CN112466811A - 一种镀铜膜触摸屏制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明申请公开了一种镀铜膜触摸屏的制备方法，通过磁控溅射镀膜机将铜离子按照治具上的图案电镀到ITO导电膜上，形成ITO导电层加镀铜层的双层导电膜，使用激光设备在双层导电膜上刻蚀相关的导电线路，使用OCA胶用贴合设备将两块刻蚀线路完毕的双层导电膜贴合在一起，即可形成电容式触控屏；本镀铜膜触摸屏的制备方法通过治具和镀铜膜设备直接将所需的铜膜图案电镀到导电膜上，能够有效减小铜膜的刻蚀量，加快生产效率，然后使用激光蚀刻设备蚀刻导电线路；本制备方法无需使用化学蚀刻液生产触摸屏，能够有效避免由于蚀刻液所带来的污染；同时本制备方法能够有效简化触摸屏的生产工序，既能够降低生产设备的投入，也能够有效降低触摸屏的生产成本。

Description

一种镀铜膜触摸屏制备方法
技术领域
本发明涉及触摸屏领域，具体涉及一种镀铜膜触摸屏制备方法。
背景技术
传统的电容式触摸屏的生产过程中是要使用化学蚀刻液对导电膜进行蚀刻，这种电容式触摸屏的生产方式在生产过程中由于需要用到化学药剂，这些化学药剂会产生大量的污染，严重影响环保；且这中的电容式触摸屏的生产工艺对生产车间要求较高，生产的设备的投入成本较大；且配套的设备较多，对于水电的消耗也较大，最终导致使用这种工艺生产的电容式触摸屏的生产成本较高。
发明内容
本发明意在提供一种无污染、低成本的镀铜膜触摸屏的制备方法。
为达到以上目的，提供如下方案：
一种镀铜触摸屏的制备方法，具体生产步骤如下：
S1.镀有ITO导电层的ITO导电膜卷料安装到裁切机上按照实际的生产需求裁切成所需尺寸的片材；
S2.将ITO导电膜放置到烤箱中进行烘烤老化，烤箱的烘烤温度为100-150摄氏度，老化时间为30至60分钟；
S3.按照所需的镀铜图案生产好治具，治具的精度误差在30微米内，将老化好的片材安装到治具中；
S4.将安装好片材的治具安装到磁控溅射镀膜机中，通入氩气，磁控溅射镀膜机使得氩气的磁场作用下，定向轰击铜靶，将铜离子按照治具上的图案电镀到ITO导电膜上，形成ITO导电层加镀铜层的双层导电膜；
S5.将双层导电膜从治具中拆卸下来，根据客户产品线路的设计要求，在双层导电膜的镀铜区域处使用功率为60-70焦耳的激光蚀刻出导电线路；并在双层导电膜为镀铜区域内，使用40-50焦耳的激光蚀刻出客户所需的图案；
S6.使用经过提纯过滤后的纯水将蚀刻完毕的双层导电膜进行清洗并烤干，满足双层导电膜的洁净度要求；
S7.将生产好的两块双层导电膜，使用OCA胶用贴合设备贴合在一起，形成电容式触控屏的片材产品；
S8.将电容式触控屏产品的片材，通过切割机分割成一个个独立的电容式触摸屏产品。
本发明的工作原理及优点在于：本镀铜膜触摸屏的制备方法通过治具和镀铜膜设备直接将所需的铜膜图案电镀到导电膜上，能够有效减小铜膜的刻蚀量，加快生产效率，然后使用激光蚀刻设备蚀刻导电线路，无需蚀刻液对多余部分的动进行蚀刻；本制备方法无需使用化学蚀刻液生产触摸屏，能够有效避免由于蚀刻液所带来的污染；同时本制备方法能够有效简化触摸屏的生产工序，既能够降低生产设备的投入，也能够有效降低触摸屏的生产成本。
具体实施方式
下面通过具体实施方式进一步详细的说明：
实施例一：
一种镀铜触摸屏的制备方法，具体生产步骤如下：
S1.镀有ITO导电层的ITO导电膜卷料安装到裁切机上按照实际的生产需求裁切成所需尺寸的片材；
S2.将ITO导电膜放置到烤箱中进行烘烤老化，烤箱的烘烤温度为100摄氏度，老化时间为30分钟；
S3.按照所需的镀铜图案生产好治具，治具的精度误差在30微米内，将老化好的片材安装到治具中；
S4.将安装好片材的治具安装到磁控溅射镀膜机中，通入氩气，磁控溅射镀膜机使得氩气的磁场作用下，定向轰击铜靶，将铜离子按照治具上的图案电镀到ITO导电膜上，形成ITO导电层加镀铜层的双层导电膜；
S5.将双层导电膜从治具中拆卸下来，根据客户产品线路的设计要求，在双层导电膜的镀铜区域处使用功率为60焦耳的激光蚀刻出导电线路；并在双层导电膜为镀铜区域内，使用40焦耳的激光蚀刻出客户所需的图案；
S6.使用经过提纯过滤后的纯水将蚀刻完毕的双层导电膜进行清洗并烤干，满足双层导电膜的洁净度要求；
S7.将生产好的两块双层导电膜，使用OCA胶用贴合设备贴合在一起，形成电容式触控屏的片材产品；
S8.将电容式触控屏产品的片材，通过切割机分割成一个个独立的电容式触摸屏产品。
本镀铜膜触摸屏的制备方法通过治具和镀铜膜设备直接将所需的铜膜图案电镀到导电膜上，能够有效减小铜膜的刻蚀量，加快生产效率，然后使用激光蚀刻设备蚀刻导电线路，无需蚀刻液对多余部分的动进行蚀刻；本制备方法无需使用化学蚀刻液生产触摸屏，能够有效避免由于蚀刻液所带来的污染；同时本制备方法能够有效简化触摸屏的生产工序，既能够降低生产设备的投入，也能够有效降低触摸屏的生产成本。
实施例二：
一种镀铜触摸屏的制备方法，具体生产步骤如下：
S1.镀有ITO导电层的ITO导电膜卷料安装到裁切机上按照实际的生产需求裁切成所需尺寸的片材；
S2.将ITO导电膜放置到烤箱中进行烘烤老化，烤箱的烘烤温度为130摄氏度，老化时间为45分钟；
S3.按照所需的镀铜图案生产好治具，治具的精度误差在30微米内，将老化好的片材安装到治具中；
S4.将安装好片材的治具安装到磁控溅射镀膜机中，通入氩气，磁控溅射镀膜机使得氩气的磁场作用下，定向轰击铜靶，将铜离子按照治具上的图案电镀到ITO导电膜上，形成ITO导电层加镀铜层的双层导电膜；
S5.将双层导电膜从治具中拆卸下来，根据客户产品线路的设计要求，在双层导电膜的镀铜区域处使用功率为65焦耳的激光蚀刻出导电线路；并在双层导电膜为镀铜区域内，使用50焦耳的激光蚀刻出客户所需的图案；
S6.使用经过提纯过滤后的纯水将蚀刻完毕的双层导电膜进行清洗并烤干，满足双层导电膜的洁净度要求；
S7.将生产好的两块双层导电膜，使用OCA胶用贴合设备贴合在一起，形成电容式触控屏的片材产品；
S8.将电容式触控屏产品的片材，通过切割机分割成一个个独立的电容式触摸屏产品。
本镀铜膜触摸屏的制备方法通过治具和镀铜膜设备直接将所需的铜膜图案电镀到导电膜上，能够有效减小铜膜的刻蚀量，加快生产效率，然后使用激光蚀刻设备蚀刻导电线路，无需蚀刻液对多余部分的动进行蚀刻；本制备方法无需使用化学蚀刻液生产触摸屏，能够有效避免由于蚀刻液所带来的污染；同时本制备方法能够有效简化触摸屏的生产工序，既能够降低生产设备的投入，也能够有效降低触摸屏的生产成本。
以上所述仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述，所属领域普通技术人员知晓申请日或者优先权日之前发明所属技术领域所有的普通技术知识，能够获知该领域中所有的现有技术，并且具有应用该日期之前常规实验手段的能力，所属领域普通技术人员可以在本申请给出的启示下，结合自身能力完善并实施本方案，一些典型的公知结构或者公知方法不应当成为所属领域普通技术人员实施本申请的障碍。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的适用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

Claims (1)

1.一种镀铜触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤如下：
S1.镀有ITO导电层的ITO导电膜卷料安装到裁切机上按照实际的生产需求裁切成所需尺寸的片材；
S2.将ITO导电膜放置到烤箱中进行烘烤老化，烤箱的烘烤温度为100-150摄氏度，老化时间为30至60分钟；
S3.按照所需的镀铜图案生产好治具，治具的精度误差在30微米内，将老化好的片材安装到治具中；
S4.将安装好片材的治具安装到磁控溅射镀膜机中，通入氩气，磁控溅射镀膜机使得氩气的磁场作用下，定向轰击铜靶，将铜离子按照治具上的图案电镀到ITO导电膜上，形成ITO导电层加镀铜层的双层导电膜；
S5.将双层导电膜从治具中拆卸下来，根据客户产品线路的设计要求，在双层导电膜的镀铜区域处使用功率为60-70焦耳的激光蚀刻出导电线路；并在双层导电膜为镀铜区域内，使用40-50焦耳的激光蚀刻出客户所需的图案；
S6.使用经过提纯过滤后的纯水将蚀刻完毕的双层导电膜进行清洗并烤干，满足双层导电膜的洁净度要求；
S7.将生产好的两块双层导电膜，使用OCA胶用贴合设备贴合在一起，形成电容式触控屏的片材产品；
S8.将电容式触控屏产品的片材，通过切割机分割成一个个独立的电容式触摸屏产品。
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