CN112420943A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

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CN112420943A
CN112420943A CN202011238105.2A CN202011238105A CN112420943A CN 112420943 A CN112420943 A CN 112420943A CN 202011238105 A CN202011238105 A CN 202011238105A CN 112420943 A CN112420943 A CN 112420943A
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display panel
groove
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auxiliary electrode
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杜中辉
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Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Abstract

本申请提供一种显示面板及其制作方法,所述显示面板包括:基板;位于所述基板上的像素定义层,所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块;每一所述像素定义块远离所述基板的一侧设有一凹槽,所述凹槽内设有一辅助电极;其中,所述凹槽的底面具有亲水性,所述凹槽的内侧面具有疏水性。该方案能够调控辅助电极的线宽和形貌,有效改善电压降问题,进而提高显示面板的显示亮度均一性。

Description

显示面板及其制作方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
有机电致发光器件(OLED,Organic Light-Emitting Diode)以其自发光、全固态、高对比等优点,成为近年来最具潜力的新型显示器件。在大尺寸OLED应用领域,由于电极的阴极压降逐渐加重,导致显示面板中心发暗、显示亮度不均。为了减小电压降,通常会在子像素区域外设置辅助电极,阴极与辅助电极相连,相当于在阴极上并联了一个电阻,从而降低阴极的电阻值。
现有技术中,通常在顶发射OLED器件的像素定义层上增设辅助电极,但是辅助电极的线宽及形貌难以控制,导致电压降改善效果不佳。
发明内容
本申请提供一种显示面板及其制作方法,以解决现有技术中辅助电极的线宽及形貌难以控制,导致电压降改善效果不佳的技术问题。
本申请提供一种显示面板,其包括:
基板;
位于所述基板上的像素定义层,所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块;所述像素定义块远离所述基板的一侧设有一凹槽,所述凹槽内设有一辅助电极;其中,
所述凹槽的底面具有亲水性,所述凹槽的内侧面具有疏水性。
在本申请提供的显示面板中,所述像素定义块包括层叠设置的第一层和第二层,所述第一层为亲水性材料,所述第二层为疏水性材料;
所述凹槽贯穿所述第二层,并延伸至所述第一层。
在本申请提供的显示面板中,所述第二层完全覆盖所述第一层的顶面以及外侧面。
在本申请提供的显示面板中,所述第二层完全覆盖或部分覆盖所述第一层的顶面。
在本申请提供的显示面板中,所述像素定义块包括第一部分和第二部分,所述第一部分为疏水性材料,所述第二部分为亲水性材料;
所述第一部分设置有所述凹槽,所述第二部分位于所述凹槽底部。
在本申请提供的显示面板中,靠近所述显示面板中心的所述凹槽的深度大于远离所述显示面板中心的所述凹槽的深度。
在本申请提供的显示面板中,所述显示面板还包括:
层叠设置在相邻所述像素定义块之间的空穴注入层、空穴传输层以及发光层;
设置在所述发光层以及所述像素定义块上的电子传输层;以及
设置在所述电子传输层上的阴极;其中,
所述电子传输层上设置有多个过孔,每一所述辅助电极通过相应所述过孔与所述阴极电性连接。
在本申请提供的显示面板中,靠近所述显示面板中心的所述过孔的开口面积大于远离所述显示面板中心的所述过孔的开口面积。
在本申请提供的显示面板中,所述辅助电极的材料为钼、铝、铜或者纳米银。
相应的,本申请提供一种显示面板的制作方法,其包括:
提供一基板;
在所述基板上形成像素定义层,所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块;
在所述像素定义块远离所述基板的一侧形成一凹槽,所述凹槽的底面具有亲水性,所述凹槽的内侧面具有疏水性;
在所述凹槽内形成一辅助电极。
本申请提供一种显示面板及其制作方法,所述显示面板包括一基板以及设置于所述基板上的像素定义层,所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块,每一所述像素定义块上设置有一凹槽,所述凹槽内设置有一辅助电极,其中,凹槽的底面具有亲水性,凹槽的内侧面具有疏水性,利用凹槽底面的亲水性,使得辅助电极在成膜时膜面更加均匀,利用凹槽内侧面的疏水性限制辅助电极的铺展,能够调控辅助电极的线宽和形貌,有效改善电压降问题,进而提高显示面板的显示亮度均一性。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请提供的显示面板的平面示意图;
图2是本申请提供的显示面板的第一结构示意图;
图3是本申请提供的显示面板的第二结构示意图;
图4是本申请提供的显示面板的第三结构示意图;
图5是本申请提供的显示面板的第四结构示意图;
图6是本申请提供的显示面板的第五结构示意图;
图7是本申请提供的显示面板的制作方法的流程示意图;
图8是本申请提供的显示面板的部分制作过程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“内”、“外”、“顶面”以及“一侧”指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”和“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”和“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征,因此不能理解为对本申请的限制。
请参阅图1,图1是本申请提供的显示面板的平面示意图。如图1所示,显示面板包括显示区域1和围绕显示区域1设置的非显示区2,非显示区2设置有驱动电路以及公共电压走线(图中未标示)。在现有技术中,显示面板的尺寸越大,其在工作时,电极的阴极压降越严重,并且越靠近显示面板中心,距离阴极接口越远,亮度越暗,使得用户视觉效果较差。基于此,本申请提出了一种显示面板及其制作方法。
请参阅图2,图2是本申请提供的显示面板的第一结构示意图,如图2所示,该显示面板包括:基板10;位于基板10上的像素定义层30;像素定义层30包括多个间隔设置的像素定义块31;像素定义块31远离基板10的一侧设有一凹槽310;凹槽310内设有一辅助电极40;其中,凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的内侧面310b具有疏水性。
其中,像素定义块31可以由疏水性材料和亲水性材料组合形成,以使得凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的内侧面310b具有疏水性。在一些实施例中,也可以通过对凹槽310的底面310a进行亲水性修饰或者对凹槽310的内侧面310b进行疏水性修饰,以使得凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的内侧面310b具有疏水性。其中,亲水性材料可以是具有亲水性的树脂材料,疏水性材料可以是具有疏水性的树脂材料。
其中,基板10可以为玻璃基板、石英基板、树脂基板、PI柔性基板(聚酰亚胺薄膜,Polyimide Film)或其他类型基板,在此不一一赘述。
其中,辅助电极40的材料为钼、铝、铜或者纳米银等导电性优异的金属材料。本申请以下各实施例以纳米银为例进行介绍,但不能理解为对本申请的限制。
此外,基板10靠近像素定义层30的一侧上还设置有薄膜晶体管层20。薄膜晶体管层20的具体结构为本领域的普通技术人员熟知的技术,在此不再赘述。
本申请在像素定义块31上设置凹槽310,并在凹槽310内设置辅助电极40。其中,凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的内侧面310b具有疏水性,具有亲水性的底面310a使得辅助电极40在成膜时膜面更加均匀,具有疏水性的内侧面310b限制了辅助电极40的铺展,防止辅助电极40沿着内侧面310b爬升或溢出像素定义块31,从而能够调控辅助电极40的线宽和形貌,有效改善电压降问题,进而提高显示面板的显示亮度均一性。
需要说明的是,在本申请一实施例中,显示面板上的每一像素定义块31上均设置有凹槽310。通过在每一像素定义块31中对应设置辅助电极40,每一辅助电极40与阴极连接,可以整体上减小阴极的电压降,进而改善显示面板的显示效果。
在本申请另一实施例中,靠近显示面板中心的辅助电极40的数量密度大于远离显示面板中心的辅助电极40的数量密度。由于显示面板中心离阴极接口较远,长距离的电流传输会使阴极分压增大,从而造成显示面板中心亮度较弱。因此,越靠近显示面板中心,辅助电极40的数量密度越大,可以进一步降低显示面板中心处的电压降,从而提高显示面板的显示亮度均一性。
此外,在本申请一实施例中,靠近显示面板中心的凹槽310的深度大于远离显示面板中心的凹槽310的深度。由于显示面板中心离阴极接口较远,长距离的电流传输会使阴极分压增大,从而造成显示面板中心亮度较弱。因此,越靠近显示面板中心,凹槽310的深度越大,其内形成的辅助电极40的电阻越小,可以进一步降低显示面板中心处的电压降,进而提高显示面板的显示亮度一致性。
请参阅图3,图3是本申请提供的显示面板的第二结构示意图。如图3所示,像素定义块31包括层叠设置的第一层311和第二层312。第一层311为亲水性材料。第二层312为疏水性材料。凹槽310贯穿第二层312,并延伸至第一层311。
具体的,第一层311为亲水性材料,第二层312为疏水性材料,使得凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的侧面310b具有疏水性,具有亲水性的底面310a使得辅助电极40在成膜时膜面更加均匀,具有疏水性的内侧面310b限制了辅助电极40的铺展,防止辅助电极40沿着内侧面310b爬升或溢出像素定义块31,从而能够改善及调控辅助电极40的线宽和形貌,使得辅助电极40的电阻阻值更小,更好的改善电压降问题。
进一步的,在本申请实施例中,第二层312完全覆盖第一层311的顶面311a以及外侧面311b。可以理解的是,若利用喷墨打印技术在相邻像素定义块31之间的开口处打印形成发光功能层(请参阅图5)时,由于第一层311为亲水性材料,发光功能层材料可能沿着第一层311的外侧面311b爬升,甚至溢出像素定义块31,造成发光功能层的厚度的均匀性变差,进而影响像素的发光亮度。由于第二层312为疏水性材料,并完全覆盖第一层311的外侧面311b,可以有效抑制发光功能层材料沿着第一层311的外侧面311b爬升,进而提高像素的发光亮度均匀性。
请参阅图4,图4是本申请提供的显示面板的第三结构示意图。如图4所示,与图3所示的显示面板的不同之处在于,本申请实施例提供的显示面板中的第二层312完全覆盖或部分覆盖第一层311的顶面311a。由于第二层312未覆盖第一层311的外侧面311b,有效增加了相邻像素定义块31之间的开口面积,进而可以提高显示面板的显示亮度。
请参阅图5,图5是本申请提供的显示面板的第四结构示意图。如图5所示,像素定义块31包括第一部分313和第二部分314。第一部分313为疏水性材料。第二部分314为亲水性材料。第一部分313设置有凹槽310,第二部分314位于凹槽310底部。
具体的,由于第一层313为疏水性材料,通过在第一层313中设置凹槽310,使得凹槽310的内侧面310b具有疏水性,从而限制辅助电极40的铺展,防止辅助电极40沿着内侧面310b爬升溢出像素定义块31;同时在凹槽310的底部设置第二层314,由于第二层314为亲水性材料,使得凹槽310的底面310b具有亲水性,使得辅助电极40在成膜时膜面更加均匀;从而达到改善及调控辅助电极40的线宽和形貌的效果,进一步减小辅助电极40的电阻。
请参阅图6,图6是本申请提供的显示面板的第五结构示意图。如图6所示,显示面板还包括:层叠设置在相邻像素定义块31之间的空穴注入层51、空穴传输层52以及发光层53;设置在发光层53以及像素定义块31上的电子传输层54;以及设置在电子传输层54上的阴极55;其中,电子传输层54上设置有多个过孔540,每一辅助电极40通过相应过孔540与阴极55电性连接。其中,阴极55为阴极。
具体的,在保证电子传输层54的功能完整性的同时,过孔540的开口面积越大越好。可以理解的是,过孔540的开口面积越大,阴极55与辅助电极40的接触面积越大,则阴极55和辅助电极40的总电阻就越小,能够更好的改善电压降问题。
进一步的,在一些实施例中,靠近显示面板中心的过孔540的开口面积大于远离显示面板中心的过孔540的开口面积。由于显示面板中心离阴极接口较远,长距离的电流传输会使阴极分压增大,从而造成显示面板中心亮度较弱。因此,越靠近显示面板中心,过孔540的开口面积越大,阴极55与辅助电极40的接触面积越大,阴极55和辅助电极40的总电阻就越小,可以进一步降低显示面板中心处的电压降,进而提高显示面板的显示亮度均一性。
相应的,请参阅图2和图7,本申请还提供一种显示面板的制作方法,以形成上述各实施例介绍的显示面板。如图7所示,该制作方法包括以下步骤:
101、提供一基板;
102、在基板上形成像素定义层,像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块;
103、在像素定义块远离基板的一侧形成一凹槽,凹槽的底面具有亲水性,凹槽的内侧面具有疏水性;
104、在凹槽内形成一辅助电极。
本申请通过在像素定义块31上形成一凹槽310,并在凹槽310内设置一辅助电极40;其中,凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的内侧面310b具有疏水性。利用底面310a的亲水性,使得辅助电极40在成膜时膜面更加均匀;利用内侧面310b的疏水性限制辅助电极40的铺展,防止辅助电极40沿着内侧面310b爬升溢出像素定义块31,能够调控辅助电极的线宽和形貌,有效改善电压降问题,进而提高显示面板的显示亮度均一性。
现结合具体实施例对本申请的制作方法进行描述。
请参阅图2和图3所示的显示面板,本申请提供的显示面板的制作方法包括:
101、提供一基板。
具体的,可以对基板10进行清洗以及预烘烤,以去除基板10表面的油类、油脂等异物微粒。
其中,基板10可以为玻璃基板、石英基板、树脂基板、PI柔性基板(聚酰亚胺薄膜,Polyimide Film)或其他类型基板,在此不一一赘述。需要说明的是,薄膜晶体管20的具体结构为本领域普通技术人员熟知的技术,在此不再赘述。
102、在所述基板上形成像素定义层,所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块。
在本申请一实施例中,步骤102具体包括:
1021、在基板10上沉积第一层亲水性材料;
1022、在第一层亲水性材料上沉积第二层疏水性材料;
1023、对第一层亲水性材料和第二层疏水性材料进行图案化处理,形成多个间隔设置的像素定义块31。
其中,像素定义层30包括第一层疏水性材料和第二层亲水性材料。像素定义块31包括第一层311和第二层312。
本申请实施例可以通过同一工艺对第一层亲水性材料和第二层疏水性材料进行刻蚀,以形成第一层311和第二层312,简化了工艺制程。
在本申请另一实施例中,步骤102具体包括:
1024、在基板10上沉积第一层亲水性材料,并对第一层亲水性材料进行图案化处理,以形成多个间隔设置的第一层311;
1025、在每一第一层311上形成第二层疏水性材料,并对第二层疏水性材料进行图案化处理,以形成多个间隔设置的第二层312。
其中,像素定义块31包括第一层311和第二层312。第二层312可以完全覆盖第一层311的顶面311a以及外侧面311b;第二层312也可以完全覆盖或部分覆盖第一层311的顶面31;具体可根据实际工艺制程进行设置。
本申请实施例可以更加灵活的设计第一层311以及第二层312的位置关系。
103、在所述像素定义块远离所述基板的一侧形成一凹槽,所述凹槽的底面具有亲水性,所述凹槽的内侧面具有疏水性。
具体的,请参阅图2和图3,对像素定义块31进行图案化处理,以在像素定义块31远离基板10的一侧形成一凹槽310。由于第一层311为亲水性材料,第二层312为疏水性材料,凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的内侧面310b具有疏水性。
其中,可以通过调控第二层312的厚度,实现凹槽310的深度变化,使得靠近显示面板中心的凹槽310的深度大于远离显示面板中心的凹槽310的深度,降低显示面板中心处的电压降,进而提高显示面板的显示亮度一致性。
104、在所述凹槽内形成一辅助电极。
具体的,请参阅图8,图8是本申请提供的显示面板的部分制作过程示意图。如图8所示,以辅助电极40的材料为纳米银为例进行说明,利用喷墨打印工艺在凹槽310内形成辅助电极40。然后对辅助电极40进行加热固化。其中,纳米银的加热温度范围为90摄氏度至150摄氏度,固化时间30分钟至60分钟。
其中,由于凹槽310的底面具有亲水性,使得辅助电极40在成膜时膜面更加均匀;凹槽310的内侧面具有疏水性,限制了辅助电极40的铺展,防止辅助电极40沿着内侧壁爬升或溢出像素定义块31,从而能够改善及调控辅助电极40的线宽和形貌。
进一步的,同参阅图5和图8,在一些实施例中,利用喷墨打印方式,在相邻像素定义块31之间的开口处依次打印空穴注入层51、空穴传输层52以及发光层53。然后在发光层53以及像素定义块31上蒸镀电子传输层54,并对电子传输层54进行图案化处理,以在电子传输层54上形成多个过孔540。最后,在电子传输层54上蒸镀阴极55,阴极55为阴极。每一辅助电极40通过相应过孔540与阴极55电性连接。
请参阅图5所示的显示面板,本申请提供的显示面板的制作方法包括:
101、提供一基板;
102、在基板上形成像素定义层,像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块;
103、在像素定义块远离基板的一侧形成一凹槽,凹槽的底面具有亲水性,凹槽的内侧面具有疏水性;
104、在凹槽内形成一辅助电极。
其中,步骤101和步骤104请参阅上述内容,步骤102和步骤103具体包括:
在基板10上沉积第一层疏水层材料,并对第一层疏水性材料进行图案化处理,以形成多个间隔设置的第一部分313;
对第一部分313进行图案化处理,以在第一部分313上形成凹槽310;
在凹槽310的底部形成一第二部分314,第二部分314为亲水性材料。
其中,像素定义块31包括第一部分313和第二部分314。凹槽310的底面310a具有亲水性,凹槽310的内侧面310b具有疏水性。
需要说明的是,在本申请的描述中,“图案化”是指形成具有特定的图形结构的步骤,其可为光刻工艺,光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步,此为本技术领域的技术人员所理解的工艺制程,在此不再赘述。
以上对本申请提供的显示面板及其制作方法进行了详细介绍,本申请中应用了具体个例对本申请技术方案的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板;
位于所述基板上的像素定义层,所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块;所述像素定义块远离所述基板的一侧设有一凹槽,所述凹槽内设有一辅助电极;其中,
所述凹槽的底面具有亲水性,所述凹槽的内侧面具有疏水性。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义块包括层叠设置的第一层和第二层,所述第一层为亲水性材料,所述第二层为疏水性材料;
所述凹槽贯穿所述第二层,并延伸至所述第一层。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第二层完全覆盖所述第一层的顶面以及外侧面。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第二层完全覆盖或部分覆盖所述第一层的顶面。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义块包括第一部分和第二部分,所述第一部分为疏水性材料,所述第二部分为亲水性材料;
所述第一部分设置有所述凹槽,所述第二部分位于所述凹槽底部。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,靠近所述显示面板中心的所述凹槽的深度大于远离所述显示面板中心的所述凹槽的深度。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
层叠设置在相邻所述像素定义块之间的空穴注入层、空穴传输层以及发光层;
设置在所述发光层以及所述像素定义块上的电子传输层;以及
设置在所述电子传输层上的阴极;其中,
所述电子传输层上设置有多个过孔,每一所述辅助电极通过相应所述过孔与所述阴极电性连接。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,靠近所述显示面板中心的所述过孔的开口面积大于远离所述显示面板中心的所述过孔的开口面积。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助电极的材料为钼、铝、铜或者纳米银。
10.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在所述基板上形成像素定义层,所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义块;
在所述像素定义块远离所述基板的一侧形成一凹槽,所述凹槽的底面具有亲水性,所述凹槽的内侧面具有疏水性;
在所述凹槽内形成一辅助电极。
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