CN112658981B - 一种零部件表面处理用化学抛光机 - Google Patents

Abstract

本发明涉及机械加工技术领域，且公开了一种零部件表面处理用化学抛光机，包括机座，所述机座内腔的中部活动安装有转动台，且转动台为磁性材料制成，所述机座的左上角活动连接有输液管，所述转动台的上表面放置有抛光垫，所述上表面的一侧活动连接有运载器。本发明通过设置过热分离机构，使得在化学抛光机正常对待抛光零部件进行化学抛光产生热量，使得运载器的温度逐渐升高，并在待抛光零部件将热量传导至活动块时，由于活动块为软磁材料制成，使得活动块的磁场强度随着其温度升高而降低，从而使得活动块与转动台之间的磁吸力逐渐减小，并在弹簧弹力作用下，使待抛光零部件逐渐与抛光垫分离，从而减小二者之间相对摩擦所产生的热量。

Description

一种零部件表面处理用化学抛光机

技术领域

本发明涉及机械加工技术领域，具体为一种零部件表面处理用化学抛光机。

背景技术

化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法，化学抛光设备简单，能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件，生产效率高，化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。

传统化学抛光机对零部件进行抛光时，通常使用旋转滴定的方法进行抛光，滴定装置会直接将化学药剂滴至抛光垫表面，在抛光垫转动时的离心力作用下不断向外侧移动，使抛光液平铺在抛光垫表面，通过运载器带动待抛光零部件进行旋转，使待抛光零部件的抛光面与抛光液均匀接触，从而达到抛光的作用，但由于此抛光机在对零部件进行抛光时，通过气缸进行夹持，而气缸的压力大小会对零部件的抛光效果产生影响，压力过大会导致零部件抛光面与抛光垫接触过于紧密，从而影响夹持装置转动以及抛光液流通，而压力过小则会使零部件抛光面与抛光液接触不充分，影响抛光效果，且在对零部件进行化学抛光时，温度也会对抛光效率产生一定影响，且在温度过高时，抛光液蒸发速率上升，导致抛光液消耗过快，增加抛光成本。

发明内容

针对背景技术中提出的现有化学抛光机在使用过程中存在的不足，本发明提供了一种零部件表面处理用化学抛光机，具备磁吸接触、过热分离的优点，解决了上述背景技术中提出的技术问题。

本发明提供如下技术方案：一种零部件表面处理用化学抛光机，包括机座，所述机座内腔的中部活动安装有转动台，且转动台为磁性材料制成，所述机座的左上角活动连接有输液管，所述转动台的上表面放置有抛光垫，所述转动台上表面的一侧活动连接有运载器，所述运载器的内腔设置有与运载器下表面连通的夹持筒，所述运载器内腔的中部活动套接有活动块，且活动块下表面的磁极与转动台上端的磁极相异，所述活动块中部的下表面与运载器内腔的底面通过弹簧活动连接，所述运载器内腔的中部固定连接有位于活动块中部的中心柱，所述运载器的内腔固定安装有位于中心柱外表面的线圈。

优选的，所述线圈的右侧开设有使内部铜芯外漏的凹槽，所述活动块的上表面固定连接有位于线圈右侧凹槽上方的调节杆，且调节杆为铜制材料制成。

优选的，所述活动块为软磁材料制成。

本发明具备以下有益效果：

1、本发明通过设置磁吸接触机构，使得在使用化学抛光机对待抛光零部件进行抛光时，在将待抛光零部件放入夹持筒中后，通过将线圈通电，使中心柱产生磁性，且通过中心柱与活动块接触，使得活动块的磁性增强，从而使得在活动块与转动台之间磁吸力的作用下，使得活动块带动待抛光零部件向下移动，使待抛光零部件与抛光垫紧密接触，且通过设置压力调节机构，使得在活动块向下活动时，带动与其固定连接的调节杆向下移动，使得在调节杆与线圈内部铜芯接触的作用下，使线圈内电流优先流经电阻较小的调节杆，从而降低线圈匝数，使得中心柱所产生的磁性随着活动块向下移动而减小，避免了由于活动块与转动台之间距离逐渐减小，导致二者之间的磁吸力增大，使待抛光零部件与抛光垫接触过于紧密的问题。

2、本发明通过设置过热分离机构，使得在化学抛光机正常对待抛光零部件进行化学抛光产生热量，使得运载器的温度逐渐升高，并在待抛光零部件将热量传导至活动块时，由于活动块为软磁材料制成，使得活动块的磁场强度随着其温度升高而降低，从而使得活动块与转动台之间的磁吸力逐渐减小，并在弹簧弹力作用下，使待抛光零部件逐渐与抛光垫分离，从而减小二者之间相对摩擦所产生的热量。

附图说明

图1为本发明结构立体示意图；

图2为本发明结构剖视示意图；

图3为本发明结构活动块立体示意图；

图4为本发明结构图1中A处放大示意图。

图中：1、机座；2、转动台；3、输液管；4、运载器；5、夹持筒；6、活动块；7、弹簧；8、中心柱；9、调节杆；10、线圈；11、抛光垫。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-4，一种零部件表面处理用化学抛光机，包括机座1，机座1内腔的中部活动安装有转动台2，且转动台2为磁性材料制成，机座1的左上角活动连接有输液管3，转动台2的上表面放置有抛光垫11，转动台2上表面的一侧活动连接有运载器4，运载器4的内腔设置有与运载器4下表面连通的夹持筒5，运载器4内腔的中部活动套接有活动块6，且活动块6下表面的磁极与转动台2上端的磁极相异，活动块6中部的下表面与运载器4内腔的底面通过弹簧7活动连接，运载器4内腔的中部固定连接有位于活动块6中部的中心柱8，运载器4的内腔固定安装有位于中心柱8外表面的线圈10，使得在将待抛光零部件装入夹持筒5中并完成对运载器4的高度调节后，启动设备，使得线圈10通电，从而使得中心柱8产生一定磁力，并通过中心柱8与活动块6接触，使得活动块6的磁场强度增强，使得在活动块6与转动台2之间磁吸力的作用下，使得活动块6带动待抛光零部件克服弹簧7弹力向下移动，使待抛光零部件的抛光面与抛光垫11紧密接触，避免出现由于待抛光零部件下移不到位，导致其抛光面与抛光垫11表面抛光液无法充分接触的问题。

其中，线圈10的右侧开设有使内部铜芯外漏的凹槽，活动块6的上表面固定连接有位于线圈10右侧凹槽上方的调节杆9，且调节杆9为铜制材料制成，使得在活动块6带动待抛光零部件向下移动，使待抛光零部件的抛光面与抛光垫11接触时，活动块6带动调节杆9同步向下移动，使得调节杆9上端卡入线圈10右侧凹槽内，从而使得在线圈10形成闭合回路时，电流优先流经电阻较小的调节杆9，使得随着活动块6移动距离的变化，调节杆9接触的铜芯层数改变，从而使线圈10匝数改变，使得中心柱8的磁场强度改变，从而改变活动块6与转动台2之间磁吸力的大小，使得在弹簧7以及压力调节机构的作用下，待抛光零部件与抛光垫11接触不会过于紧密。

其中，活动块6为软磁材料制成，使得在待抛光零部件进行正常抛光时，在待抛光零部件与抛光垫11之间相对摩擦以及待抛光零部件与抛光液发生化学反应，使待抛光零部件升温的作用下，在活动块6同步升温时，由于活动块6为软磁材料制成，使得其磁场强度随着温度升高而降低，从而在弹簧7对活动块6弹力的作用下，使得待抛光零部件逐渐与抛光垫11分离，使二者之间的相对摩擦逐渐减弱，从而使抛光液有充足时间带走热量，使待抛光零部件温度降低。

本发明的使用方法如下：通过将待抛光零部件在辅助夹持和磁吸力夹持的作用下固定在夹持筒5内，并控制运载器4向下移动，使转动台2与运载器4之间间隙较低，再启动设备，使输液管3不断向抛光垫11上表面的中部滴抛光液，且使转动台2和运载器4转动，从而对待抛光零部件进行抛光；

压力调节：在控制运载器4向下移动，使转动台2与运载器4之间间隙较低后，启动设置时，线圈10通电，使得中心柱8产生一定磁性，且在中心柱8与活动块6接触的作用下，使活动块6的磁场强度增强，并在转动台2与活动块6之间的磁吸力的作用下，使活动块6带动待抛光零部件克服弹簧7弹力向下移动，使待抛光零部件的抛光面与转动台2紧密接触，并且活动块6在向下移动时，带动调节杆9同步向下移动，并使调节杆9上端在线圈10右侧凹槽的作用下线圈10内部铜芯接触，从而使得在调节杆9电阻小于线圈10电阻的作用下，线圈10内电流优先流经调节杆9，使得随着活动块6下移距离增大，线圈10的匝数减少，使活动块6与转动台2之间磁吸力不会过大，保障待抛光零部件的抛光面与转动台2接触不会过于紧密；

过热分离：在对待抛光零部件进行正常抛光时，由于抛光液与待抛光零部件之间产生化学反应，出现放热的情况，且待抛光零部件与抛光垫11接触时，在二者之间相对转动时所产生的摩擦力升温的作用下，使待抛光零部件温度逐渐升高，并传达至活动块6，使活动块6的温度同步升高，由于活动块6是软磁材料制成，使得其磁吸力随着温度升高而降低，从而使得活动块6与转动台2之间的磁吸力减小，并在弹簧7对活动块6弹力的作用下，使得活动块6带动待抛光零部件逐渐向上移动，使得待抛光零部件的抛光面与抛光垫11逐渐分离，从而减小二者之间相对转动时所产生的摩擦力，从而降低待抛光零部件的升温效率。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (1)

1.一种零部件表面处理用化学抛光机，包括机座（1），其特征在于：所述机座（1）内腔的中部活动安装有转动台（2），且转动台（2）为磁性材料制成，所述机座（1）的左上角活动连接有输液管（3），所述转动台（2）的上表面放置有抛光垫（11），所述转动台（2）上表面的一侧活动连接有运载器（4），所述运载器（4）的内腔设置有与运载器（4）下表面连通的夹持筒（5），所述运载器（4）内腔的中部活动套接有活动块（6），且活动块（6）下表面的磁极与转动台（2）上端的磁极相异，所述活动块（6）中部的下表面与运载器（4）内腔的底面通过弹簧（7）活动连接，所述运载器（4）内腔的中部固定连接有位于活动块（6）中部的中心柱（8），所述运载器（4）的内腔固定安装有位于中心柱（8）外表面的线圈（10）；

所述线圈（10）的右侧开设有使内部铜芯外漏的凹槽，所述活动块（6）的上表面固定连接有位于线圈（10）右侧凹槽上方的调节杆（9），且调节杆（9）为铜制材料制成；

所述活动块（6）为软磁材料制成，活动块（6）的磁场强度随着其温度升高而降低，使得活动块（6）与转动台（2）之间的磁吸力逐渐减小，并在弹簧（7）弹力作用下，使待抛光零部件逐渐与抛光垫（11）分离。

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