CN112379576B - 一种光刻机用混合光源发生装置 - Google Patents

一种光刻机用混合光源发生装置 Download PDF

Info

Publication number
CN112379576B
CN112379576B CN202011363096.XA CN202011363096A CN112379576B CN 112379576 B CN112379576 B CN 112379576B CN 202011363096 A CN202011363096 A CN 202011363096A CN 112379576 B CN112379576 B CN 112379576B
Authority
CN
China
Prior art keywords
light source
laser
base
led light
laser source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011363096.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN112379576A (zh
Inventor
王�华
吴中海
甘泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Original Assignee
Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd filed Critical Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Priority to CN202011363096.XA priority Critical patent/CN112379576B/zh
Publication of CN112379576A publication Critical patent/CN112379576A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112379576B publication Critical patent/CN112379576B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70025Production of exposure light, i.e. light sources by lasers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明公开了一种光刻机用混合光源发生装置,包括激光源、LED光源组件、激光限位板、光源基座和底座,所述激光限位板、光源基座和底座从上到下顺序排列;所述光源基座的中心设有激光源安装位,所述光源基座上还设有围绕所述激光源安装位分布的LED光源安装位,所述激光源的一端贯穿所述激光限位板,另一端安装在所述激光源安装位上;所述LED光源组件安装在所述LED光源安装位上;所述底座与光源基座连接形成一空腔,所述底座上设有出光口;其中,所述激光源与所述出光口位于同一轴线上。本发明中,激光源作为主光源,LED光源作为辅助光源,当激光源的能量因衰减而达不到预期能量时,LED光源对其进行补偿,有效地提高了光刻机的使用寿命。

Description

一种光刻机用混合光源发生装置
技术领域
本发明涉及光刻光源技术领域,具体为一种光刻机用混合光源发生装置。
背景技术
光刻机是半导体产业中最关键的设备,它决定着芯片的性能、大小等最核心的地方。而光刻机最重要的部件之一曝光光源影响着光刻机的整体性能。光刻机一般选用半导体激光器作为曝光光源,而激光存在衰减的问题,使用一段时间后会出现能量达不到预期的情况,影响光刻机的整体性能。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光刻机用混合光源发生装置,激光源作为主光源,LED光源作为辅助光源,当激光源的能量因衰减而达不到预期能量时,LED光源对其进行补偿,有效地提高了光刻机的使用寿命。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种光刻机用混合光源发生装置,包括激光源、LED光源组件、激光限位板、光源基座和底座,所述激光限位板、光源基座和底座从上到下顺序排列;所述光源基座的中心设有激光源安装位,所述光源基座上还设有围绕所述激光源安装位分布的LED光源安装位,所述激光源的一端贯穿所述激光限位板,另一端安装在所述激光源安装位上;所述LED光源组件安装在所述LED光源安装位上;所述底座与光源基座连接形成一空腔,所述底座上设有出光口;其中,所述激光源与所述出光口位于同一轴线上
在其中一个实施例中,所述LED光源组件包括镜筒、固定座和LED光源,所述镜筒与所述固定座连接,并贯穿所述LED光源安装位;所述固定座固定在所述LED光源安装位上;所述LED光源固定在所述固定座的上,位于所述固定座与镜筒形成的空腔中。
在其中一个实施例中,所述LED光源安装位包括供所述镜筒插入的镜筒安装孔和供所述固定座固定连接的第一螺孔,所述固定座上设有与所述第一螺孔相适配的第二螺孔,所述第一螺孔和第二螺孔通过螺栓固定连接。
在其中一个实施例中,所述镜筒安装孔的内壁上设有内螺纹,所述镜筒设有外螺纹,所述镜筒与镜筒安装孔螺纹连接。
在其中一个实施例中,所述光源基座的一侧表面为曲面,所述底座位于所述曲面的相对侧,所述激光源安装位和LED光源安装位均设置在所述曲面上。
在其中一个实施例中,还包括顶板,所述顶板位于所述激光限位板上方,所述顶板与底座之间连接有连接柱,所述连接柱贯穿所述激光限位板。
在其中一个实施例中,所述激光限位板和顶板上均设有供所述激光源穿过的通孔。
在其中一个实施例中,所述激光源上固定套设有一固定环,所述固定环固定连接在所述激光源安装孔上。
在其中一个实施例中,所述固定环上设有第三螺孔;所述激光源安装位包括激光源安装孔和第四螺孔,所述激光源贯穿所述激光源安装孔,所述第三螺孔和第四螺孔通过螺栓固定连接。
本发明光刻机用混合光源发生装置中,激光源作为主光源,LED光源作为辅助光源,当激光源的能量因衰减而达不到预期能量时,LED光源对其进行补偿,有效地提高了光刻机的使用寿命。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图;
图2为本发明的立体装配图;
图3为图2中部分结构的放大结构示意图;
10、激光源;11、固定环;111、第三螺孔;20、LED光源组件;21、镜筒;22、固定座;221、第二螺孔;30、激光限位板;40、光源基座;41、激光源安装位;411、激光源安装孔;412、第四螺孔;42、LED光源安装位;421、镜筒安装孔;422、第一螺孔;50、底座;51、出光口;60、顶板;70、连接柱;80、通孔。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参考图1-3,提供了一种光刻机用混合光源发生装置,包括激光源10、LED光源组件20、激光限位板30、光源基座40和底座50,所述激光限位板30、光源基座40和底座50从上到下顺序排列;所述光源基座40的中心设有激光源安装位41,所述光源基座40上还设有围绕所述激光源安装位41分布的LED光源安装位42,所述激光源10的一端贯穿所述激光限位板30,另一端安装在所述激光源安装位41上,较佳的,LED光源安装位42设有至少3个;所述LED光源组件20安装在所述LED光源安装位42上;所述底座50与光源基座40连接形成一空腔,所述底座50上设有出光口51;其中,所述激光源10与所述出光口51位于同一轴线上。
具体的,所述光源基座40的一侧表面可以为曲面,所述底座50位于所述曲面的相对侧,所述激光源安装位41和LED光源安装位42均设置在所述曲面上。
激光源10和LED光源组件20发出光均经过底座50与光源基座40连接形成的空腔后从出光口51射出,一般情况下,激光源10独自工作,LED光源组件20不工作,当激光源10发出的光束的能量达不到预期时,LED光源组件20开始工作。较佳的,该光刻机用混合光源发生装置可与光刻机中的能量传感器配合使用,能量传感器的工作原理是利用光电传感器把光信号转换成电信号,测量出电信号的强度,进而计算出能量传感器测量的光束能量大小,其在曝光过程中动态地监控曝光光束能量,控制器可将根据能量传感器检测得到的实际光束能量值与预期能量值进行对比,得到所需补偿的能量差,再决定LED光源组件20的补偿能量。
在一个实施例中,所述LED光源组件20包括镜筒21、固定座22和LED光源(图中未视出),所述镜筒21与所述固定座22连接,并贯穿所述LED光源安装位42;所述固定座22固定在所述LED光源安装位42上;所述LED光源固定在所述固定座22的上,位于所述固定座22与镜筒21形成的空腔中。所述LED光源安装位42包括供所述镜筒21插入的镜筒安装孔421和供所述固定座22固定连接的第一螺孔422,所述固定座22上设有与所述第一螺孔422相适配的第二螺孔221,所述第一螺孔422和第二螺孔221通过螺栓固定连接。其中,所述镜筒安装孔421的内壁上设有内螺纹,所述镜筒21设有外螺纹,所述镜筒21与镜筒安装孔421螺纹连接。
在安装时,将镜筒21与镜筒安装孔421通过螺纹连接实现固定,再用螺栓依次拧入第二螺孔221和第一螺孔422,使固定座22和LED光源安装位42实现固定,避免镜筒21出现松动。
在一个实施例中,所述激光源10上固定套设有一固定环11,所述固定环11固定连接在所述激光源安装位41上。所述固定环11上设有第三螺孔111;所述激光源安装位41包括激光源安装孔411和第四螺孔412,所述激光源10贯穿所述激光源安装孔411,所述第三螺孔111和第四螺孔412通过螺栓固定连接。
其中,该光刻机用混合光源发生装置还包括顶板60,所述顶板60位于所述激光限位板30上方,所述顶板60与底座50之间连接有连接柱70,所述连接柱70贯穿所述激光限位板30,较佳的,所述连接柱70设有4个,4个连接柱70均匀分布。具体的,所述激光限位板30和顶板60上均设有供所述激光源10穿过的通孔80。
本发明光刻机用混合光源发生装置中,激光源10作为主光源,LED光源作为辅助光源,当激光源10的能量因衰减而达不到预期能量时,LED光源可对其进行补偿,有效地提高了光刻机的使用寿命。
以上实施例仅表达了本发明的若干优选实施方式,其描述较为具体和详细,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述发明构想范围的内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动,并不能因此而理解为对本发明范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,这些都属于本发明所附权利要求的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,包括激光源、LED光源组件、激光限位板、光源基座和底座,所述激光限位板、光源基座和底座从上到下顺序排列;所述光源基座的中心设有激光源安装位,所述光源基座上还设有围绕所述激光源安装位分布的LED光源安装位,所述激光源的一端贯穿所述激光限位板,另一端安装在所述激光源安装位上;所述LED光源组件安装在所述LED光源安装位上;所述底座与光源基座连接形成一空腔,所述底座上设有出光口;其中,所述激光源与所述出光口位于同一轴线上。
2.根据权利要求1所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,所述LED光源组件包括镜筒、固定座和LED光源,所述镜筒与所述固定座连接,并贯穿所述LED光源安装位;所述固定座固定在所述LED光源安装位上;所述LED光源固定在所述固定座的上,位于所述固定座与镜筒形成的空腔中。
3.根据权利要求2所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,所述LED光源安装位包括供所述镜筒插入的镜筒安装孔和供所述固定座固定连接的第一螺孔,所述固定座上设有与所述第一螺孔相适配的第二螺孔,所述第一螺孔和第二螺孔通过螺栓固定连接。
4.根据权利要求3所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,所述镜筒安装孔的内壁上设有内螺纹,所述镜筒设有外螺纹,所述镜筒与镜筒安装孔螺纹连接。
5.根据权利要求1所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,所述光源基座的一侧表面为曲面,所述底座位于所述曲面的相对侧,所述激光源安装位和LED光源安装位均设置在所述曲面上。
6.根据权利要求1所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,还包括顶板,所述顶板位于所述激光限位板上方,所述顶板与底座之间连接有连接柱,所述连接柱贯穿所述激光限位板。
7.根据权利要求6所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,所述激光限位板和顶板上均设有供所述激光源穿过的通孔。
8.根据权利要求1所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,所述激光源上固定套设有一固定环,所述固定环固定连接在所述激光源安装位上。
9.根据权利要求8所述的光刻机用混合光源发生装置,其特征在于,所述固定环上设有第三螺孔;所述激光源安装位包括激光源安装孔和第四螺孔,所述激光源贯穿所述激光源安装孔,所述第三螺孔和第四螺孔通过螺栓固定连接。
CN202011363096.XA 2020-11-28 2020-11-28 一种光刻机用混合光源发生装置 Active CN112379576B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011363096.XA CN112379576B (zh) 2020-11-28 2020-11-28 一种光刻机用混合光源发生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011363096.XA CN112379576B (zh) 2020-11-28 2020-11-28 一种光刻机用混合光源发生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112379576A CN112379576A (zh) 2021-02-19
CN112379576B true CN112379576B (zh) 2024-05-14

Family

ID=74588790

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011363096.XA Active CN112379576B (zh) 2020-11-28 2020-11-28 一种光刻机用混合光源发生装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112379576B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114488720B (zh) * 2022-03-14 2022-08-30 广东科视光学技术股份有限公司 一种光刻机用混合光源发生装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005057670A2 (en) * 2003-12-02 2005-06-23 3M Innovative Properties Company Irradiation apparatuses
CN101189556A (zh) * 2005-06-03 2008-05-28 富士胶片株式会社 曝光装置及曝光方法
CN203477917U (zh) * 2013-09-10 2014-03-12 西安泛光电子科技有限公司 一种激光防爆手电
CN103926705A (zh) * 2013-01-15 2014-07-16 江南大学 一种光路调节与照明装置
CN213581735U (zh) * 2020-11-28 2021-06-29 广东科视光学技术股份有限公司 一种光刻机用混合光源发生装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005057670A2 (en) * 2003-12-02 2005-06-23 3M Innovative Properties Company Irradiation apparatuses
CN101189556A (zh) * 2005-06-03 2008-05-28 富士胶片株式会社 曝光装置及曝光方法
CN103926705A (zh) * 2013-01-15 2014-07-16 江南大学 一种光路调节与照明装置
CN203477917U (zh) * 2013-09-10 2014-03-12 西安泛光电子科技有限公司 一种激光防爆手电
CN213581735U (zh) * 2020-11-28 2021-06-29 广东科视光学技术股份有限公司 一种光刻机用混合光源发生装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN112379576A (zh) 2021-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN213581735U (zh) 一种光刻机用混合光源发生装置
CN112379576B (zh) 一种光刻机用混合光源发生装置
CN1767717A (zh) 用于功率线缆的夹持装置
US10816402B2 (en) Spectrometry device and spectrometry method
CN114544151A (zh) 一种镜片透过率检测装置及其检测方法
CN110006492A (zh) 一种用于准分子激光器的气体采集监测方法和系统
CN213581739U (zh) 一种光刻机用带冷却循环系统的混合光源发生装置
CN213302545U (zh) 一种安全光栅快速校准工具
CN112833752A (zh) 一种光信号式螺纹垂直度检测装置
CN220489988U (zh) 一种平面镜面形检测辅助工装
CN213659070U (zh) 锁附仪器
CN101718957B (zh) 光电探测器固定装置
CN210603590U (zh) 一种匹配箱的快速定位安装结构
CN220693152U (zh) 光纤检测设备
CN220729154U (zh) 同心度检测装置
CN217786191U (zh) 一种激光十字线光源调试结构
CN216210145U (zh) 一种基于电动滤镜切换的平行光管
CN115255991B (zh) 一种光刻掩膜版大视场检测用离轴抛物镜精控工装
CN217386013U (zh) 一种平行光管调焦组件
CN219143119U (zh) 一种电弧检测等离子处理装置
CN218600582U (zh) 光电编码器
CN215496027U (zh) 一种工业控制仪表底板装置
CN220296115U (zh) 一种激光光束收集器
CN219212009U (zh) 片状物激光加工用治具平台
CN219542001U (zh) 一种激光切割用视觉系统

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: No. 333, Zhushan Zhenxing Road, Dongcheng District, Dongguan City, Guangdong Province

Applicant after: Guangdong Keshi Optical Technology Co.,Ltd.

Address before: No. 333, Zhushan Zhenxing Road, Dongcheng District, Dongguan City, Guangdong Province

Applicant before: CST AUTOMATION TECHNOLOGY Co.,Ltd.

SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant