CN112697398B - 一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法 - Google Patents
一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112697398B CN112697398B CN202011434660.2A CN202011434660A CN112697398B CN 112697398 B CN112697398 B CN 112697398B CN 202011434660 A CN202011434660 A CN 202011434660A CN 112697398 B CN112697398 B CN 112697398B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coordinate system
- wave aberration
- matrix
- detected
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims abstract description 72
- 230000008859 change Effects 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 title description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 32
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims abstract description 27
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000844 transformation Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 5
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010327 methods by industry Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0271—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by using interferometric methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
本发明公开一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,计算出加工前后波像差变化量。在被测镜上任意位置作三个标记,加工前后检测波像差,两次检测的波像差上找出三个标记没有数据的区域,计算出中心点的位置坐标,这三个点坐标为标记点位置。加工前后检测的波像差上的三个标记点连成两个三角形,两者的空间位置发生了三种几何变换:旋转、平移和缩放,解出两个三角形的变换矩阵T,根据变换矩阵T,计算出加工后的波像差矩阵变换成跟加工前同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据,将其与加工前的波像差相减得到残差,分析这两次检测的波像差变化。解决两次检测波像差由于空间位置改变且采样像素不同不能点对点相减的问题。
Description
技术领域
本发明属于波前检测领域,具体涉及一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法。
背景技术
多台阶衍射镜的加工,要经过一系列的工艺工程:清洗、匀胶、曝光、显影、刻蚀。工艺试验阶段,要确定特定工艺参数去除函数,就需要对每一道工艺前后进行检测,两次检测的波像差相减得到该特定工艺参数的去除函数分布。
由于两次检测的波像差在空间位置上发生了变化,对这两次检测的波像差分析需要对其几何误差进行补偿。导致这些误差出现的原因有很多,如检测设备的改变、采样的角度、采样像素点,被测镜重新放置导致的移动以及其他因素。实际操作过程中,波像差可能是在不同时间用不同设备或者同一设备采集的,例如,未刻蚀的基底波像差由Zygo干涉仪的平面波来检测,而刻蚀之后,则利用4D干涉仪的球面波检测镜子的波像差,这两次检测由于干涉仪改变,镜子的重新放置,整个系统空间位置改变了,采样的波前数据点的位置也发生旋转、平移和缩放,不能将其点对点相减,就不能再进行波像差之间的直接相减。
本发明通过校正两波前数据的空间位置和缩放尺度,变换成同样大小的三维矩阵数据,且数据点的空间位置保持一致,再计算残差。可以实现不同类型干涉仪,不同采样频率,在不同时间和空间的两次采样的波像差的残差计算。
发明内容
本发明要解决对比分析在不同时间用不同设备或者同一设备采集的波像差,计算两次采样的残差,提供了一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法。
本发明采用的技术方案为:一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,按以下步骤实现:
步骤一,在被测镜上任意位置作三个标记,保证这三个标记中心位置可以连成三角形,并且在加工和检测中三个标记不会被清除;
步骤二,镜子加工之前先检测一次被测镜的波像差,加工之后任意放置被测镜,再次检测被测镜的波像差;
步骤三,设备采集到的标记位置是没有数据的,分别找出三个标记上没有数据的区域,计算出其中心点的位置坐标,这三个点坐标为标记点位置;
步骤四,由于两次检测的波像差在空间位置上发生了变化,对这两次检测的波像差分析需要对其几何误差进行补偿,加工前后检测的波像差上的三个标记点连成的两个三角形的空间位置发生了三种几何变换:旋转、平移和缩放,解出三个标记点的变换矩阵T;
步骤五,按照步骤四计算的变换矩阵T,计算出加工后的波像差矩阵变换成跟加工前同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据;
步骤六,将步骤五变换的波像差与加工前的波像差相减得到残差,分析这两次检测的波像差变化。
进一步地,步骤一中所述三个标记中心位置可以连成锐角或钝角三角形,为了容易区别,它们之间非旋转对称。
进一步地,步骤二中所述加工之后任意放置被测镜,被测镜在空间位置上相对于加工前可发生了旋转、平移,设备采样时,采样像素可变多或变少。
进一步地,步骤四具体过程为:
假设定义在(x,y,z)坐标系上的图2(a)中三角形f经过几何变换后产生了定义在(α,β,γ)坐标系上的图2(b)中三角形g,这个坐标系的变换可以表示为:
(α,β,γ)=T{(x,y,z)}
图2中的三角形的变换T包括三种:旋转、平移和缩放。
其中旋转矩阵T1为:
其中,θ表示(α,β,γ)坐标系顺时针旋转θ得到(x,y,z)坐标系。
平移矩阵T2为:
其中,δx表示(α,β,γ)坐标系沿x轴平移δx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系沿y轴平移δy得到(x,y,z)坐标系。
平移矩阵T3为:
其中,Sx表示(α,β,γ)坐标系的x轴缩放Sx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系的y轴缩放Sy得到(x,y,z)坐标系。
所以,变换矩阵T如下表示:
三个标记点的变换关系表示为:
其中,α,β,γ表示(α,β,γ)坐标系上三个标记点坐标,x,y,z表示(x,y,z)坐标系上三个标记点坐标;
由上式解出变换矩阵T。
进一步地,步骤五具体过程为:
假设图2(a)中的波像差为固定矩阵,图2(b)中的波像差为变化矩阵。按照计算出的三角形的变换矩阵T,计算出图2(b)中的变化矩阵变换成跟图2(a)中的固定矩阵处于同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据。
其中,其中,x′,y′,z′为(x,y,z)坐标系上三个标记点变换后的坐标,α′,β′,γ′为(α,β,γ)坐标系上三个标记点变换后的坐标,T为变换矩阵。
θ表示(α,β,γ)坐标系顺时针旋转θ得到(x,y,z)坐标系。
δx表示(α,β,γ)坐标系沿x轴平移δx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系沿y轴平移δy得到(x,y,z)坐标系。
Sx表示(α,β,γ)坐标系的x轴缩放Sx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系的y轴缩放Sy得到(x,y,z)坐标系。
本发明与现有技术相比的优点在于:
(1)因为波像差为三维数据矩阵,三维数据矩阵直接相减必须要求矩阵维数一致。两次波像差直接相减的前提条件是两个相减量必须同一类型干涉仪,设置同一采样频率,在同一次采样实验中采样同像素并且同样空间位置的三维数据,才能实现点对点相减,且不引入因为空间位置变化而带来的相减误差。本发明通过校正两波像差矩阵数据的空间位置和缩放尺度,变换成同样大小的三维矩阵数据,且数据点的空间位置保持一致,再计算残差。可以实现不同类型干涉仪,不同采样频率,在不同时间和空间的两次采样的波像差的残差计算。
附图说明
图1为本发明一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法的流程图;
图2为加工前后两次检测波像差产生几何变换示意图,其中,图2(a)为中的波像差为固定矩阵,图2(b)为中的波像差为变化矩阵;
图3为在被测镜上任意位置作三个标记示意图;
图4为测被测镜的波像差示意图,其中,图4(a)为镜子加工之前先检测一次被测镜的波像差,图4(b)为加工之后任意放置被测镜,检测被测镜的波像差;
图5为计算出加工后的波像差矩阵变换成跟加工前的波像差同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据。
具体实施方式
下面结合附图以及具体实施方式进一步说明本发明。
本实施方式的一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,按以下步骤实现:
步骤一,如图3所示,在被测镜上任意位置作三个标记;
步骤二,镜子加工之前先检测一次被测镜的波像差,如图4(a)所示。加工之后任意放置被测镜,再次检测被测镜的波像差,如图4(b)所示;
步骤三,设备采集到的标记位置是没有数据的,分别找出三个标记上没有数据的区域,计算出其中心点的位置坐标,这三个点坐标为标记点位置;
步骤四,加工前后检测的波像差上的三个标记点连成的两个三角形的空间位置发生了三种几何变换:旋转、平移和缩放,解出三个标记点的变换矩阵T;
步骤五,按照步骤四计算的变换矩阵T,计算出加工后的波像差矩阵变换成跟加工前同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据,如图5所示,可以看出校正后的波像差跟加工前空间位置一致,且像素大小一样;
步骤六,将步骤五变换的波像差与加工前的波像差相减得到残差,RMS=5.48nm。
本发明中涉及到的本领域公知技术未详细阐述。
Claims (5)
1.一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,其特征在于:该方法按以下步骤实现:
步骤一,在被测镜上任意位置作三个标记,保证这三个标记中心位置可以连成三角形,并且在加工和检测中三个标记不会被清除;
步骤二,被测镜加工之前先检测一次被测镜的波像差,加工之后任意放置被测镜,再次检测被测镜的波像差;
步骤三,设备采集到的标记位置是没有数据的,分别找出三个标记上没有数据的区域,计算出其中心点的位置坐标,这三个点坐标为标记点位置;
步骤四,由于两次检测的波像差在空间位置上发生了变化,对这两次检测的波像差分析需要对其几何误差进行补偿,加工前后检测的波像差上的三个标记点连成的两个三角形的空间位置发生了三种几何变换:旋转、平移和缩放,解出三个标记点的变换矩阵T;
步骤五,按照步骤四计算的变换矩阵T,计算出加工后的波像差矩阵变换成跟加工前同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据;
步骤六,将步骤五变换的波像差与加工前的波像差相减得到残差,分析这两次检测的波像差变化。
2.根据权利要求1所述的一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,其特征在于:步骤一中所述三个标记中心位置可以连成锐角或钝角三角形,为了容易区别,它们之间非旋转对称。
3.根据权利要求1所述的一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,其特征在于:步骤二中所述加工之后任意放置被测镜,被测镜在空间位置上相对于加工前可发生了旋转、平移,设备采样时,采样像素可变多或变少。
4.根据权利要求1所述的一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,其特征在于:步骤四具体过程为:
假设定义在(x,y,z)坐标系上的三角形f经过几何变换后产生了定义在(α,β,γ)坐标系上的三角形g,这个坐标系的变换可以表示为:
(α,β,γ)=T{(x,y,z)}
三角形的变换T包括三种:旋转、平移和缩放,其中旋转矩阵T1为:
其中,θ表示(α,β,γ)坐标系顺时针旋转θ得到(x,y,z)坐标系;
平移矩阵T2为:
其中,δx表示(α,β,γ)坐标系沿x轴平移δx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系沿y轴平移δy得到(x,y,z)坐标系;
缩放矩阵T3为:
其中,Sx表示(α,β,γ)坐标系的x轴缩放Sx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系的y轴缩放Sy得到(x,y,z)坐标系;
所以,变换矩阵T如下表示:
三个标记点的变换关系表示为:
其中,α,β,γ表示(α,β,γ)坐标系上三个标记点坐标,x,y,z表示(x,y,z)坐标系上三个标记点坐标;
由上式解出变换矩阵T。
5.根据权利要求1所述的一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,其特征在于:步骤五具体过程为:
假设加工前检测的波像差为固定矩阵,加工后检测的波像差为变化矩阵,按照计算出的三角形的变换矩阵T,计算出变化矩阵变换成跟固定矩阵处于同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据,
其中,x′,y′,z′为(x,y,z)坐标系上三个标记点变换后的坐标,α′,β′,γ′为(α,β,γ)坐标系上三个标记点变换后的坐标,T为变换矩阵;
θ表示(α,β,γ)坐标系顺时针旋转θ得到(x,y,z)坐标系;
δx表示(α,β,γ)坐标系沿x轴平移δx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系沿y轴平移δy得到(x,y,z)坐标系;
Sx表示(α,β,γ)坐标系的x轴缩放Sx得到(x,y,z)坐标系,δy表示(α,β,γ)坐标系的y轴缩放Sy得到(x,y,z)坐标系。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011434660.2A CN112697398B (zh) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011434660.2A CN112697398B (zh) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112697398A CN112697398A (zh) | 2021-04-23 |
CN112697398B true CN112697398B (zh) | 2023-09-19 |
Family
ID=75506998
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011434660.2A Active CN112697398B (zh) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112697398B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115046737A (zh) * | 2022-04-22 | 2022-09-13 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种提取波前数据中标记图案中心位置的方法 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001101410A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-13 | Suzuki Motor Corp | 変換行列データ生成方法及び較正治具並びに三次元計測システム |
JP2003014582A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-15 | Nikon Corp | 波面収差測定装置 |
JP2004257854A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-09-16 | Konica Minolta Holdings Inc | 干渉計装置及び収差計測方法 |
CN1885097A (zh) * | 2005-06-22 | 2006-12-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 利用计算机对非球面检验光学系统进行调整的方法 |
JP2008256517A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Hoya Corp | 収差測定方法 |
CN102368114A (zh) * | 2011-11-15 | 2012-03-07 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 基于波像差检测的光学系统面形补偿装调方法 |
CN102368139A (zh) * | 2011-11-07 | 2012-03-07 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种高精度系统波像差检测方法 |
CN102540745A (zh) * | 2010-12-22 | 2012-07-04 | 上海微电子装备有限公司 | 一种基于空间像主成分控制的曝光系统 |
CN102681365A (zh) * | 2012-05-18 | 2012-09-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种投影物镜波像差检测装置及方法 |
CN103017681A (zh) * | 2012-12-07 | 2013-04-03 | 南通大学 | 近抛物面的旋转轴对称凹非球面的实时检测方法 |
CN103048894A (zh) * | 2013-01-29 | 2013-04-17 | 中国科学院光电研究院 | 一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置和方法 |
CN104236856A (zh) * | 2014-09-10 | 2014-12-24 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 物镜成像系统的波像差检测装置及其系统误差校正方法 |
CN104406770A (zh) * | 2014-10-27 | 2015-03-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 波像差测量模块的畸变测量装置和畸变校正方法 |
KR102036640B1 (ko) * | 2018-06-15 | 2019-10-25 | 고려대학교 산학협력단 | 광학 수차의 고속 보정이 가능한 광학 이미징 방법 |
CN111429532A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-07-17 | 南京大学 | 一种利用多平面标定板提高相机标定精确度的方法 |
-
2020
- 2020-12-10 CN CN202011434660.2A patent/CN112697398B/zh active Active
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001101410A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-13 | Suzuki Motor Corp | 変換行列データ生成方法及び較正治具並びに三次元計測システム |
JP2003014582A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-15 | Nikon Corp | 波面収差測定装置 |
JP2004257854A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-09-16 | Konica Minolta Holdings Inc | 干渉計装置及び収差計測方法 |
CN1885097A (zh) * | 2005-06-22 | 2006-12-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 利用计算机对非球面检验光学系统进行调整的方法 |
JP2008256517A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Hoya Corp | 収差測定方法 |
CN102540745A (zh) * | 2010-12-22 | 2012-07-04 | 上海微电子装备有限公司 | 一种基于空间像主成分控制的曝光系统 |
CN102368139A (zh) * | 2011-11-07 | 2012-03-07 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种高精度系统波像差检测方法 |
CN102368114A (zh) * | 2011-11-15 | 2012-03-07 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 基于波像差检测的光学系统面形补偿装调方法 |
CN102681365A (zh) * | 2012-05-18 | 2012-09-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种投影物镜波像差检测装置及方法 |
CN103017681A (zh) * | 2012-12-07 | 2013-04-03 | 南通大学 | 近抛物面的旋转轴对称凹非球面的实时检测方法 |
CN103048894A (zh) * | 2013-01-29 | 2013-04-17 | 中国科学院光电研究院 | 一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置和方法 |
CN104236856A (zh) * | 2014-09-10 | 2014-12-24 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 物镜成像系统的波像差检测装置及其系统误差校正方法 |
CN104406770A (zh) * | 2014-10-27 | 2015-03-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 波像差测量模块的畸变测量装置和畸变校正方法 |
KR102036640B1 (ko) * | 2018-06-15 | 2019-10-25 | 고려대학교 산학협력단 | 광학 수차의 고속 보정이 가능한 광학 이미징 방법 |
CN111429532A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-07-17 | 南京大学 | 一种利用多平面标定板提高相机标定精确度的方法 |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
Analysis on the Alignment Errors of Segmented Fresnel Lens;Zhou Xudong;《Proceedings of SPIE》;20140429;全文 * |
基于矢量像差理论的离轴反射系统失调校正研究;张晓彬;《中国博士学位论文全文数据库 (工程科技Ⅱ辑)》;20181015(第10期);全文 * |
微缩投影系统的计算机辅助装调;谢耀;《光学精密工程》;20140831;第22卷(第8期);全文 * |
拼接菲涅耳透镜子镜失调误差分析;汪利华;《光学学报》;20160710;第36卷(第7期);全文 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112697398A (zh) | 2021-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Liu et al. | An improved online dimensional measurement method of large hot cylindrical forging | |
CN101996398B (zh) | 用于晶圆对准的图像匹配方法及设备 | |
CN104657711B (zh) | 一种鲁棒的指针式仪表读数自动识别方法 | |
Cappa et al. | A sub-nanometre spindle error motion separation technique | |
Sun et al. | A subpixel edge detection method based on an arctangent edge model | |
Zhou et al. | Fast star centroid extraction algorithm with sub-pixel accuracy based on FPGA | |
JP2007086034A (ja) | 回転精度測定方法 | |
CN103886600A (zh) | 一种连续相位板加工误差识别方法 | |
CN111047588A (zh) | 一种轴型小零件尺寸的图像化测量方法 | |
CN112697398B (zh) | 一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法 | |
Li et al. | Multi-target tracking for automated RF on-wafer probing based on template matching | |
CN111637851A (zh) | 一种基于Aruco码的平面旋转角度视觉测量方法及装置 | |
Wang et al. | Stage error calibration for coordinates measuring machines based on self-calibration algorithm | |
Wang | Automatic pointer meters recognition system based on line scan vision | |
Liu et al. | Any-degrees-of-freedom (anyDOF) registration for the characterization of freeform surfaces | |
CN117804375A (zh) | 一种四波横向剪切干涉测量时的差分相位校平方法及系统 | |
Schalk et al. | Pipe eccentricity measurement using laser triangulation | |
Acero et al. | Evaluation of a metrology platform for an articulated arm coordinate measuring machine verification under the ASME B89. 4.22-2004 and VDI 2617_9-2009 standards | |
US20050177339A1 (en) | Precision surface measurement | |
Caja et al. | Metrological characterization of interior circular features using digital optical machines: Calculation models and application scope | |
Silver et al. | Comparison of measured optical image profiles of silicon lines with two different theoretical models | |
CN114518070A (zh) | 与扫描探针显微镜联用系统的快速定位方法、系统 | |
Hwang et al. | Precision profile measurement of disc surface by error motion compensation | |
JP2010231044A (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
Brandner et al. | Uncertainty in optical measurement applications: A case study |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |