方向的正投影中,支撑条2与非穿透单元13彼此不相交叠或者部分交叠,通过使对位孔12与支撑条2通过设置的非穿透单元13 而产生一定的距离的设置,在支撑条2实现支撑的同时,以避免支撑条2 在与掩膜条1配合时,由于配合精度产生的误差而造成支撑条2遮挡对位孔12的风险。
可选的,参照图5和图6,在将支撑条2设置于掩膜条1在第二方向 L的两端部位置,在掩膜条1靠近四角位置所设置的非穿透单元13,支撑条2可以与非穿透单元13有部分的交叠,也可以完全无交叠。而在支撑条2沿第二方向L相对掩膜条1设置为两个以上时,参照图7和图8,支撑条2会与非穿透单元13部分交叠,实现了对掩膜条1的支撑的同时,使位置非穿透单元13的支撑条2不会对对位孔12产生遮挡的风险。
具体的,参照图6和图10,在显示面板中,其显示区31的四角处一般通过倒圆角光滑过渡,而其上的像素33基于该显示区31和非显示区32 布局形式来对应设计,以避免像素33处于显示区31和非显示区32的搭接处。为了配合对应形状的显示面板,以避免像素33位于切割后的显示面板中显示区31和非显示区32的搭接位置,对于设置的支撑条2中,至少在第二方向L位于最外侧的支撑条2包括本体部21和凸起部22,本体部 21沿第一方向W延伸且布置多个凸起部22,凸起部22连接于本体部21 沿第二方向L的至少一侧,凸起部22沿第一方向W的两侧设置为弧形角,且弧形角沿第一方向W朝向非穿透单元13。
其中,凸起部22在第二方向L上具有第一长度,即凸起部22沿第二方向L远离所述本体部21的一侧到与本体部21连接位置的距离为第一长度,使第一长度大于非穿透单元13到本体部21的最小距离,以保证在掩膜条1与支撑条2配合时,即使两者配合时在第一方向W上产生配合误差,会造成凸起部22局部遮挡到非穿透单元13,但并不会遮挡到位于非穿透单元13一侧的对位孔12,从而不会影响张网时对位孔12的对位精度。
另外,为了进一步避免产生对位孔12被遮挡的风险,沿第二方向L,对位孔12的中心到凸起部22的最小距离大于1.5mm。以使掩膜条1与支撑配合时,在第一方向W和第二方向L均留有允许产生配合误差的预留距离。根据显示面板的尺寸的不同,所预留的距离也会有所不同,只要保证不小于其最小距离即可,在此不做具体限定。可选的,对位孔的中心到凸起部22的最小距离在1.5mm-2mm之间,为本申请的一种优选实施方式。
在一种具体实施例中,参照图9,掩膜条1还包括辅助对位孔16,位于掩膜条1的四角处,掩膜条1沿第二方向L的两侧设有伸出边缘,辅助对位孔16设置于伸出边缘,且形成在掩膜条1的四角处。在将掩膜条1与支撑条2配合时,掩膜条1的伸出边缘部分搭接于支撑条2上,且至少部分伸出于支撑条2外,以露出辅助对位孔16,以通过辅助对位孔16进一步保证张网时的对位精度,并且,将辅助对位孔16设置为盲孔的形式,避免被误识别而作为对位孔12抓取对位。
本申请还提供了一种显示面板,参照图10,该显示面板包括衬底3,衬底3包括显示区31和至少部分绕显示区31布置的非显示区32,衬底3 上形成有多个像素33,该像素33通过上述中的掩膜板蒸镀而成。在该显示面板形成的多个像素33沿第一方向W排布且沿第二方向L延伸,多个像素33包括在第一方向W上位于边缘位置的多个边缘像素331,至少部分边缘像素331位于非显示区32,以便于在非显示区32对应位置形成阴极接触区,图中与边缘像素331在第一方向W相邻行的像素33同样设置于非显示区32,其他像素33位于显示区31。通过使至少边缘像素331设置于非显示区32的形式,而使成形像素33的对位孔12、非穿透单元13 均对应非显示区32的位置,避免在显示区31产生较大的空白部分,以保证显示面板的显示功能。
其中,沿第二方向L,多个边缘像素331中位于最外侧的边缘像素331到衬底3边缘的距离为第一距离L2,在第一方向W上与多个边缘像素331相邻的多个像素33中,沿第二方向L位于最外侧的像素33到衬底 3边缘的距离为第二距离L2,第一距离大于第二距离。即边缘像素331中沿第二方向L靠近显示面板边缘位置存在一段空白区域,而该空白区域外沿第二方向L对应位置设有像素33,且该空白区域对应掩膜条1蒸镀时的非穿透单元13。以通过在显示面板对应非显示区32减少的布置蒸镀材料的形式,在对应非显示区32布置阴极接触区时,较少的蒸镀材料有利于减少电阻。可选的,第一距离L2与第二距离L1的差值范围为3mm-6mm。或者,也可以通过像素33占比来适当减少蒸镀材料而在不影响设置阴极接触区、绑定其他器件等的工作的同时,减小电阻,故在第二方向L的单行边缘像素331中,多个边缘像素331具有第一最大长度,在于边缘像素 331相邻行的像素33中,多个像素33具有第二最大长度,该第一最大长度和第二最大长度之差占衬底3沿第二方向L的长度的百分之四至百分之十。
本申请还提供了一种掩膜板的制作方法,参照图9至图11,对其制作方法进行详细描述。以图9中的多个孔11与非穿透单元13的排布形式为例,该制作方法至少包括以下步骤:
S1:安装支撑条2;
S2:在支撑条2上安装掩膜条1;
S3:通过掩膜条1上的对位孔12校正掩膜条1相对支撑条2的位置。
参照图11,在将掩膜板应用于蒸镀像素33时,取蒸镀设备,包括蒸镀台4,蒸镀台4具有蒸镀口41,蒸镀材料通过蒸镀口41导出,将衬底3 设置于蒸镀口41的上方,通过张网机对掩膜板进行张网,使掩膜板位于蒸镀口41和衬底3之间留有的空间的同时,掩膜条1位于朝向衬底3的一侧,支撑条2位于朝向蒸镀口41的一侧。并且,在通过张网机张网时,能够快速的抓取到位于非穿透单元13相邻位置的对位孔12,以将掩膜板与衬底3对齐,以便从蒸镀口41导出的蒸镀材料能能够通过孔11蒸镀到衬底3中对应的开口位置,以保证形成像素33的精度。在蒸镀完成后,经过对衬底3切割等操作后最终能够形成如图10所示的显示面板。
其中,在通过张网机对掩膜板进行张网时,参照图9,先将多个支撑条2沿第二方向L间隔布置以预安装形成框架结构,再将掩膜条1放置于支撑条2上方,掩膜条1中的非穿透单元13与对应的支撑条2部分交叠或无交叠,使每个掩膜条1沿第一方向W位于相邻的两个凸起部22之间,从而使沿第二方向L位于相邻的支撑条2之间且沿第一方向W位于相邻凸起部22之间的多个掩膜条1形成一个个掩膜单元(即对应孔阵列模块 15)。
在将掩膜条1初定位于支撑条2后,调节掩膜条1与支撑条2的相对位置,至对位孔12的中心到凸起的最小距离为预设距离,调节预设距离在1.5mm-2mm之间,以保证支撑条2不会遮挡到对位孔12,再将掩膜条 1和支撑条2维持该相对位置,以保证两者之间不再产生位置偏移,利用张网机识别抓取对位孔12,以最终将掩膜板调节至与衬底3对应,保证蒸镀在衬底3的像素33精度。
依照本发明如上文所述的实施例,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (19)

1.一种掩膜板,其特征在于,包括:
至少一个掩膜条;
其中,所述掩膜条包括多个孔,所述多个孔在所述掩膜条上沿第一方向排布且沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向交叉,所述多个孔包括在所述第一方向上位于边缘位置的多个边缘孔,所述多个边缘孔中的至少一个设置为对位孔,所述掩膜条包括识别单元,所述识别单元用于识别所述边缘孔中所设置的所述对位孔。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述识别单元为非穿透单元,所述非穿透单元至少位于所述多个边缘孔在所述第二方向的一侧,所述多个边缘孔中,与所述非穿透单元相邻的所述边缘孔设置为所述对位孔。
3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述非穿透单元位于在所述第二方向的任一相邻所述边缘孔之间,所述边缘孔中与所述非穿透单元相邻的所述边缘孔设置为所述对位孔。
4.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜条中的所述多个孔被划分为多个孔阵列模块,所述多个孔阵列模块沿所述第二方向布置;
任一所述孔阵列模块中,所述多个边缘孔在所述第二方向的两侧设置所述非穿透单元,且所述边缘孔中与所述非穿透单元相邻的所述边缘孔设置为所述对位孔。
5.根据权利要求2至4任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述非穿透单元包括至少一个沿所述第二方向布置的非穿透孔。
6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述非穿透孔为盲孔,所述盲孔与所述孔的尺寸相同。
7.根据权利要求2至4任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板还包括:
至少一个支撑条,多个所述掩膜条沿所述第一方向布置,所述多个支撑条沿所述第二方向布置,用于支撑所述多个掩膜条,所述多个支撑条在所述多个掩膜条方向的正投影中,所述支撑条与所述非穿透单元彼此不相交叠或者部分交叠。
8.根据权利要求7所述的掩膜板,其特征在于,至少在所述第二方向位于最外侧的所述支撑条包括本体部和凸起部,所述本体部沿所述第一方向延伸且布置多个所述凸起部,所述凸起部连接于所述本体部沿所述第二方向的至少一侧,所述凸起部在所述第二方向上具有第一长度,所述第一长度大于所述非穿透单元到所述本体部的最小距离。
9.根据权利要求8所述的掩膜板,其特征在于,沿所述第二方向,所述对位孔的中心到所述凸起部的最小距离大于1.5mm。
10.根据权利要求8所述的掩膜板,其特征在于,沿所述第二方向,所述对位孔的中心到所述凸起部的最小距离在1.5mm-2mm之间。
11.根据权利要求1至4任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述孔的形状包括圆形、矩形、菱形、椭圆形。
12.根据权利要求1至4任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜条还包括辅助对位孔,位于所述掩膜条的四角处,所述辅助对位孔设置为盲孔。
13.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底,所述衬底包括多个像素,所述多个像素根据权利要求1至12任一项所述的掩膜板蒸镀而成。
14.根据权利要求13所述的显示面板,其特征在于,所述多个像素沿所述第一方向排布且沿所述第二方向延伸,所述多个像素包括在所述第一方向上位于边缘位置的多个边缘像素;
其中,沿所述第二方向,所述多个边缘像素中位于最外侧的所述边缘像素到所述衬底边缘的距离为第一距离,在所述第一方向上与所述多个边缘像素相邻的所述多个像素中,沿所述第二方向位于最外侧的所述像素到所述衬底边缘的距离为第二距离,所述第一距离大于所述第二距离。
15.根据权利要求14所述的显示面板,其特征在于,所述第一距离与所述第二距离的差值范围为3mm-6mm。
16.根据权利要求14所述的显示面板,其特征在于,所述衬底包括显示区和至少部分绕所述显示区布置的非显示区,至少部分所述边缘像素位于所述非显示区。
17.一种掩膜板的制作方法,其特征在于,包括:
安装支撑条;
在所述支撑条上安装掩膜条,所述掩膜条包括多个孔,所述多个孔在所述掩膜条上沿第一方向排布且沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向交叉,所述多个孔包括在所述第一方向上位于边缘位置的多个边缘孔,所述多个边缘孔中的至少一个设置为对位孔,所述掩膜条包括识别单元,所述识别单元用于识别所述边缘孔中所设置的所述对位孔;以及
通过所述对位孔校正所述掩膜条的位置。
18.根据权利要求17所述的掩膜板的制作方法,其特征在于,所述识别单元为非穿透单元,所述非穿透单元至少位于所述多个边缘孔在所述第二方向的一侧,所述多个边缘孔中,与所述非穿透单元相邻的所述边缘孔设置为所述对位孔,所述支撑条包括本体部和凸起部,所述本体部沿所述第一方向延伸,所述凸起部连接于所述本体部沿所述第二方向的至少一侧,所述凸起部在所述第二方向上具有第一长度,所述第一长度大于所述非穿透单元到所述本体部的最小距离,在所述支撑条上安装掩膜条后,所述掩膜板的制作方法包括:
调节所述掩膜条与所述支撑条的相对位置,至所述对位孔的中心到所述凸起的最小距离为预设距离。
19.根据权利要求18所述的掩膜板的制作方法,其特征在于,调节所述预设距离在1.5mm-2mm之间。
CN202011423740.8A 2020-12-08 2020-12-08 掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法 Active CN112725727B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011423740.8A CN112725727B (zh) 2020-12-08 2020-12-08 掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011423740.8A CN112725727B (zh) 2020-12-08 2020-12-08 掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112725727A true CN112725727A (zh) 2021-04-30
CN112725727B CN112725727B (zh) 2022-05-10

Family

ID=75598308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011423740.8A Active CN112725727B (zh) 2020-12-08 2020-12-08 掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112725727B (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103160775A (zh) * 2011-12-14 2013-06-19 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 蒸镀掩膜板对位系统
JP2016053194A (ja) * 2014-09-03 2016-04-14 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法
CN206015074U (zh) * 2016-09-23 2017-03-15 昆山国显光电有限公司 精密金属遮罩及oled基板
CN109188856A (zh) * 2018-10-31 2019-01-11 京东方科技集团股份有限公司 掩模板框架、掩模板及其制作方法、张网机
CN110438448A (zh) * 2019-09-10 2019-11-12 京东方科技集团股份有限公司 对位掩膜板、金属掩膜板组件及其制备方法
CN110527949A (zh) * 2019-09-24 2019-12-03 昆山国显光电有限公司 一种对位掩膜板、掩膜板及制作方法
CN111286695A (zh) * 2020-02-28 2020-06-16 成都京东方光电科技有限公司 支撑架、固定架和掩膜板

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103160775A (zh) * 2011-12-14 2013-06-19 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 蒸镀掩膜板对位系统
JP2016053194A (ja) * 2014-09-03 2016-04-14 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法
CN206015074U (zh) * 2016-09-23 2017-03-15 昆山国显光电有限公司 精密金属遮罩及oled基板
CN109188856A (zh) * 2018-10-31 2019-01-11 京东方科技集团股份有限公司 掩模板框架、掩模板及其制作方法、张网机
CN110438448A (zh) * 2019-09-10 2019-11-12 京东方科技集团股份有限公司 对位掩膜板、金属掩膜板组件及其制备方法
CN110527949A (zh) * 2019-09-24 2019-12-03 昆山国显光电有限公司 一种对位掩膜板、掩膜板及制作方法
CN111286695A (zh) * 2020-02-28 2020-06-16 成都京东方光电科技有限公司 支撑架、固定架和掩膜板

Also Published As

Publication number Publication date
CN112725727B (zh) 2022-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109321880B (zh) 一种掩膜板
CN108365134B (zh) 掩模板及其制造方法、掩模装置、蒸镀方法
US11578400B2 (en) Fine metal mask having protective portions having protective portion with ratio of thickness reduction equal to single pixel aperture ratio and method for manufacturing the same, mask frame assembly
CN109166976A (zh) 显示面板、掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置
CN109554665B (zh) 一种蒸镀方法、蒸镀掩膜模组、显示面板及显示装置
CN110048007B (zh) 掩膜版及其制造方法
CN110923625A (zh) 掩膜模组、蒸镀系统及蒸镀方法及显示基板
US20200270739A1 (en) Mask plate and mask sheet
JP2003332057A (ja) 有機el素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置
CN1329341A (zh) 丝网印刷板、陶瓷迭层电子设备及其制造方法
CN101824591A (zh) 沉积掩模
CN112725727B (zh) 掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法
US7253533B2 (en) Divided shadow mask for fabricating organic light emitting diode displays
WO2024000893A1 (zh) 掩膜版及掩膜版的制作方法
CN113015821A (zh) 掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置
CN110343999A (zh) 掩模装置及其制造方法、蒸镀方法
CN215628244U (zh) 一种掩膜板
CN111593299B (zh) 掩膜板及其制造方法
CN111188008B (zh) 一种金属掩膜条、金属掩膜板及其制作方法以及玻璃光罩
CN206902222U (zh) 掩模片和掩模板
US9644256B2 (en) Mask assembly and thin film deposition method using the same
JP3975822B2 (ja) コンビネーションマスク、その製造方法、およびそれを用いた印刷方法
CN111653548A (zh) 一种显示基板、显示面板及其制备方法
CN112522665B (zh) 掩膜条、掩膜板及显示面板的制备方法
CN113322430B (zh) 掩膜结构及掩膜结构制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant