CN112510070A - 一种可拉伸阵列基板、可拉伸显示面板以及制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种可拉伸阵列基板、可拉伸显示面板以及制作方法。该可拉伸阵列基板包括:包括衬底、依次层叠设置在所述衬底上的驱动电路层、发光器件层和封装层,所述发光器件层包括阵列排布的多个像素,每个像素包括至少两个子像素;所述可拉伸阵列基板还包括设置在各子像素之间的贯通至所述衬底的盲孔。本发明提供的可拉伸阵列基板通过形成在各子像素之间的并且贯通至所述衬底的盲孔,一方面实现可拉伸阵列基板的可拉伸功能,另一方面通过形成在发光器件层上的整体封装层提高可拉伸阵列基板的防止水氧侵蚀的性能。

Description

一种可拉伸阵列基板、可拉伸显示面板以及制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种可拉伸阵列基板、可拉伸显示面板以及制作方法。
背景技术
随着显示技术地快速发展,柔性可拉伸产品受到广泛关注,尤其是用在生物医药和穿戴用品。但是当前主流的可拉伸显示技术,在阵列基板上开孔,发光驱动电路和发光单元形成一个单独的岛状结构,走线配置在非开孔连接处作为连接桥,并通过开孔实现显示装置的拉伸。然而,由于在衬底材料上开孔,会导致水氧从开孔处进入功能膜层中,使得柔性可拉伸产品的显示功能受到影响。
发明内容
为了解决上述问题至少之一,本发明采用以下技术方案:
本发明第一个实施例提供一种可拉伸阵列基板,包括衬底、依次层叠设置在所述衬底上的驱动电路层、发光器件层和封装层,
所述发光器件层包括阵列排布的多个像素,每个像素包括至少两个子像素;
所述可拉伸阵列基板还包括设置在各子像素之间的贯通至所述衬底的盲孔。
进一步的,所述盲孔包括沿第一方向设置在相邻两行像素之间的第一图案盲孔,以及沿第二方向设置在相邻两列像素之间的第二图案盲孔,所述第一图案盲孔和第二图案盲孔交错设置,所述第二方向垂直于所述第一方向。
进一步的,所述发光器件层包括M行像素,相邻两行像素在所述第一方向上交错设置,第m行像素和第m+1行像素的沿第二方向的中心线之间具有偏移距离,所述偏移距离的长度为第一方向上像素长度与像素间隔长度的和的一半。
进一步的,所述像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,所述可拉伸阵列基板的每行包括多个重复的像素,其中
第m+1行的第一子像素对应于所述第m行的第二子像素和第三子像素,第m+1行的第二子像素对应于所述第m行的第三子像素和第一子像素,第m+1行的第三子像素对应于所述第m行的第一子像素和第三子像素。
进一步的,所述第一图案盲孔沿所述第一方向位于第m行的第一子像素和第二子像素与第m+1行的第三子像素和第一子像素之间;
所述第二图案盲孔沿所述第二方向位于第m行的第三子像素和第一子像素、与第m+1行的第一子像素和第二子像素之间。
进一步的,所述第一子像素为绿色子像素,每个绿色子像素包括沿第二方向对称的两个五边形像素对;
所述第二子像素为蓝色子像素,每个蓝色子像素为六边形;
所述第三子像素为红色子像素,每个红色子像素为六边形。
进一步的,所述发光器件层包括
设置在所述驱动电路层上的阳极;
设置在所述阳极上的阵列排布的多个子像素,各子像素包括像素界定层和由所述像素界定层限定的电致发光材料;
贯通所述像素界定层至所述衬底的多个盲孔;
覆盖所述像素界定层、电致发光材料和露出的衬底的阴极,所述封装层设置在所述阴极上。
本发明第二个实施例提供一种可拉伸显示面板,包括如上述的可拉伸阵列基板。
本发明第三个实施例提供一种制作上述可拉伸阵列基板的制作方法,包括:
在衬底上形成驱动电路层;
在所述驱动电路层上形成发光器件层,所述发光器件层包括阵列排布的多个像素,每个像素包括至少两个子像素,所述可拉伸阵列基板还包括设置在各子像素之间的贯通至所述衬底的盲孔;
在所述发光器件层上形成封装层。
进一步的,所述在所述驱动电路层上形成发光器件层进一步包括:
在所述驱动电路层上形成阳极;
在所述阳极上形成阵列排布的多个子像素,每个子像素包括像素界定层和由所述像素界定层限定的电致发光材料;
形成贯通所述像素界定层至所述衬底的多个盲孔;
形成覆盖所述像素界定层、电致发光材料和露出的衬底的阴极。
本发明的有益效果如下:
本发明针对目前现有的问题,制定一种可拉伸阵列基板,本发明提供的可拉伸阵列基板通过形成在各子像素之间的并且贯通至所述衬底的盲孔,一方面实现可拉伸阵列基板的可拉伸功能,另一方面通过形成在发光器件层上的整体封装层提高可拉伸阵列基板的防止水氧侵蚀的性能,具有广泛的应用前景。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出本发明的一个实施例所述可拉伸阵列基板的结构示意图;
图2a示出了现有技术的可拉伸阵列基板的可拉伸区域的分区示意图;
图2b示出了现有技术的可拉伸阵列基板的岛区的层结构示意图;
图3示出本发明实施例的所述盲孔在各像素之间的开孔示意图;
图4示出本发明实施例的所述盲孔在各子像素之间的开孔示意图;
图5示出本发明实施例的盲孔在不同形状的各子像素之间的开孔示意图;
图6示出本发明一个具体示例的可拉伸阵列基板的层结构示意图;
图7示出本发明另一个实施例的可拉伸阵列基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明,下面结合优选实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解,下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的,不应以此限制本发明的保护范围。
需要说明的是,本文中所述的“在……上”、“在……上形成”和“设置在……上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上,也可以表示一层间接形成或设置在另一层上,即两层之间还存在其它的层。在本文中,除非另有说明,所采用的术语“位于同一层”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过同一构图工艺形成,并且,这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。在本文中,除非另有说明,表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。
图2a示出了现有技术的可拉伸阵列基板的分区示意图,其中,现有技术的可拉伸阵列基板1’的衬底11’上包括阵列排布的多个岛区17’,以及围绕所述岛区17’的孔区16’,在每个岛区17’上设置有四个发光单元171’,每个发光单元171’包括红色发光像素R’、绿色发光像素G’和蓝色发光像素B’。然而,当该可拉伸阵列基板进行拉伸时,随着孔区16’的面积变大,相邻的岛区17’之间距离变远,使得该阵列基板显示时出现显示不均以及像素密度较低的问题。
图2b示出了现有技术的可拉伸阵列基板1’的岛区17’的层结构示意图,可拉伸阵列基板1’包括:衬底11’、依次层叠设置在所述衬底11’上的驱动电路层12’、发光器件层13’和封装层14’。其中,每一岛区设置有隔离柱18’以断开发光材料和阴极132’,同时在岛区17’的隔离柱18’上进行围孔封装形成每一岛区17’的封装层14’。由于隔离柱18’和孔区16’的存在,使得每一岛区17’需进行单独封装,从而使得阵列基板的整体封装性能较差,并且易受水氧侵蚀。进一步的,由于隔离柱18’和孔区16’占用岛区的空间,使得相邻岛区17’之间的发光单元171’的距离较远,进一步加重了阵列基板显示不均和像素密度较低的问题。
为解决上述问题,本发明提出一种可拉伸阵列基板、可拉伸显示面板以及制作方法。
如图1和图3所示,本发明的一个实施例提供了一种可拉伸阵列基板1,包括衬底11、依次层叠设置在所述衬底11上的驱动电路层12、发光器件层13和封装层14,
所述发光器件层13包括阵列排布的多个像素15,每个像素15包括至少两个子像素151;
所述可拉伸阵列基板还包括设置在各子像素151之间的贯通至所述衬底11的盲孔16。
在本实施例中,盲孔贯通至部分衬底11,从而使得可拉伸阵列基板能有效释放拉伸中产生的应力,并且盲孔16设置在各子像素151之间,因此在封装工艺中能够形成连续的整体封装层,有效提高阵列基板的抗水氧侵蚀性能。
在一个可选的实施例中,如图3所示,所述盲孔16包括沿第一方向,即水平方向X,设置在相邻两行像素15之间的第一图案盲孔161,以及沿第二方向,即竖直方向Y,设置在相邻两列像素15之间的第二图案盲孔162,所述第一图案盲孔161和第二图案盲孔162交错设置,所述第二方向Y垂直于所述第一方向X。
本实施例中,第一图案盲孔161和第二图案盲孔162交错设置在阵列排布的各像素15之间,在对可拉伸基板进行拉伸时,通过形成的盲孔能够实现阵列基板的拉伸,从而实现所有像素之间的距离同时增加或缩小,使得可拉伸阵列基板显示时形成均匀发光,提高可拉伸基板的显示性能。并且,第一图案盲孔和第二盲孔虽然交错排列但其之间并不相通,因此,该结构在实现可拉伸基板较好的拉伸能力的同时,有效保护发光器件免受水氧侵蚀,增加可拉伸阵列基板的使用寿命。
在一个可选的实施例中,如图3所示,所述发光器件层13包括M行像素15,相邻两行像素15在所述第一方向上交错设置,第m行像素15A的沿第二方向的中心线和第m+1行像素15C的沿第二方向的中心线之间具有偏移距离,所述偏移距离的长度L1为第一方向上像素长度L2与像素间隔长度L3的和的一半,即偏移距离的长度L1=1/2(L2+L3)。
本实施例中,如图3所示,相邻两行(第m行像素和第m+1行)且相互靠近的像素(像素15A和像素15C)按照一定偏移距离排布,同时形成沿第二方向Y设置在相邻两列像素15之间的第二图案盲孔162。其中,第m+1行的像素15C位于像素15A和像素15B的正中位置,在进行可拉伸基板的拉伸时,像素15A~C之间能形成均匀的发光显示,有效提高可拉伸基板的显示均匀性。
值得说明的是,考虑到现有的像素排布采用同一子像素重复使用形成多个像素的“借像素排布方式”,因此,本实施例对像素的子像素数量不作限定,像素可以包括两个子像素、三个子像素或四个像素,但是盲孔设置在各个子像素间,以使得在阵列基板拉伸时,子像素之间形成均匀的拉伸效果。本领域技术人员应当根据实际应用需求选择适当的像素结构,在此不再赘述。
在一个可选的实施例中,如图4所示,所述可拉伸阵列基板的每行包括多个重复的像素,当像素包括三个子像素151时,所述像素包括第一子像素(绿色子像素G1)、第二子像素(蓝色子像素B2)和第三子像素(红色子像素R3),其中
第m+1行的绿色子像素G1对应于所述第m行的蓝色子像素B2和红色子像素R3,第m+1行的蓝色子像素B2对应于所述第m行的红色子像素R3和绿色子像素G1,第m+1行的红色子像素R3对应于所述第m行的绿色子像素G1和蓝色子像素B2。
在本实施例中,如图4所示,绿色子像素G1、蓝色子像素B2以及红色子像素R3成本实施例所述的一个像素15,盲孔16位于绿色子像素G1、蓝色子像素B2以及红色子像素R3之间实现每一子像素在拉伸时的距离同时增加或减小,提高可拉伸阵列基板的显示均匀性。
进一步的,相邻的两行子像素151之间对应的三个子像素151能形成一个完整的发光区,从而实现像素15中的每一子像素151能重复使用。在一个具体示例中,以第m行和第m+1行的子像素为例,第m+1行的红色子像素R3位于第m行的绿色子像素G1和蓝色子像素B2的连接线的中间位置,该第m+1行的红色子像素R3对应于所述第m行的绿色子像素G1和蓝色子像素B2,这三个子像素形成一个用于发光的像素发光区152。第m+1行的绿色子像素G1位于所述第m行的蓝色子像素B2和红色子像素R3的连接线的中间位置,该第m+1行的绿色子像素G1对应于所述第m行的蓝色子像素B2和红色子像素R3,这三个子像素形成另一个用于发光的像素发光区152。此时,位于所述第m行的蓝色子像素B2重复使用两次,但都能与对应的子像素形成一个完整的像素,提高了可拉伸阵列基板的像素密度,提高其显示性能。
在另一个具体示例中,第m+1行的红色子像素R3对应于所述第m行的绿色子像素G1和蓝色子像素B2,这三个子像素同样形成一个像素发光区152。
在一个可选的实施例中,如图4所示,所述第一图案盲孔161沿所述第一方向X位于第m行的第一子像素(绿色子像素G1)和第二子像素(蓝色子像素B2)、与第m+1行的第三子像素(红色子像素R3)和第一子像素(绿色子像素G1)形成的间隔区域之间;
所述第二图案盲孔162沿所述第二方向Y位于第m行的第三子像素(红色子像素R3)和第一子像素(绿色子像素G1)、与第m+1行的第一子像素(绿色子像素G1)和第二子像素(蓝色子像素B2)之间。
在一个具体示例中,仍以前述图4所示的相邻两行子像素(第m行和m+1行)的排布为例,第m行相邻的绿色子像素G1和蓝色子像素B2,以及位于两者之间位置的第m+1行的红色子像素R3构成一个像素15。在该像素发光区152对应的范围内,此时,蓝色子像素B2和绿色子像素G1所在的第m行,与红色子像素R3所在的第m+1行之间形成开设盲孔的间隔区域,该间隔区域开设有沿第一方向X设置的第一图案盲孔161。在第一方向X上,该第一图案盲孔161延伸至第m行的蓝色子像素B2与第m+1行的绿色子像素G1之间的间隔区域。
在另一个具体示例中,以最右侧的像素发光区152为例,此时,第二盲孔图案162设置在相同m行的红色子像素R3和绿色子像素G1之间、设置在相同m+1行的绿色子像素G1和蓝色子像素B2之间,以及设置在第m行的红色子像素R3和第m+1行的蓝色子像素B2之间,三个子像素形成一个三角形的像素发光区152。
通过该第一图案盲孔和第二图案盲孔的设置,使得子像素之间彼此分隔,使得基板具有良好的延展性的同时能保证可拉伸阵列基板的显示均匀性。
值得说明的是,前述的像素发光区仅为清楚解释第一图案盲孔161和第二图案盲孔162的设置方式提出的示例,本实施例并不限定该排布下子像素形成的像素,以及本实施例并不限定各子像素的排布顺序,如图4所示的排布方式仅为示意性的。
本发明实施例的各子像素的形状不限于如图4所示的四边形,在一个可选的实施例中,如图5所示,
所述第一子像素为绿色子像素,每个绿色子像素包括沿第二方向对称的两个五边形像素对;
所述第二子像素为蓝色子像素,每个蓝色子像素为六边形;
所述第三子像素为红色子像素,每个红色子像素为六边形。
本实施例中,绿色子像素、蓝色子像素以及红色子像素形成了一个像素15,第一图案盲孔161和第二图案盲孔162将各个子像素分隔,考虑到绿色子像素的发光特性,本实施例将绿色子像素设置为沿第二方向对称的两个五边形像素对,以平衡三个像素之间的发光均匀性。
如图1,在一个可选的实施例中,所述发光器件层13包括:
设置在所述驱动电路层上的阳极;设置在所述阳极131上的阵列排布的多个子像素151,各子像素包括像素界定层1512和由所述像素界定层限定的电致发光材料(图中未示出);
贯通所述像素界定层1512至所述衬底11的多个盲孔16;
覆盖所述像素界定层1512、电致发光材料和露出的衬底11的阴极132,所述封装层14设置在所述阴极132上。
本实施例中,通过形成在各子像素之间的并且贯通至所述衬底的盲孔,使得阵列基板能够实现拉伸,通过盲孔释放阵列基板拉伸过程中产生的应力,有效避免阵列基板破损。如图6所示,本实施例的盲孔16在竖直方向上贯穿像素界定层1512和驱动电路层12且贯穿部分衬底11,即盲孔并未贯穿衬底11,因此,进行封装工艺时能实现阵列基板的整层封装,从而有效提高可拉伸阵列基板的整体封装性能。相较于现有技术对每一岛区进行单独的封装工艺从而形成彼此独立的封装层,本实施例通过对整个阵列基板进行完整封装,能够有效阻挡水汽侵蚀至封装层,提高阵列基板的整体显示性能。
在一个具体示例中,形成本实施例的可拉伸阵列基板的过程如下:
S1、在衬底11上形成驱动电路层12;
在一个具体示例中,如图6所示,本实施例的驱动电路层12具体包括:
形成在衬底11上的绝缘层121,形成在绝缘层121上的有源层122,覆盖所述有源层122的第一栅极绝缘层123,形成在第一栅极绝缘层123上的栅极124,覆盖所述栅极124的第二栅极绝缘层125,形成在所述第二栅极绝缘层125上的介电层126,形成在介电层126上的源漏金属层127,覆盖所述介电层126的平坦化层127,其中,平坦化层127露出部分阳极131,源漏金属层127通过过孔与有源层122连接。
考虑到对各子像素之间形成所述盲孔16后,设置像素控制电路的空间有限,在一个具体示例中,像素控制电路可选择4T1C控制电路,例如包括如图6所示的薄膜晶体管128和129。
S2、在所述驱动电路层12上形成发光器件层13。在一个具体示例中,该步骤具体包括:
在所述驱动电路层12上形成阳极131,所述阳极131与露出的源级或漏127连接。
在所述阳极上形成阵列排布的多个子像素,每个像素包括至少两个子像素,每个子像素包括像素界定层和由所述像素界定层限定的电致发光材料。本实施例不限定具体的子像素的排布方式,本领域人员根据实际应用自行选择,在此不再赘述。
形成贯通所述像素界定层至所述衬底11的多个盲孔16,所述盲孔16设置在各子像素之间,包括如图4所示的第一图案盲孔161和第二图案盲孔162,且盲孔仅贯穿部分衬底11。
形成覆盖所述像素界定层、电致发光材料和露出的衬底11的阴极。由于本实施例的盲孔并未全部贯穿所述衬底11,因此,该步骤形成的阴极为完整形成在像素界定层、电致发光材料和露出的衬底11上的完整结构。在一个具体示例中,如图6所示,该示例中的盲孔贯穿像素界定层、平坦化层、介质层、第二栅极绝缘层、第一栅极绝缘层以及绝缘层,且贯穿部分衬底11。
S3、在所述发光器件层13上形成封装层14。
同样的,由于本实施例的盲孔并未全部贯穿所述衬底11,本实施例的封装层14为与阴极相同的整体封装结构,封装层14和阴极沿盲孔侧壁形成完整的连续层结构,封装性能较强,有效提高可拉伸阵列基板的整体抗水氧侵蚀性能。
并且,相较于现有技术,本实施例的岛区并未设置环绕孔区的隔离柱,减小隔离柱区域对岛区上子像素发光单元的影响,从而在保持良好的抗水氧侵蚀能力的基础上,进一步提高了可拉伸显示基板的显示性能。
值得说明的是,本领域技术人员应当根据实际需要设置盲孔贯穿衬底11的深度,以实现可拉伸阵列基板的整层封装为设计准则,在此不再赘述。
与上述实施例提供的可拉伸阵列基板,如图7所示,本申请的一个实施例还提供一种制作上述可拉伸阵列基板的制作方法,该方法包括:
在衬底11上形成驱动电路层12;
在所述驱动电路层12上形成发光器件层13,所述发光器件层13包括阵列排布的多个像素,每个像素包括至少两个子像素,所述可拉伸阵列基板还包括设置在各子像素之间的贯通至所述衬底11的盲孔16;
在所述发光器件层13上形成封装层14。
其中,所述在所述驱动电路层12上形成发光器件层13进一步包括:
在所述驱动电路层12上形成阳极;
在所述阳极上形成阵列排布的多个子像素,每个子像素包括像素界定层和由所述像素界定层限定的电致发光材料;
形成贯通所述像素界定层至所述衬底11的多个盲孔16;
形成覆盖所述像素界定层、电致发光材料和露出的衬底11的阴极。
利用本实施例的制作方法形成的可拉伸阵列基板,通过形成在各子像素之间的并且贯通至所述衬底11的盲孔,一方面实现可拉伸阵列基板的可拉伸功能,另一方面通过形成在发光器件层13上的整体封装层提高可拉伸阵列基板的防止水氧侵蚀的性能,并且所述盲孔使得各像素形成独立的岛区结构,从而提高可拉伸基板的显示性能。
由于本申请实施例提供的可拉伸阵列基板制作方法与上述几种实施例提供的可拉伸阵列基板相对应,因此在前实施方式也适用于本实施例提供的可拉伸阵列基板制作方法,在本实施例中不再详细描述。
值得说明的是,本发明实施例提出的可拉伸阵列基板,其不限于利用本发明上述实施例的制作方法而形成的具体结构,也可由本领域技术人员采用其他加工工艺形成该背板的具体结构。
本发明的另一个实施例提供了一种可拉伸显示面板,包括上述可拉伸阵列基板。该可拉伸显示面板可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
显然,本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定,对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动,这里无法对所有的实施方式予以穷举,凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

Claims (10)

1.一种可拉伸阵列基板,包括衬底、依次层叠设置在所述衬底上的驱动电路层、发光器件层和封装层,其特征在于,
所述发光器件层包括阵列排布的多个像素,每个像素包括至少两个子像素;
所述可拉伸阵列基板还包括设置在各子像素之间的贯通至所述衬底的盲孔。
2.根据权利要求1所述的可拉伸阵列基板,其特征在于,所述盲孔包括沿第一方向设置在相邻两行像素之间的第一图案盲孔,以及沿第二方向设置在相邻两列像素之间的第二图案盲孔,所述第一图案盲孔和第二图案盲孔交错设置,所述第二方向垂直于所述第一方向。
3.根据权利要求2所述的可拉伸阵列基板,其特征在于,所述发光器件层包括M行像素,相邻两行像素在所述第一方向上交错设置,第m行像素的沿第二方向的中心线和第m+1行像素的沿第二方向的中心线之间具有偏移距离,所述偏移距离的长度为第一方向上像素长度与像素间隔长度的和的一半。
4.根据权利要求3所述的可拉伸阵列基板,其特征在于,所述可拉伸阵列基板的每行包括多个重复的像素,所述像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,其中
第m+1行的第一子像素对应于所述第m行的第二子像素和第三子像素,第m+1行的第二子像素对应于所述第m行的第三子像素和第一子像素,第m+1行的第三子像素对应于所述第m行的第一子像素和第三子像素。
5.根据权利要求4所述的可拉伸阵列基板,其特征在于,
所述第一图案盲孔沿所述第一方向位于第m行的第一子像素和第二子像素、与第m+1行的第三子像素和第一子像素之间;
所述第二图案盲孔沿所述第二方向位于第m行的第三子像素和第一子像素、与第m+1行的第一子像素和第二子像素之间。
6.根据权利要求4或5所述的可拉伸阵列基板,其特征在于,
所述第一子像素为绿色子像素,每个绿色子像素包括沿第二方向对称的两个五边形像素对;
所述第二子像素为蓝色子像素,每个蓝色子像素为六边形;
所述第三子像素为红色子像素,每个红色子像素为六边形。
7.根据权利要求1所述的可拉伸阵列基板,其特征在于,所述发光器件层包括
设置在所述驱动电路层上的阳极;
设置在所述阳极上的阵列排布的多个子像素,各子像素包括像素界定层和由所述像素界定层限定的电致发光材料;
贯通所述像素界定层至所述衬底的多个盲孔;
覆盖所述像素界定层、电致发光材料和露出的衬底的阴极,所述封装层设置在所述阴极上。
8.一种可拉伸显示面板,其特征在于,包括如权利要求1-7中任一项所述的可拉伸阵列基板。
9.一种制作如权利要求1-7中任一项所述的可拉伸阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底上形成驱动电路层;
在所述驱动电路层上形成发光器件层,所述发光器件层包括阵列排布的多个像素,每个像素包括至少两个子像素,所述可拉伸阵列基板还包括设置在各子像素之间的贯通至所述衬底的盲孔;
在所述发光器件层上形成封装层。
10.根据权利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述在所述驱动电路层上形成发光器件层进一步包括:
在所述驱动电路层上形成阳极;
在所述阳极上形成阵列排布的多个子像素,每个子像素包括像素界定层和由所述像素界定层限定的电致发光材料;
形成贯通所述像素界定层至所述衬底的多个盲孔;
形成覆盖所述像素界定层、电致发光材料和露出的衬底的阴极。
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