CN112509963B - 一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置及其检测方法 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 71
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 71
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 68
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 41
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 39
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 31
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 31
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 23
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 claims description 13
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 7
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N silicon;hydrate Chemical compound O.[Si] XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 18
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 17
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 14
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 8
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000861 blow drying Methods 0.000 description 3
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 3
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 3
- 238000007580 dry-mixing Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000007603 infrared drying Methods 0.000 description 3
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 3
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 235000007715 potassium iodide Nutrition 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 3
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 3
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 3
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 2
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N chromium trinitrate Chemical compound [Cr+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000252254 Catostomidae Species 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001050985 Disco Species 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume, or surface-area of porous materials
- G01N15/08—Investigating permeability, pore-volume, or surface area of porous materials
- G01N15/082—Investigating permeability by forcing a fluid through a sample
- G01N15/0826—Investigating permeability by forcing a fluid through a sample and measuring fluid flow rate, i.e. permeation rate or pressure change
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N7/00—Analysing materials by measuring the pressure or volume of a gas or vapour
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
Abstract
本发明属于真空吸盘技术领域,具体涉及一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置及其检测方法。所述多孔真空吸盘的自洁性检测装置,包括包括真空发生器,所述真空发生器有三个接口,分别连接第一连接管、第二连接管和第三连接管,第一连接管的末端与压缩空气过滤减压阀相连接,第二连接管的末端与大气相通,第三连接管的末端与多孔真空吸盘的抽气孔相连接;第三连接管上连接有电子压力计;压缩空气过滤减压阀通过第四连接管和空气压缩机相连接。采用本发明的检测装置和检测方法能够很好并准确的检测多孔真空吸盘的自洁性能。
Description
技术领域
本发明属于真空吸盘技术领域,具体涉及一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置及其检测方法。
背景技术
半导体芯片制程中,多孔真空吸盘作为固定各类晶圆片的承载工具,目前被广泛地使用。传统的多孔真空吸盘采用机械打孔的方式造孔,该类多孔真空吸盘虽然不易堵塞和粘污,但由于机械打孔的局限性,导致无法量产孔径小于500um的吸盘,因此无法吸附厚度薄于100um的晶圆片。目前流行的多孔真空陶瓷吸盘,其多孔吸附区域采用堆积成孔的方式,利用冷压或热压成型以及高温烧结制造多孔陶瓷吸附板。该类吸盘理论上可实现任意大小的气孔,且气孔率可调,但该类吸盘的多孔金属吸附板,由于内部纵横交错的贯通孔结构,实际使用过程中容易堵塞和沾污,且物理超声以及化学试剂清洗,效果并不明显;同时由于多孔陶瓷吸附板硬度大,晶圆吸附过程中容易产生划伤;并且该类吸盘售价较高,短时间内定期更换吸盘在较大程度上增加企业成本,造成资源浪费。
鉴于现有技术中各类真空吸盘存在的问题,需要提供一种自洁性多孔真空吸盘,那么如何对多孔真空吸盘的自洁性进行检测以及与现有的吸盘自洁性进行比较,需要设计专有的检测装置和方法。
发明内容
为了克服现有技术中的问题,本发明提供了一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置。该检测装置能够很好并准确的检测多孔真空吸盘的自洁性能。
本发明还提供了自洁性多孔真空吸盘自洁性的检测方法。
为实现上述目的,本发明的技术方案如下:
一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置,包括真空发生器,所述真空发生器有三个接口,分别连接第一连接管、第二连接管和第三连接管,第一连接管的末端与压缩空气过滤减压阀相连接,第二连接管的末端与大气相通,第三连接管的末端与多孔真空吸盘的抽气孔相连接;第三连接管上连接有电子压力计。
优选的,还包括空气压缩机;压缩空气过滤减压阀通过第四连接管和空气压缩机相连接(即压缩空气过滤减压阀的另一端与第四连接管相连,第四连接管的末端与空气压缩机相连接)。
采用上述自洁性检测装置检测多孔真空吸盘自洁性的方法,包括以下步骤:
1)所述多孔真空吸盘的多孔金属吸附板上表面设有第一塑料膜,然后在带有第一塑料膜的多孔金属吸附板上套设压环,接着在第一塑料膜上开设若干大小一致的孔,最后在所有孔上贴第二塑料膜以盖住孔,所有孔构成测试区域;
2)将其中一个孔上方的第二塑料膜揭开,其余非测试区域上端的孔仍需密封,然后读取电子压力计的示数,采用同样的方式依次测量其他测试区域,最后计算所有测试区域负压的平均值P1;
3)采用循环抽水工装将步骤1)的多孔真空吸盘固定,所述循环抽水工装置于装有复合镀液的盛水槽中;所述循环抽水工装由底座、设于底座侧壁的气动接头、抽水泵以及连接管组成;所述底座上表面的中部设有向上延伸的凸台,所述连接管将抽水泵与气动接头连接;凸台和底座的内部设有抽水通道,所述抽水通道由凸台顶部依次向下向气动接头处延伸,且与连接管和抽水泵相连通;
在盛水槽中装硅粉与水的混合液,其中,硅粉的质量分数为5-10%,硅粉粒度是1-50um;液体排出流量10L/min,抽水时间10-30min,此时硅粉会随着液体流动,进入多孔金属吸附板内部孔道结构中以及基座内部的沟槽以及抽气孔;
4)将多孔真空吸盘从循环抽水工装上取下来,依次将相应测试区域上方的第二塑料膜揭开,读取电子压力计的示数,计算所有测试区域负压的平均值P2,利用∆P=P2-P1作为判定多孔真空吸盘自洁性能的评价指标,其中∆P越小,说明真空吸盘自洁性能越好。
具体的,步骤1)中的压环为铜环或者铁环或者类似的环状物,只要能将第一塑料膜扣紧在多孔金属吸附板上即可。
优选的,进入第一连接管的压缩空气压力为0.6MPa。
优选的,所述第一塑料膜为紫外光固化塑料膜,第二塑料膜为胶带。
优选的,将凸台伸入多孔真空吸盘的抽气孔中以固定多孔真空吸盘。
所述多孔真空吸盘,包括基座以及设于基座上的多孔金属吸附板,所述基座中部设有沉台,多孔金属吸附板卡接于沉台内;所述基座的沉台中部设有贯穿基座的抽气孔,沉台上表面根据需要设有沟槽。
和现有技术相比,本发明的有益效果是:
1. 本发明提供了一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置和检测方法,实现了吸盘自洁性能的检测,能够充分地对真空吸盘性能进行评价;
2. 本发明实施例利用金属骨架磨料、低温合金结合剂以及少量造孔剂,采用粉末冶金的方法,制备多孔金属吸盘,造孔方式主要依靠的是类似微孔陶瓷吸附制备工艺中的堆积成孔的方式造孔,添加少量造孔剂的目的是提高孔隙率;
3. 本发明结合循环抽水工装,利用化学复合镀的方式,在多孔金属吸附板内部纵横交错的通道以及吸盘基座沉台上的十字交叉槽、环形凹槽和抽气孔表面均沉积了PTFE防粘涂层,制成防粘多孔材料,因此能够解决目前现有技术中多孔真空陶瓷吸盘微孔易堵塞且不易清洁的问题(多孔金属吸附板,是堆积的方式成孔,也就是堆积的时候颗粒之间的缝隙,形成气道),同时循环抽水工装也用于自洁性测试过程中;
4. 实施例中制备了多孔真空吸盘,在多孔金属吸附板表面的涂层为PTFE金属离子复合涂层,其表面电阻值处于105-109Ω,且硬度远低于多孔陶瓷吸附板,因此能够解决多孔真空陶瓷吸盘不防静电以及降低晶圆与吸盘因磨擦产生划伤风险问题;
5. 本发明实施例的多孔真空吸盘制备过程中,其吸附板所需的原材料、粘接助剂以及PTFE金属离子复合涂层都是导电的,实现了真正意义上的防静电功能;多孔金属吸附板与吸盘基座的材质均是金属材质,热膨胀系数比较接近,因此能够解决吸盘座为不锈钢材质的多孔陶瓷吸盘精度对温度敏感性过大问题,保证了真空吸盘高精度稳定性的实现。
附图说明
图1为本发明所述自洁性多孔真空吸盘的结构示意图;
图2为图1中的A-A剖视图;
图3为图2中B处的放大图;
图4为用于本发明PTFE金属离子复合涂层化学镀装置示意图;
图5为图4中底座的结构示意图;
图6为实施例1制备的多孔金属吸附板截面的SEM图;
图7为实施例1制备的自洁性多孔真空吸盘表面精密研磨后的表面孔洞结构微观形貌;
图8为实施例1制备的自洁性多孔真空吸盘自洁性能测试系统示意图;
图9为测试自洁性能过程中的真空金属吸盘表面结构;
图中:1为基座,2为多孔金属吸附板,3为十字交叉槽,4为抽气孔,5为不锈钢粉末,6为结合剂粉末,7为复合涂层,8为环形凹槽,9为复合镀液,10为多孔真空吸盘,11为搅拌桨,12为底座,121为抽水通道,122为气动接头,123为连接管,124为抽水泵,125为凸台,13为支架,14为空气压缩机,15为真空发生器,16为压缩空气过滤减压阀,17为电子压力计,181为第一连接管,182为第二连接管,183为第三连接管,184为第四连接管,19为胶带,20为不锈钢环,21为紫外光固化塑料膜。
具体实施方式
下面结合实施例和附图对本发明进行进一步说明,但并不是对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”、“横向”、“纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本发明的具体保护范围。
实施例1
如图1-3所示,本发明的自洁性多孔真空吸盘,包括基座1以及设于基座1上的多孔金属吸附板2,所述基座1中部设有沉台,多孔金属吸附板2卡接于沉台内;所述基座1的沉台中部设有贯穿基座1的抽气孔4,沉台上表面设有十字交叉槽3和两个沿竖直向下延伸的同心环形凹槽8,所述十字交叉槽3贯穿环形凹槽8和抽气孔4,且两个环形凹槽8与抽气孔4同心设置。
所述环形凹槽8、十字交叉槽3以及抽气孔4的内壁均设有复合涂层7,复合涂层7的厚度为3-5um。所述基座1上与多孔金属吸附板2相接触的部位涂有粘接助剂层。
本实施例自洁性多孔真空吸盘的制备方法,包括以下步骤:
(1)多孔金属吸附板的制备
①称取多孔金属吸附板所需物料:粒径为30um的球形321不锈钢粉末、20um的Cu-Zn合金粉(Cu:Zn=2:1)和粒径为10um碳酸氢铵,不锈钢粉末、合金粉和碳酸氢铵的质量比为1:0.3:0.1,然后将三种物料放入V型混料机中干混24h,得混合粉体A;
②向步骤①的混合粉体A中加入混合粉体A总体积5%的润湿剂甘油,手动顺时针搅拌10min,然后放入V型混料机中湿混2h,并过400目的不锈钢筛网3次,然后倒入直径为φ160的圆形淬火钢模具中,利用刮料板刮平,利用5Mpa的压力进行冷压成型,制成生胚;
③将步骤②的生胚放入箱式电阻炉中进行真空烧结,利用氩气进行气氛保护,以4℃/min速率从室温升至450℃保温2h,进行预烧;随后以2℃/min速率升温800℃保温3h,进行高温烧结;最后随炉冷却至室温,获得多孔金属吸附板;
(2)基座与多孔金属吸附板的组装
①用车床加工带有环形凹槽、十字交叉槽和抽气孔的基座,并根据多孔金属吸附板的尺寸配铣加工对应尺寸大小的沉台,配合间隙0.05;
②在加工好的基座表面用80号的刚玉砂进行喷砂前处理,并在沉台表面刷上一层厚度为0.1-0.15mm的导电粘接助剂,所述导电粘接助剂由双组份环氧树脂(厂家和型号为Araldite 138-998)和粒径为30um的银粒子按照质量比5:1,机械搅拌12h混合而成,然后将多孔金属吸附板镶嵌到沉台内,并在多孔金属板上施加1g/mm2的压力,保压3h,然后放入60℃的红外干燥箱中固化8h,即得多孔真空吸盘;最后将多孔真空吸盘上下两个面进行粗磨和研磨加工,保证多孔金属吸附板与不锈钢基座上表面等高,平面度≤0.01mm。
(3)对多孔真空吸盘镀复合镀液
①复合镀液的配制:将硫酸镍、次亚磷酸钠、络合剂乳酸、乙酸钠、碘化钾按质量比5:6:3:2:1,溶于30L去离子水中,搅拌10min,制成混合液A;然后以5g/L的比例加入黑色哑光PTFE颗粒,进行间歇式搅拌1h,每搅拌5min,停歇10min;最后加入稀硫酸溶液,调节pH到5.5,制成复合镀液B;
②将步骤(2)制备的多孔真空吸盘放入无水乙醇中,进行超声清洗30min;然后取出用气枪吹干,并放入10%的草酸溶液中侵蚀1min,最后取出吸盘用去离子水清洗干净;
③复合涂层的形成:将制成的复合镀液B置于恒温水浴锅中,预热至85℃,并将清洗后的多孔金属吸盘置于复合镀液B中,采用循环抽水工装固定多孔真空吸盘,通过调节抽水流速来控制单位时间内电镀液通过多孔真空吸盘的流量,恒温化学镀3h,在多孔金属吸附板2内部,抽气孔4、十字交叉槽3和同心环形凹槽8的表面形成复合涂层,即得自洁性多孔真空吸盘。
图4为本发明PTFE金属离子复合涂层化学镀装置示意图,本实施例在化学镀过程中使用的循环抽水工装如图4-5所示(循环抽水工装为图4中的一部分),所述循环抽水工装由带有抽水通道121的底座12(材质为PVC),安装在抽水通道121出口(出口位于底座12的右侧,即气动接头122安装在底座右侧面上)的气动接头122,抽水泵124以及连接管123(具体为PVC软管)组成,连接管123将抽水泵124与气动接头122连接;所述底座中部设有凸台125,所述抽水通道121始端向上延伸至凸台125顶部。需要说明的是,凸台125的高度低于抽气孔4的长度。
施镀前,先将凸台125伸入多孔真空吸盘10的抽气孔4中(凸台125起到固定和定位的作用),此时多孔真空吸盘10放置在底座12上,抽水通道121从凸台125顶部向下向右延伸至底座12的右侧面上。然后启动抽水泵124,复合镀液从多孔金属吸附板流经凸台125和底座12的抽水通道121,然后通过气动接头122排出到抽水泵124出水口,从而使复合镀液透过多孔真空吸盘10,对多孔金属吸附板内部通道以及吸盘座内部腔体结构进行施镀。
需要说明的是,所述抽水工装放置于一个盛水槽中,盛水槽中装入的复合镀液需要浸没过装有多孔真空吸盘的循环抽水工装,盛水槽中还设有搅拌桨11,搅拌桨11固定在支架13上,具体见图4。本实施例仅是对抽水工作作了限定,至于盛水槽、支架、搅拌桨等的设置采用本领域常规技术即可,并不仅限于图4中的情况。
图6为本实施例的多孔金属吸附板截面的SEM图,图7为本实施例制备的自洁性多孔真空吸盘表面精密研磨后的表面孔洞结构微观形貌,图6和图7说明了本实施例制备的金属吸附板,内部和表面具有纵横交错的贯通孔结构,且微孔分布均匀。
本实施例制备的多孔真空吸盘,其平均微孔尺寸为30-50um,孔隙率为35%,复合涂层的厚度为3-5um。
本发明的多孔真空吸盘,主要应用在半导体芯片制程中的切割、清洗以及减薄工序,均是有水环境,因此作业过程中,晶圆料屑会随着负压带动的水流从吸盘抽气通孔排除;同时,在多孔金属吸附板2内部纵横交错的通道以及吸盘基座1沉台上的十字交叉槽3、环形凹槽8和抽气孔4表面均沉积了复合涂层(起防粘作用),因此,本发明的吸盘具有很好的自洁性能。
本发明测试多孔真空吸盘自洁性能的装置,如图8-9所示,包括真空发生器15,所述真空发生器15有三个接口,分别连接第一连接管181、第二连接管182和第三连接管183,第一连接管181的末端与压缩空气过滤减压阀16相连接,第二连接管182的末端与大气相通,第三连接管183的末端与多孔真空吸盘10的抽气孔4相连接;第三连接管183上连接有电子压力计17;压缩空气过滤减压阀16通过第四连接管184和空气压缩机14连接。
所述多孔真空吸盘的多孔金属吸附板上表面套设贴有紫外光固化塑料膜21的不锈钢铁环20,在紫外光固化塑料膜21上开设9个大小为20mm×20mm的孔,9个孔均布在多孔金属吸附板2的“十字”中心线上,9个孔上面贴有软质透明胶带20;9个孔构成9个测试区域。
进入第一连接管181的压缩空气压力通过压缩空气过滤减压阀16调节为0.6MPa。
为了测试本实施例的多孔真空吸盘的自洁性能,模拟该类真空吸盘的实际使用环境,提出如下真空吸盘自洁性能评价方法,其步骤如下:
第一步:将贴有紫外光固化塑料膜21的不锈钢铁环20套设于多孔真空吸盘的多孔金属吸附板上,然后将多孔真空吸盘按照图8的结构与其他部件相连接,打开真空发生器15和空气压缩机14,依次将每个测试区域上方的透明胶带19揭开(每测试一个区域时,其余非测试区域上端的通口仍需密封),读取电子压力计17的示数,重复该步骤测完9个测试区域后,计算9个测试区域负压的平均值P1,最后取下多孔真空吸盘;
第二步:将图4盛水槽中的复合镀液9换成硅粉与水(硅粉的质量分数为5-10%)的混合液,其中硅粉粒度是1-50um;将第一步取下的多孔真空吸盘10放在图4的循环抽水工装上,固定方法同上述施镀过程;此时液体排出流量10L/min,抽水时间10-30min,该过程中硅粉会随着液体流动,进入多孔金属吸附板内部孔道结构中以及基座内部的环形凹槽、十字交叉槽以及抽气孔;
第三步:将第二步的多孔真空吸盘10从循环抽水工装12上取下来与测试多孔真空吸盘自洁性能的装置(结合图8)相连接,依次将每个测试区域上方的透明胶带19揭开(每次测试一个区域时,其余非测试区域上端的通口仍需密封),读取电子压力计17的示数,重复该步骤测完9个测试区域后,计算9个测试区域负压的平均值P2,利用∆P=P2-P1作为判定多孔真空吸盘自洁性能的评价指标,其中∆P越小,说明真空吸盘自洁性能越好。
理论上本发明制备的多孔金属吸附板,其表面透气微孔是均匀分布的。抽真空时,空气透过微孔吸附板,向里快速运动,由于空气运动时受到了非孔洞结构的阻挡,单位时间进气量小于抽气量,就会产生压差,此时就能通过电子压力计17记录下来其负压数值P1,该压差P1是多孔吸附板本征属性,是评价多孔吸附板透气性能好坏的技术指标。当多孔金属吸附板,其孔洞结构发生堵塞,气体透过时,非孔洞结构的阻挡就会变大,压差就会变大,测试的负压值P随之发生变化,因此只要计算出堵塞前后的∆P,就能评价多孔吸附板的自洁性能(防堵塞能力)。为了测试的结果具有真实可靠性,需要在整个多孔金属吸附板上取均布的多个区域,进行测试数据的加权平均。
利用上述多孔真空吸盘自洁性能测试方法,采用硅粉粒度为2um质量分数5%的硅水混合液对本实施例制备的自洁性多孔真空吸盘进行自洁性测试, 9个区域的负压数值(单位Kpa)分别为18、19、20、21、19、20、18、19、21,平均值为19.4;孔径30-50um孔隙率35%的常规多孔陶瓷吸盘(厂家和型号为Disco的晶圆切割吸盘)作为对比例,用同样的评价方法测试9个区域的负压数值分别36、38、40、38、37、41、38、40、38,平均值为38.4;其中两种吸盘未浸渍到硅水混合液时,测试的平均负压数值为17。对上述数据进行加权平均,本实施例制备的自洁性多孔真空吸盘,其∆P为2.4,而常规多孔陶瓷吸盘其∆P为21.4。由上述测试结果,能够看出本发明中的多孔真空吸盘防沾污防堵塞能力明显强于常规多孔真空陶瓷吸盘,具有良好的自洁性能。
实施例2
本实施例与实施例1的不同之处在于,复合涂层的厚度为8-10um。
本实施例自洁性多孔真空吸盘的制备方法,包括以下步骤:
(1)多孔金属吸附板的制备
①称取多孔金属吸附板所需物料:粒径为30um的球形321不锈钢粉末、20um的Cu-Al合金粉(Cu:Al=1:1)和粒径为10umPMMA,不锈钢粉末、合金粉和PMMA的质量比为1:0.1:0.2,然后将三种物料放入V型混料机中干混24h,得混合粉体A;
②向步骤①的混合粉体A中加入混合粉体A总体积10%的润湿剂水,手动顺时针搅拌10min,然后放入V型混料机中湿混2h,并过400目的不锈钢筛网3次,然后倒入直径为φ160的圆形淬火钢模具中,利用刮料板刮平,利用20Mpa的压力进行冷压成型,制成生胚;
③将步骤②的生胚放入箱式电阻炉中进行真空烧结,利用氩气进行气氛保护,以2℃/min速率从室温升至350℃保温4h,进行预烧;随后以2℃/min速率升温1000℃保温3h,进行高温烧结;最后随炉冷却至室温,获得多孔金属吸附板;
(2)基座与多孔金属吸附板的组装
①用车床加工带有环形凹槽、十字交叉槽和抽气孔的基座,并根据多孔金属吸附板的尺寸配铣加工对应尺寸大小的沉台,配合间隙0.05;
②在加工好的基座表面用80号的刚玉砂进行喷砂前处理,并在沉台表面刷上一层厚度为0.1-0.15mm的导电粘接助剂,所述导电粘接助剂由双组份环氧树脂(厂家和型号为Araldite 138-998)和粒径为30um的铜粒子按照质量比3:1,机械搅拌12h混合而成,然后将多孔金属吸附板镶嵌到沉台内,并在多孔金属板上施加0.5g/mm2的压力,保压5h,然后放入80℃的红外干燥箱中固化2h,即得多孔真空吸盘;最后将多孔真空吸盘上下两个面进行粗磨和研磨加工,保证多孔金属吸附板与不锈钢基座上表面等高,平面度≤0.01mm。
(3)对多孔真空吸盘镀复合镀液
①复合镀液的配制:将硝酸铬、次亚磷酸钠、络合剂乳酸、乙酸钠、碘化钾按质量比1:2:3:2:1,溶于30L去离子水中,搅拌30min,制成混合液A;然后以3g/L的比例加入黑色哑光PTFE颗粒,进行间歇式搅拌1h,每搅拌5min,停歇10min;最后加入稀硫酸溶液,调节pH到5.5,制成复合镀液B;
②将步骤(2)制备的多孔真空吸盘放入无水乙醇中,进行超声清洗30min;然后取出用气枪吹干,并放入10%的草酸溶液中侵蚀1min,最后取出吸盘用去离子水清洗干净;
③复合涂层的形成:将制成的复合镀液B置于恒温水浴锅中,预热至70℃,并将清洗后的多孔金属吸盘置于复合镀液B中,采用循环抽水工装固定多孔真空吸盘,通过调节抽水流速来控制单位时间内电镀液通过多孔真空吸盘的流量,恒温化学镀1h,在多孔金属吸附板2内部,抽气孔4、十字交叉槽3和同心环形凹槽8的表面形成复合涂层,即得自洁性多孔真空吸盘。
实施例3
本实施例与实施例1的不同之处在于,复合涂层的厚度为5-7um。
本实施例自洁性多孔真空吸盘的制备方法,包括以下步骤:
(1)多孔金属吸附板的制备
①称取多孔金属吸附板所需物料:粒径为30um的球形321不锈钢粉末、20um的Fe-Cu合金粉(Fe:Cu=3:1)和粒径为10um淀粉,不锈钢粉末、合金粉和淀粉的质量比为1:0.4:0.3,然后将三种物料放入V型混料机中干混24h,得混合粉体A;
②向步骤①的混合粉体A中加入混合粉体A总体积7.5%的润湿剂丙二醇,手动顺时针搅拌30min,然后放入V型混料机中湿混6h,并过400目的不锈钢筛网3次,然后倒入直径为φ160的圆形淬火钢模具中,利用刮料板刮平,利用10Mpa的压力进行冷压成型,制成生胚;
③将步骤②的生胚放入箱式电阻炉中进行真空烧结,利用氩气进行气氛保护,以3℃/min速率从室温升至550℃保温1h,进行预烧;随后以3℃/min速率升温750℃保温5h,进行高温烧结;最后随炉冷却至室温,获得多孔金属吸附板;
(2)基座与多孔金属吸附板的组装
①用车床加工带有环形凹槽、十字交叉槽和抽气孔的基座,并根据多孔金属吸附板的尺寸配铣加工对应尺寸大小的沉台,配合间隙0.05;
②在加工好的基座表面用80号的刚玉砂进行喷砂前处理,并在沉台表面刷上一层厚度为0.1-0.15mm的导电粘接助剂,所述导电粘接助剂由双组份环氧树脂(厂家和型号为Araldite 138-998)和粒径为30um的石墨粒子按照质量比4:1,机械搅拌12h混合而成,然后将多孔金属吸附板镶嵌到沉台内,并在多孔金属板上施加0.75g/mm2的压力,保压1h,然后放入50℃的红外干燥箱中固化6h,即得多孔真空吸盘;最后将多孔真空吸盘上下两个面进行粗磨和研磨加工,保证多孔金属吸附板与不锈钢基座上表面等高,平面度≤0.01mm。
(3)对多孔真空吸盘镀复合镀液
①复合镀液的配制:将氯化铁、次亚磷酸钠、络合剂乳酸、乙酸钠、碘化钾按质量比6:8:3:2:1,溶于30L去离子水中,搅拌40min,制成混合液A;然后以10g/L的比例加入黑色哑光PTFE颗粒,进行间歇式搅拌1h,每搅拌5min,停歇10min;最后加入稀硫酸溶液,调节pH到5.5,制成复合镀液B;
②将步骤(2)制备的多孔真空吸盘放入无水乙醇中,进行超声清洗30min;然后取出用气枪吹干,并放入10%的草酸溶液中侵蚀1min,最后取出吸盘用去离子水清洗干净;
③复合涂层的形成:将制成的复合镀液B置于恒温水浴锅中,预热至90℃,并将清洗后的多孔金属吸盘置于复合镀液B中,采用循环抽水工装固定多孔真空吸盘,通过调节抽水流速来控制单位时间内电镀液通过多孔真空吸盘的流量,恒温化学镀3h,在多孔金属吸附板2内部,抽气孔4、十字交叉槽3和同心环形凹槽8的表面形成复合涂层,即得自洁性多孔真空吸盘。
Claims (5)
1.一种自洁性检测装置检测多孔真空吸盘自洁性的方法,其特征在于,所述自洁性检测装置包括真空发生器,所述真空发生器有三个接口,三个接口分别与第一连接管、第二连接管和第三连接管相连,第一连接管的末端与压缩空气过滤减压阀相连接,第二连接管的末端与大气相通,第三连接管的末端与多孔真空吸盘的抽气孔相连接;第三连接管上连接有电子压力计,所述多孔真空吸盘包括基座以及设于基座上的多孔金属吸附板,所述基座中部设有沉台,多孔金属吸附板卡接于沉台内;所述基座的沉台中部设有贯穿基座的抽气孔;
所述方法包括以下步骤:
1)所述多孔真空吸盘的多孔金属吸附板上表面设有第一塑料膜,然后在带有第一塑料膜的多孔金属吸附板上套设压环,接着在第一塑料膜上开设若干大小一致的孔,最后在所有孔上贴第二塑料膜以盖住孔,所有孔构成测试区域;
2)将其中一个孔上方的第二塑料膜揭开,其余非测试区域上端的孔仍需密封,然后读取电子压力计的示数,采用同样的方式依次测量其他测试区域,最后计算所有测试区域负压的平均值P1;
3)采用循环抽水工装将步骤1)的多孔真空金属吸盘固定,所述循环抽水工装置于装有复合镀液的盛水槽中;所述循环抽水工装由底座、设于底座侧壁的气动接头、抽水泵以及连接管组成;所述底座上表面的中部设有向上延伸的凸台,所述连接管将抽水泵与气动接头连接;凸台和底座的内部设有抽水通道,所述抽水通道由凸台顶部依次向下向气动接头处延伸,且与连接管和抽水泵相连通;
在盛水槽中装硅粉与水的混合液,其中,硅粉的质量分数为5-10%,硅粉粒度是1-50um;液体排出流量10L/min,抽水时间10-30min,此时硅粉会随着液体流动,进入多孔金属吸附板内部孔道结构中以及基座内部的沟槽以及抽气孔中;
4)将多孔真空金属吸盘从循环抽水工装上取下来,依次将相应测试区域上方的第二塑料膜揭开,读取电子压力计的示数,计算所有测试区域负压的平均值P2,利用∆P=P2-P1作为判定多孔真空吸盘自洁性能的评价指标,其中∆P越小,说明真空吸盘自洁性能越好。
2.根据权利要求1所述检测多孔真空吸盘自洁性的方法,其特征在于,所述自洁性检测装置还包括空气压缩机;所述压缩空气过滤减压阀通过第四连接管和空气压缩机相连接。
3.根据权利要求1所述检测多孔真空吸盘自洁性的方法,其特征在于,进入第一连接管的压缩空气压力为0.6MPa。
4.根据权利要求1所述检测多孔真空吸盘自洁性的方法,其特征在于,所述第一塑料膜为紫外光固化塑料膜,第二塑料膜为胶带。
5.根据权利要求1所述检测多孔真空吸盘自洁性的方法,其特征在于,将凸台伸入多孔真空金属吸盘的抽气孔中以固定多孔真空金属吸盘。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011192815.6A CN112509963B (zh) | 2020-10-30 | 2020-10-30 | 一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置及其检测方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112509963A CN112509963A (zh) | 2021-03-16 |
CN112509963B true CN112509963B (zh) | 2024-03-22 |
Family
ID=74956048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011192815.6A Active CN112509963B (zh) | 2020-10-30 | 2020-10-30 | 一种多孔真空吸盘的自洁性检测装置及其检测方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112509963B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116377548B (zh) * | 2023-06-02 | 2023-08-22 | 苏州尊恒半导体科技有限公司 | 一种晶圆均匀电镀设备 |
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TW201508814A (zh) * | 2013-08-27 | 2015-03-01 | Toshiba Kk | 檢查裝置及檢查方法 |
CN111220524A (zh) * | 2020-01-19 | 2020-06-02 | 福建龙净环保股份有限公司 | 一种多孔过滤材料透气性测试装置及方法 |
CN210938452U (zh) * | 2019-11-06 | 2020-07-07 | 平凉市老兵科技研发有限公司 | 一种用于减薄机的真空吸盘 |
CN211626838U (zh) * | 2020-01-21 | 2020-10-02 | 天津市通达广源科技发展有限公司 | 一种陶瓷真空气密性测试装置 |
-
2020
- 2020-10-30 CN CN202011192815.6A patent/CN112509963B/zh active Active
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CN211626838U (zh) * | 2020-01-21 | 2020-10-02 | 天津市通达广源科技发展有限公司 | 一种陶瓷真空气密性测试装置 |
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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