CN112331801B - 一种显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。用于解决相关技术中阴极层和辅助阴极层搭接时接触面积小，搭接稳定性差的问题。本发明实施例提供一种显示面板，包括：衬底；设置于衬底第一导电图案层，第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，在至少一个第二开口中，第三导电图案层在衬底上的正投影的边沿与第四导电图案层在衬底上的正投影的边沿之间具有第一间隙，第四导电图案层与第二开口的底部边沿之间具有第二间隙；至少一个第二导电图案层未被第三导电图案层覆盖的部分远离衬底的表面为第一表面，每个第一表面至少在第一间隙位置处设置有凹槽。

Description

一种显示面板及其制备方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。
背景技术
随着自发光显示技术的发展，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板由于具有良好的挠性，高对比度和更轻薄的特点，成为人们的研究热点。
发明内容
本发明的主要目的在于，提供一种显示面板及其制备方法和显示装置。用于解决相关技术中阴极层和辅助阴极层搭接时接触面积小，搭接稳定性差的问题。
为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：
一方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括：衬底；设置于所述衬底上的第一导电图案和第二导电图案，所述第一导电图案包括第一导电图案层，至少一个所述第二导电图案包括沿远离衬底的方向依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，所述第一导电图案层和所述第二导电图案层同层设置；设置于所述衬底上，且搭设于所述第一导电图案层和所述第二导电图案层边沿的像素界定层；所述像素界定层限定出多个第一开口和至少一个第二开口；每个第一开口露出一个第一导电图案层，至少一个所述第二开口露出一个第二导电图案层，且至少一个所述第二导电图案中的所述第三导电图案层和所述第四导电图案层位于一个第二开口中，至少一个所述第二导电图案层具有未被所述第三导电图案层覆盖的部分；每个第二开口位于相邻的两个第一开口之间；在至少一个所述第二开口中，所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿位于所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿和所述第二开口的底部边沿之间，且所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿与所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿之间具有第一间隙，所述第四导电图案层与所述第二开口的底部边沿之间具有第二间隙；至少一个所述第二导电图案层未被所述第三导电图案层覆盖的部分远离所述衬底的表面为第一表面，每个第一表面至少在所述第一间隙位置处设置有凹槽。
在一些实施例中，还包括：设置于所述衬底上，且位于每个第一开口中的发光功能层，所述发光功能层与位于每个第一开口中的第一导电图案接触；或者，还包括：设置于所述衬底上的具有发光功能的薄膜，所述具有发光功能的薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述像素界定层远离衬底表面的部分，位于每个第四导电图案层远离所述衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第二间隙位置处的部分；其中，所述具有发光功能的薄膜位于每个第一开口中的部分与所述第一导电图案接触。
在一些实施例中，还包括：设置于所述衬底上的第一导电薄膜；在所述显示面板包括发光功能层的情况下，所述第一导电薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于像素界定层远离衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第一间隙和所述第二间隙位置处的部分；其中，所述第一导电薄膜位于每个第一开口中的部分与所述发光功能层接触，所述第一导电薄膜位于每个第一表面对应所述第一间隙和所述第二间隙位置处的部分靠近所述衬底的表面为第二表面，每个第二表面设置有与所述凹槽相咬合的凸起；在所述显示面板包括具有发光功能的薄膜的情况下，所述第一导电薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述具有发光功能的薄膜远离衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分；其中，所述第一导电薄膜位于每个第一开口中的部分与所述具有发光功能的薄膜位于每个第一开口中的部分接触，所述第一导电薄膜位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分靠近所述衬底的表面为第三表面，每个第三表面设置有与所述凹槽相咬合的凸起。
在一些实施例中，在至少一个所述第二开口中，所述凹槽的数目为多个，每个凹槽绕位于同一个第二开口中的第三导电图案层的边沿延伸。
在一些实施例中，每个凹槽沿垂直于其延伸方向的截面形状为齿状、矩形、三角形或梯形。
在一些实施例中，对于位于同一个第二开口中的凹槽、第三导电图案层和第四导电图案层而言，多个凹槽沿远离所述第三导电图案层和第四导电图案层的方向依次排列。
在一些实施例中，至少一个所述第一导电图案还包括：沿远离衬底的方向，依次层叠设置于所述第一导电图案层远离衬底表面的第五导电图案层和第六导电图案层，所述第五导电图案层和所述第六导电图案层的侧壁与所述第一开口的侧壁接触；所述第五导电图案层与所述第三导电图案层同层同材料，所述第六导电图案层与所述第四导电图案层同层同材料。
另一方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：在衬底上形成第一导电图案层，依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，以及像素界定层；所述像素界定层限定出多个第一开口和至少一个第二开口，每个第一开口露出一个第一导电图案层，至少一个所述第二开口露出一个第二导电图案层；每个第二开口位于相邻的两个第一开口之间；至少一个所述第二导电图案层具有未被所述第三导电图案层覆盖的部分。在至少一个第二开口中，所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿位于所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿和所述第二开口的底部边沿之间，且所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿与所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿之间具有第一间隙，所述第四导电图案层与所述第二开口的底部边沿之间具有第二间隙；至少一个所述第二导电图案层未被所述第三导电图案层覆盖的部分远离所述衬底的表面为第一表面，每个第一表面至少在所述第一间隙位置处形成有凹槽。
在一些实施例中，通过打印在所述衬底上，且位于每个第一开口中形成发光功能层；或者，通过蒸镀在所述衬底上形成具有发光功能的薄膜，所述具有发光功能的薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述像素界定层远离所述衬底表面的部分，位于每个第四导电图案层远离衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第二间隙位置处的部分。
在一些实施例中，还包括：通过溅射在形成有所述发光功能层或者具有发光功能的薄膜的衬底上形成第一导电薄膜；所述第一导电薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述像素界定层远离所述衬底一侧的部分和位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分；所述第一导电薄膜位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分靠近所述衬底的表面为第三表面，每个第三表面在所述第一间隙位置处形成有与所述凹槽相咬合的凸起。
在一些实施例中，所述在衬底上形成第一导电图案层、依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，以及像素界定层，包括：在衬底上形成第二导电薄膜；在形成有所述第二导电薄膜的衬底上形成第一光刻胶层；通过半色调掩膜工艺在所述第二导电薄膜上形成第一光刻胶图案，所述第一光刻胶图案包括光刻胶完全去除区域，光刻胶半保留区域和光刻胶完全保留区域；通过刻蚀工艺去除所述第二导电薄膜与所述光刻胶完全去除区域对应的部分，得到位于至少一个第一区域的第二导电图案层和位于多个第二区域的第一导电图案层；采用灰化工艺对所述第一光刻胶图案进行灰化，露出位于至少一个所述第一区域的部分第二导电图案层，对露出的部分第二导电图案层进行刻蚀，在至少一个所述第二导电图案层的表面形成所述凹槽；在形成有所述凹槽的衬底上形成第三导电薄膜和第四导电薄膜；在形成有所述第三导电薄膜和所述第四导电薄膜的衬底上形成第二光刻胶层，通过曝光、显影，刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第四导电图案层；在所述第四导电图案层的遮挡下，采用第一湿法刻蚀工艺对所述第三导电薄膜进行刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第三导电图案层，使所述第三导电图案层的侧壁相对于所述第四导电图案层的侧壁向内缩进；所述第一湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与所述第二导电薄膜和第四导电薄膜不发生反应；在形成有第三导电图案层的衬底上形成具有所述多个第一开口和所述至少一个第二开口的所述像素界定层。
在一些实施例中，所述第二导电薄膜的材料包括ITO材料；对露出的部分第二导电图案层进行刻蚀之前，还包括：对所述第二导电图案层进行热处理。
在一些实施例中，在所述显示面板还包括第五导电图案层和第六导电图案层的情况下，所述在衬底上形成第一导电图案层、依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，以及像素界定层，包括：在衬底上形成第二导电薄膜，通过构图工艺形成位于至少一个第一区域的第二导电图案层和位于多个第二区域的第一导电图案层；在形成有第一导电图案层和第二导电图案层的衬底上依次形成第三导电薄膜和第四导电薄膜；在形成有所述第三导电薄膜和第四导电薄膜的衬底上形成第三光刻胶层，通过曝光、显影，刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第四导电图案层和位于第四导电图案层远离衬底一侧的第三光刻胶图案，以及位于至少一个所述第二区域的第六导电图案层和位于第六导电图案层远离衬底一侧的第四光刻胶图案；在所述第四导电图案层和第六导电图案层的遮挡下，采用第一湿法刻蚀工艺对所述第三导电薄膜进行刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第三导电图案层，和位于至少一个所述第二区域的第五导电图案层，使所述第三导电图案层的侧壁相对于所述第四导电图案层的侧壁向内缩进；所述第五导电图案层的侧壁相对于所述第六导电图案层的侧壁向内缩进；所述第一湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与所述第二导电薄膜和第四导电薄膜不发生反应；在第三光刻胶图案和第四光刻胶图案的遮挡下，采用第二湿法刻蚀工艺对所述第二导电薄膜进行刻蚀，在所述第二导电薄膜未被所述第三导电图案层覆盖的部分表面形成凹槽；所述第二湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与所述第三导电薄膜不发生反应；在形成有凹槽的衬底上形成具有所述多个第一开口和所述至少一个第二开口的所述像素界定层，并使所述第五导电图案层和所述第六导电图案层的侧壁与所述第一开口的侧壁接触。
在一些实施例中，所述第二导电薄膜的材料包括ITO材料；在采用第二湿法刻蚀工艺对第二导电薄膜进行刻蚀之前，还包括：对所述第二导电薄膜进行热处理。
另一方面，提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。
本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法和显示装置。通过将至少一个第二导电图案中的第三导电图案层和第四导电图案层设置于一个第二开口中，至少一个第二导电图案层具有未被第三导电图案层覆盖的部分，第四导电图案层在衬底上的正投影的边沿位于第三导电图案层在衬底上的正投影的边沿和第二开口的底部边沿之间，可以得知，第二导电图案层未被第三导电图案层覆盖的部分、第三导电图案层和第四导电图案层的纵截面为工字形。这样一来，在通过蒸镀或打印形成发光功能层的情况下，具有发光功能的薄膜可以在第三导电图案层和第四导电图案层的侧面断开。
尤其是对于通过蒸镀形成发光功能层的情况下，由于第四导电图案层的遮挡，具有发光功能的薄膜不会形成在被第四导电图案层垂直覆盖的区域，而根据第四导电图案层在衬底上的正投影的边沿与第三导电图案层在衬底上的正投影的边沿之间具有第一间隙，可以得知，具有发光功能的薄膜不会形成在第一表面对应第一间隙的位置处，而根据在通过溅射形成阴极层时，由于溅射出的原子能量高，有利于提高沉积时原子的扩散能力，因此，在以上结构基础上，在溅射形成阴极层的情况下，具有发光功能的薄膜覆盖不到的位置，通过溅射能够使阴极材料通过第二间隙扩散并沉积到第一表面对应第一间隙位置处，从而实现阴极层与辅助阴极层的搭接。而根据第一表面至少在第一间隙位置处设置有凹槽，可以得知，在溅射形成阴极层时，溅射出的原子能量高，能够提高原子的扩散能力，还能够使阴极材料沉积在凹槽内，增大阴极层和辅助阴极层的接触面积，降低压降。同时，还能够增大阴极层和辅助阴极层搭接的咬合力，提高搭接稳定性。尤其适用于显示面板为透明显示面板，为了提高显示面板的透明度，阴极层的厚度较薄的情况。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的剖视结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图6为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图8为本发明实施例提供的再一种显示面板的剖视结构示意图；
图9为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图；
图10为本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程图；
图11为本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程图；
图12为本发明实施例提供的再一种显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
本发明的一些实施例提供一种显示装置，包括：显示面板以及用于驱动显示面板进行显示的驱动电路。
示例性的，该显示装置可以为手机、平板电脑、笔记本、个人数字助理(personaldigital assistant，PDA)、车载电脑等。本发明实施例对上述显示装置的具体形式不做特殊限制。
本发明的一些实施例提供一种显示面板，该显示面板可以为OLED(OrganicLight-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板。
如图1、图2和图3所示，该显示面板1包括衬底11、设置于衬底11上的第一导电图案12和第二导电图案13；第一导电图案12包括第一导电图案层121，至少一个第二导电图案13包括沿远离衬底11的方向依次层叠的第二导电图案层131、第三导电图案层132和第四导电图案层133。第一导电图案层121和第二导电图案层131同层设置。
如图1、图2和图3所示，显示面板1还包括设置于衬底11上，且搭设于第一导电图案层121和第二导电图案层131边沿的像素界定层14，像素界定层14限定出多个第一开口K1和至少一个第二开口K2；每个第一开口K1露出一个第一导电图案层121，至少一个第二开口K2露出一个第二导电图案层131，且至少一个第二导电图案13中的第三导电图案层132和第四导电图案层133位于一个第二开口K2中，至少一个第二导电图案层131具有未被第三导电图案层132覆盖的部分。每个第二开口K2位于相邻的两个第一开口K1之间。
其中，根据第一开口K1可以为像素开口，第一导电图案12可以为发光器件的阳极，第二导电图案13可以为辅助阴极层，辅助阴极层用于与上层的阴极层电连接，以降低阴极层的压降。
第一导电图案层121和第二导电图案层131同层设置，可以得知：第一导电图案层121和第二导电图案层131可以通过同一次构图工艺形成。
根据以上显示面板1可以为顶发射型显示面板或底发射型显示面板，该第一导电图案层121可以为透明材料或非透明材料，第二导电图案层131也可以为透明材料或非透明材料。如在显示面板1为顶发射型显示面板的情况下，第一导电图案层121的材料为透明材料，此时，第二导电图案层131也可以为透明材料。根据阳极材料可以选自高功函材料，可以得知，第一导电图案层121和第二导电图案层131可以选自ITO(Indium Tin Oxides，氧化铟锡)等透明材料。在该显示面板为底发射型显示面板的情况下，第一导电图案层12的材料为非透明材料，此时，第二导电图案层131也可以为非透明材料。在此情况下，第一导电图案层121和第二导电图案层131可以选自Ni、Au、Pt、Al等反光金属材料或者金属材料和ITO组成的叠层材料。
在一些实施例中，显示面板1可以为顶发射型显示面板。此时，第一导电图案层121和第二导电图案层131可以为双层结构，如可以均包括沿远离衬底11的方向依次层叠的第一子层10和第二子层20。第一子层10的材料可以为金属材料，如铝合金或金属铝材料。第二子层20的材料可以为ITO材料。也即，在本实施例中，通过将第一导电图案层121和第二导电图案层131设置为双层结构，能够进一步降低压降，同时不会对顶发射显示造成影响。
在一些实施例中，如图2所示，显示面板1还包括：设置于衬底11上，且位于发光区的像素驱动电路，第一导电图案层121可以与像素驱动电路中的驱动TFT1的源极s或漏极d电连接。
在此基础上，显示面板1还可以包括：与驱动TFT的源漏极同层同材料的电极线，第二导电图案层131与该电极线电连接。能够进一步降低阴极层的压降。
在一些实施例中，如图1、图2和图3所示，在至少一个第二开口K2中，第四导电图案层133在衬底11上的正投影的边沿位于第三导电图案层132在衬底11上的正投影的边沿和第二开口K2的底部边沿之间，且第三导电图案层132在衬底11上的正投影的边沿与第四导电图案层133在衬底11上的正投影的边沿之间具有第一间隙g1，第四导电图案层133与第二开口K2的底部边沿之间具有第二间隙g2。至少一个第二导电图案层131未被所述第三导电图案层132覆盖的部分远离衬底11的表面为第一表面13a，每个第一表面13a至少在第一间隙g1位置处设置有凹槽U。
其中，通过将至少一个第二导电图案13中的第三导电图案层132和第四导电图案层133设置于一个第二开口K2中，至少一个第二导电图案层131具有未被第三导电图案层132覆盖的部分，第四导电图案层133在衬底11上的正投影的边沿位于第三导电图案层132在衬底11上的正投影的边沿和第二开口K2的底部边沿之间，可以得知，第二导电图案层131未被第三导电图案层132覆盖的部分、第三导电图案层132和第四导电图案层133的纵截面为工字形。这样一来，在通过蒸镀或打印形成发光功能层的情况下，具有发光功能的薄膜可以在第三导电图案层132和第四导电图案层133的侧面断开。
尤其是对于通过蒸镀形成发光功能层的情况下，由于第四导电图案层133的遮挡，具有发光功能的薄膜不会形成在被第四导电图案层133垂直覆盖的区域，而根据第四导电图案层133在衬底11上的正投影的边沿与第三导电图案层132在衬底11上的正投影的边沿之间具有第一间隙g1，可以得知，具有发光功能的薄膜不会形成在第一表面13a对应第一间隙g1的位置处，而根据在通过溅射形成阴极层时，由于溅射出的原子能量高，有利于提高沉积时原子的扩散能力，因此，在以上结构基础上，在溅射形成阴极层的情况下，具有发光功能的薄膜覆盖不到的位置，通过溅射能够使阴极材料通过第二间隙g2扩散并沉积到第一表面13a对应第一间隙g1位置处，从而实现阴极层与辅助阴极层的搭接。而根据第一表面13a至少在第一间隙g1位置处设置有凹槽U，可以得知，在溅射形成阴极层时，溅射出的原子能量高，能够提高原子的扩散能力，还能够使阴极材料沉积在凹槽U内，增大阴极层和辅助阴极层的接触面积，降低压降。同时，还能够增大阴极层和辅助阴极层搭接的咬合力，提高搭接稳定性。尤其适用于显示面板为透明显示面板，为了提高显示面板的透明度，阴极层的厚度较薄的情况。
基于以上结构，在一些实施例中，如图1、图2和图3所示，在至少一个第二开口K2中，凹槽U的数目为多个，每个凹槽U绕位于同一第二开口K2中的第三导电图案层132的边沿延伸。
也即，在本实施例中，凹槽U的延伸形状与第三导电图案层132的边沿的形状相同。能够进一步增大阴极层和辅助阴极层搭接的咬合力。多个凹槽U可以通过刻蚀形成。
在一些实施例中，如图1、图2和图3所示，每个凹槽U沿垂直于其延伸方向的截面形状为齿状、矩形、三角形或梯形等。能够进一步增大阴极层和辅助阴极层搭接的咬合力。
在一些实施例中，对于位于同一个第二开口K2中的凹槽U、第三导电图案层132和第四导电图案层133而言，多个凹槽U沿远离第三导电图案层132和第四导电图案层133的方向依次排列。
在一些实施例中，如图4所示，至少一个第一导电图案12还包括：沿远离衬底11的方向，依次层叠设置于第一导电图案层121远离衬底11表面的第五导电图案层122和第六导电图案层123，第五导电图案层122和第六导电图案层123的侧壁与第一开口K1的侧壁接触。第五导电图案层122与第三导电图案层132同层同材料，第六导电图案层123与第四导电图案层133同层同材料。
在本实施例中，第五导电图案层122和第三导电图案层132可以通过同一次构图工艺形成。第六导电图案层123与第四导电图案层133可以通过同一次构图工艺形成。根据以上第五导电图案层122和第六导电图案层123的侧壁与第一开口的侧壁接触，可以得知，第一导电图案层121、第五导电图案层122和第六导电图案层123共同构成阳极。
根据以上第二导电图案层131未被第三导电图案层132覆盖的部分、第三导电图案层132和第四导电图案层133的纵截面为工字形，第一导电图案层121、第五导电图案层122和第六导电图案层123的纵截面也可以为工字形。
在一些实施例中，第五导电图案层122和第三导电图案层132的材料可以为金属材料，如金属铝或铝合金等。第六导电图案层123与第四导电图案层133的材料可以为ITO材料、IZO(Indium Zinc Oxide，氧化铟锌)材料等。
在一些实施例中，如图5和图6所示，显示面板1还包括：设置于衬底11上，且位于每个第一开口K1中的发光功能层15，发光功能层15与位于每个第一开口K1中的第一导电图案12接触。
在本实施例中，通过在每个第一开口K1中设置发光功能层15，在通过溅射在发光功能层15远离衬底11的一侧形成阴极层时，能够使阴极层搭接于第一表面13a对应第一间隙g1和第二间隙g2的位置处，同样能够增大阴极层和辅助阴极层搭接的接触面积和咬合力，提高搭接稳定性。并且，与通过蒸镀形成发光功能层时，具有发光功能的薄膜会形成在第一表面13a对应第二间隙g2位置处相比，能够使阴极层搭接于第一表面13a对应第一间隙g1和第二间隙g2位置处，从而能够进一步增大阴极层和辅助阴极层的接触面积。
在另一些实施例中，如图7和图8所示，显示面板1还包括：设置于衬底11上的具有发光功能的薄膜100。具有发光功能的薄膜100包括位于每个第一开口K1中的部分，位于像素界定层14远离衬底11表面的部分，位于每个第四导电图案层133远离衬底11表面的部分和位于每个第一表面13a对应第二间隙g2位置处的部分。其中，具有发光功能的薄膜100位于每个第一开口K1中的部分与第一导电图案12接触。
在本实施例中，具有发光功能的薄膜100可以通过蒸镀形成，通过使具有发光功能的薄膜100形成在第一表面13a对应第二间隙g2位置处，在通过溅射形成阴极层时，能够使阴极层形成在第一表面13a对应第一间隙g1位置的凹槽U中，从而能够增大阴极层与辅助阴极层搭接的接触面积和咬合力，提高搭接稳定性。
在一些实施例中，如图5、图6、图7和图8所示，显示面板1还包括：设置于衬底11上的第一导电薄膜200。在显示面板1包括发光功能层15的情况下，如图5和图6所示，第一导电薄膜200包括位于每个第一开口K1中的部分，位于像素界定层14远离衬底11表面的部分和位于每个第一表面13a对应第一间隙g1和第二间隙g2位置处的部分。第一导电薄膜200位于每个第一开口K1的部分与发光功能层15接触。第一导电薄膜200位于每个第一表面13a对应第一间隙g1和第二间隙g2的位置处的部分靠近衬底11的表面为第二表面200a，每个第二表面200a设置有与凹槽U相咬合的凸起T。在显示面板1包括具有发光功能的薄膜100的情况下，如图7和图8所示，第一导电薄膜200包括位于每个第一开口K1中的部分，位于具有发光功能的薄膜100远离衬底表面的部分和位于每个第一表面13a对应第一间隙g1位置处的部分。其中，第一导电薄膜200位于每个第一开口K1中的部分与具有发光功能的薄膜100位于每个第一开口K1中的部分接触，第一导电薄膜200位于每个第一表面13a对应第一间隙g1位置处的部分靠近衬底11的表面为第三表面200b，每个第三表面200b设置有与凹槽U相咬合的凸起T。
其中，第一导电薄膜200即为以上所述的阴极层。通过使第一导电薄膜200至少在第一间隙g1位置处通过形成在第三表面200b的凸起T与凹槽U相咬合，能够增大阴极层与辅助阴极层的接触面积，可提高搭接稳定性，并提高导电效果。
其中，第一导电薄膜200的材料可以为IZO、ITO等透明材料。可以提高顶发射效果。并在显示面板1为透明显示面板时能够提高透明度。
本发明的一些实施例提供一种显示面板的制备方法，如图9和图10所示，包括：
S100、在衬底11上形成第一导电图案层121，依次层叠的第二导电图案层131、第三导电图案层132和第四导电图案层133，以及像素界定层14。
像素界定层14限定出多个第一开口K1和至少一个第二开口K2，每个第一开口K1露出一个第一导电图案层121，至少一个第二开口K2露出一个第二导电图案层131。每个第二开口K2位于相邻的两个第一开口K1之间。至少一个第二导电图案层131具有未被第三导电图案层132覆盖的部分。
在至少一个第二开口K2中，第四导电图案层133在衬底11上的正投影的边沿位于第三导电图案层132在衬底11上的正投影的边沿和第二开口K2的底部边沿之间，且第三导电图案层132在衬底11上的正投影的边沿与第四导电图案层133在衬底11上的正投影的边沿之间具有第一间隙g1，第四导电图案层133与第二开口K2的底部边沿之间具有第二间隙g2。
至少一个第二导电图案层131未被第三导电图案层132覆盖的部分远离衬底11的表面为第一表面13a，每个第一表面13a至少在第一间隙g1位置处形成有凹槽U。
在一些实施例中，在衬底11上形成第一导电图案层121、依次层叠的第二导电图案层131、第三导电图案层132和第四导电图案层133，以及像素界定层14，如图11所示，包括：
S101、在衬底11上形成第二导电薄膜300。
可以通过沉积在衬底11上形成第二导电薄膜300。根据以上第一导电图案层121和第二导电图案层131可以为双层结构。第二导电薄膜300也可以为双层薄膜，例如可以包括金属铝薄膜和ITO薄膜。
其中，根据第一导电图案层121可以与像素驱动电路中的源极或漏极电连接，可以得知，衬底11可以为已经形成有像素驱动电路的衬底。
S102、在形成有第二导电薄膜300的衬底11上形成第一光刻胶层30。可以通过涂覆在第二导电薄膜300上形成第一光刻胶层30。
S103、通过半色调掩膜(Half Tone Mask)工艺在第二导电薄膜300上形成第一光刻胶图案31，第一光刻胶图案31包括光刻胶完全去除区域31A，光刻胶半保留区域31B和光刻胶完全保留区域31C。
半色调掩膜工艺是利用光栅的部分透光性，将光刻胶不完全曝光。半透膜部分按所需要的凹槽的深度来决定光线透过的多少。
S104、通过刻蚀工艺去除第二导电薄膜300与光刻胶完全去除区域31A对应的部分，得到位于至少一个第一区域Z1的第二导电图案层131和位于多个第二区域Z2的第一导电图案层121。
在此，可以通过干法刻蚀工艺或湿法刻蚀工艺去除第二导电薄膜300与光刻胶完全去除区域31A对应的部分。
S105、采用灰化工艺对第一光刻胶图案31进行灰化，露出位于至少一个第一区域Z1的部分第二导电图案层131，对露出的部分第二导电图案层131进行刻蚀，在至少一个第二导电图案层131的表面形成凹槽U。
通过灰化工艺对第一光刻胶图案31进行灰化之后，第一光刻胶图案31中的光刻胶半保留区域31B被灰化掉，露出第二导电薄膜300对应光刻胶半保留区域31B的部分，通过对露出的第二导电薄膜300进行刻蚀，并通过控制刻蚀的速度，即可在第二导电薄膜300对应光刻胶半保留区域31B的部分上形成凹槽U。
其中，为了对刻蚀速度进行控制，可以采用湿法刻蚀工艺对露出的第二导电图案层131进行刻蚀。
在一些实施例中，第二导电薄膜300的材料包括ITO材料。对露出的部分第二导电图案层131进行刻蚀之前，还可以包括：对第二导电图案层131进行热处理。通过对ITO薄膜进行热处理，能够改变ITO薄膜的结晶性能，从而能够进一步提高阴极层和辅助阴极层搭接的导电性。
S106、在形成有凹槽U的衬底11上形成第三导电薄膜400和第四导电薄膜500。
可以通过沉积在形成有凹槽U的衬底11上形成第三导电薄膜400和第四导电薄膜500。根据以上第三导电图案层132的材料可以包括金属铝或铝合金，第四导电图案层133的材料可以包括ITO材料，可以得知，第三导电薄膜400的材料可以包括金属铝或铝合金。第四导电薄膜500的材料可以包括ITO材料。
S107、在形成有第三导电薄膜400和第四导电薄膜500的衬底11上形成第二光刻胶层40，通过曝光、显影，刻蚀，形成位于至少一个第一区域Z1的第四导电图案层133。
其中，可以通过涂覆在形成有第三导电薄膜400和第四导电薄膜500的衬底11上形成第二光刻胶层40。可以通过干法刻蚀或湿法刻蚀形成位于至少一个第一区域Z1的第四导电图案层133。
S108、在第四导电图案层133的遮挡下，采用第一湿法刻蚀工艺对第三导电薄膜400进行刻蚀，形成位于至少一个第一区域Z1的第三导电图案层132，使第三导电图案层132的侧壁相对于第四导电图案层133的侧壁向内缩进；第一湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与第二导电薄膜200和第四导电薄膜500不发生反应。
根据以上第三导电薄膜400的材料可以包括金属铝或铝合金，第四导电薄膜500和第二导电薄膜200的材料可以包括ITO材料，可以选用HNO3、CH3COOH和H3PO4的混酸对第三导电薄膜400进行刻蚀。
S109、在形成有第三导电图案层132的衬底上形成具有多个第一开口K1和至少一个第二开口K2的以上所述的像素界定层14。并使第一导电图案层121、第一开口K1、第二导电图案层131、第三导电图案层132、第四导电图案层133和第二开口K2具有以上所述的位置关系。
在一些实施例中，在显示面板1还包括第五导电图案层122和第六导电图案层123的情况下，在衬底11上形成第一导电图案层121、依次层叠的第二导电图案层131、第三导电图案层132和第四导电图案层133，以及像素界定层14，如图12所示，包括：
S201、在衬底11上形成第二导电薄膜300，通过构图工艺形成位于至少一个第一区域Z1的第二导电图案层131和位于多个第二区域Z2的第一导电图案层121。
可以通过沉积在衬底11上形成第二导电薄膜300。第二导电薄膜300的材料可以包括ITO材料。
通过构图工艺形成间隔的第一导电图案层121和第二导电图案层131，可以包括：在第二导电薄膜300的衬底上形成光刻胶层，通过曝光、显影、刻蚀工艺形成第一导电图案层121和第二导电图案层131。
S202、在形成有第一导电图案层121和第二导电图案层131的衬底11上依次形成第三导电薄膜400和第四导电薄膜500。
可以通过沉积在形成有第一导电图案层121和第二导电图案层131的衬底11上依次形成第三导电薄膜400和第四导电薄膜500。第三导电薄膜400的材料可以包括金属铝或铝合金。第四导电薄膜500的材料可以包括ITO材料。
S203、在形成有第三导电薄膜400和第四导电薄膜500的衬底11上形成第三光刻胶层50，通过曝光、显影，刻蚀，形成位于至少一个第一区域Z1的第四导电图案层133和位于第四导电图案层133远离衬底11一侧的第三光刻胶图案51，以及位于至少一个第二区域Z2的第六导电图案层123和位于第六导电图案层123远离衬底11一侧的第四光刻胶图案52。
可以通过涂覆在形成有第三导电薄膜400和第四导电薄膜500的衬底11上形成第三光刻胶层50，在形成第四导电图案层133和第六导电图案层123的情况下，不去除位于第四导电图案层133上的第三光刻胶图案51，以及位于第六导电图案层123上的第四光刻胶图案52。
S204、在第四导电图案层133和第六导电图案层123的遮挡下，采用第一湿法刻蚀工艺对第三导电薄膜400进行刻蚀，形成位于至少一个第一区域Z1的第三导电图案层132，使第三导电图案层132的侧壁相对于第四导电图案层133的侧壁向内缩进；以及位于至少一个第二区域Z2的第六导电图案层123，第六导电图案层123的侧壁相对于第五导电图案层122的侧壁向内缩进。第一湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与第二导电薄膜300和第四导电薄膜500不发生反应。
根据以上第二导电薄膜300和第四导电薄膜500的材料包括ITO材料，第三导电薄膜400的材料包括金属铝或铝合金，可以得知，第一湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液可以为HNO3、CH3COOH和H3PO4的混酸。
S205、在第三光刻胶图案51和第四光刻胶图案52的遮挡下，采用第二湿法刻蚀工艺对第二导电薄膜300进行刻蚀，在第二导电薄膜300未被第三导电图案层132覆盖的部分表面形成凹槽U。第二湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与第三导电薄膜400不发生反应。
根据以上第二导电薄膜300的材料包括ITO材料，第二湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液可以为HNO3、CH3COOH和H2SO4的混酸。
这里，需要说明的是，在刻蚀过程中，除第二导电薄膜300未被第三导电图案层132覆盖的部分表面形成凹槽U之外，第二导电薄膜300未被第五导电图案层132覆盖的部分表面也形成凹槽U，在此，图中仅示出了在第二导电薄膜300未被第三导电图案层132覆盖的部分表面形成凹槽U的情形。
当然，在第二导电薄膜300未被第三导电图案层132覆盖的部分表面形成凹槽U之前，也可以先形成像素界定层14，使第五导电图案层122和第六导电图案层123的侧壁与第一开口K1的侧壁接触。在形成像素界定层14之后，再对第二导电薄膜300未被第三导电图案层132覆盖的部分表面形成凹槽U，在此情况下，由于第一导电图案层121被像素界定层14覆盖，因此，也不会在第一导电图案层121未被第五导电图案层122覆盖的表面形成凹槽U。
在一些实施例中，第二导电薄膜300的材料包括ITO材料，在采用第二湿法刻蚀工艺对第二导电薄膜300进行刻蚀之前，还包括：对第二导电薄膜300进行热处理。通过对ITO薄膜进行热处理，能够改变ITO薄膜的结晶性能，从而能够进一步提高阴极层和辅助阴极层搭接的导电性。
S206、在形成有凹槽U的衬底11上形成具有多个第一开口K1和至少一个第二开口K2的以上所述的像素界定层14。并使第五导电图案层122和第六导电图案层123的侧壁与第一开口K1的侧壁接触。以及使第一开口K1、第一导电图案层121、第二开口K2、第二导电图案层131、第三导电图案层132和第四导电图案层133具有以上所述的位置关系。
在一些实施例中，如图9所示，制备方法还包括：S200、通过打印在衬底11上，且位于每个第一开口K1中形成发光功能层15。
或者，如图10所示，S200、通过蒸镀在衬底11上形成具有发光功能的薄膜100，具有发光功能的薄膜100包括位于每个第一开口K1中的部分，位于像素界定层14远离衬底11表面的部分，位于每个第四导电图案层133远离衬底11表面的部分和位于每个第一表面13a对应第二间隙g2位置处的部分。
在本实施例中，通过仅在第一开口K1中形成发光功能层15，在通过溅射形成阴极层时，能够使阴极层搭接于第一表面13a对应第一间隙g1和第二间隙g2的位置处，从而能够使阴极层与辅助阴极层搭接，并通过将阴极层沉积在凹槽U中，能够提高阴极层与辅助阴极层的搭接稳定性。
在一些实施例中，如图9和图10所示，制备方法还包括：S300、通过溅射在形成有发光功能层15或具有发光功能的薄膜100的衬底上形成第一导电薄膜200。第一导电薄膜200包括位于每个第一开口K1中的部分，位于像素界定层14远离衬底11一侧的部分和位于每个第一表面13a对应第一间隙g1位置处的部分。第一导电薄膜200位于每个第一表面13a对应第一间隙g1位置处的部分靠近衬底11的表面为第三表面200b，每个第三表面200b在第一间隙g1位置处形成有与凹槽U相咬合的凸起T。
在本实施例中，通过溅射形成第一导电薄膜200，能够使第一导电薄膜200沉积在第一表面13a对应第一间隙g1位置处，而通过对溅射所产生的原子的能量进行控制，能够使第一导电薄膜200沉积在凹槽U中，从而使第一导电薄膜200与辅助阴极层通过咬合进行接触，增大阴极层和辅助阴极层的接触面积和搭接稳定性。
本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底；
设置于所述衬底上的第一导电图案和第二导电图案，所述第一导电图案包括第一导电图案层，至少一个所述第二导电图案包括沿远离衬底的方向依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，所述第一导电图案层和所述第二导电图案层同层设置；所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿，位于所述第二导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿内；
设置于所述衬底上，且搭设于所述第一导电图案层和所述第二导电图案层边沿的像素界定层；所述像素界定层限定出多个第一开口和至少一个第二开口；每个第一开口露出一个第一导电图案层，至少一个所述第二开口露出一个第二导电图案层，且至少一个所述第二导电图案中的所述第三导电图案层和所述第四导电图案层位于一个第二开口中，至少一个所述第二导电图案层具有未被所述第三导电图案层覆盖的部分；每个第二开口位于相邻的两个第一开口之间；
在至少一个所述第二开口中，所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿位于所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿和所述第二开口的底部边沿之间，且所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿与所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿之间具有第一间隙，所述第四导电图案层与所述第二开口的底部边沿之间具有第二间隙；
至少一个所述第二导电图案层未被所述第三导电图案层覆盖的部分远离所述衬底的表面为第一表面，每个第一表面至少在所述第一间隙位置处设置有凹槽；
所述显示面板还包括设置于所述衬底上的第一导电薄膜，所述第一导电薄膜至少包括位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分，所述第一导电薄膜的表面与所述第一表面接触，且设置有与所述凹槽相咬合的凸起。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：设置于所述衬底上，且位于每个第一开口中的发光功能层，所述发光功能层与位于每个第一开口中的第一导电图案接触；
或者，
还包括：设置于所述衬底上的具有发光功能的薄膜，所述具有发光功能的薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述像素界定层远离衬底表面的部分，位于每个第四导电图案层远离所述衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第二间隙位置处的部分；其中，所述具有发光功能的薄膜位于每个第一开口中的部分与所述第一导电图案接触。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
在所述显示面板包括发光功能层的情况下，所述第一导电薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于像素界定层远离衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第一间隙和所述第二间隙位置处的部分；其中，所述第一导电薄膜位于每个第一开口中的部分与所述发光功能层接触，所述第一导电薄膜位于每个第一表面对应所述第一间隙和所述第二间隙位置处的部分靠近所述衬底的表面为第二表面，每个第二表面设置有与所述凹槽相咬合的凸起；
在所述显示面板包括具有发光功能的薄膜的情况下，所述第一导电薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述具有发光功能的薄膜远离衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分；其中，所述第一导电薄膜位于每个第一开口中的部分与所述具有发光功能的薄膜位于每个第一开口中的部分接触，所述第一导电薄膜位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分靠近所述衬底的表面为第三表面，每个第三表面设置有与所述凹槽相咬合的凸起。
4.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，
在至少一个所述第二开口中，所述凹槽的数目为多个，每个凹槽绕位于同一个第二开口中的第三导电图案层的边沿延伸。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
每个凹槽沿垂直于其延伸方向的截面形状为齿状、矩形、三角形或梯形。
6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
对于位于同一个第二开口中的凹槽、第三导电图案层和第四导电图案层而言，多个凹槽沿远离所述第三导电图案层和第四导电图案层的方向依次排列。
7.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，
至少一个所述第一导电图案还包括：沿远离衬底的方向，依次层叠设置于所述第一导电图案层远离衬底表面的第五导电图案层和第六导电图案层，所述第五导电图案层和所述第六导电图案层的侧壁与所述第一开口的侧壁接触；
所述第五导电图案层与所述第三导电图案层同层同材料，所述第六导电图案层与所述第四导电图案层同层同材料。
8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成第一导电图案层，依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，以及像素界定层；所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿，位于所述第二导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿内；
所述像素界定层限定出多个第一开口和至少一个第二开口，每个第一开口露出一个第一导电图案层，至少一个所述第二开口露出一个第二导电图案层；每个第二开口位于相邻的两个第一开口之间；至少一个第二导电图案层具有未被所述第三导电图案层覆盖的部分；
在至少一个所述第二开口中，所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿位于所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿和所述第二开口的底部边沿之间，且所述第三导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿与所述第四导电图案层在所述衬底上的正投影的边沿之间具有第一间隙，所述第四导电图案层与所述第二开口的底部边沿之间具有第二间隙；
至少一个所述第二导电图案层未被所述第三导电图案层覆盖的部分远离所述衬底的表面为第一表面，每个第一表面至少在所述第一间隙位置处形成有凹槽；
所述制备方法还包括：
在所述衬底上形成第一导电薄膜；所述第一导电薄膜至少包括位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分，所述第一导电薄膜的表面与所述第一表面接触，且设置有与所述凹槽相咬合的凸起。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底上形成第一导电薄膜之前，还包括：
通过打印在所述衬底上，且位于每个第一开口中形成发光功能层；
或者，
通过蒸镀在所述衬底上形成具有发光功能的薄膜，所述具有发光功能的薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述像素界定层远离所述衬底表面的部分，位于每个第四导电图案层远离衬底表面的部分和位于每个第一表面对应所述第二间隙位置处的部分。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述在所述衬底上形成第一导电薄膜，包括：
通过溅射在形成有所述发光功能层或者具有发光功能的薄膜的衬底上形成第一导电薄膜；所述第一导电薄膜包括位于每个第一开口中的部分，位于所述像素界定层远离所述衬底一侧的部分和位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分；
所述第一导电薄膜位于每个第一表面对应所述第一间隙位置处的部分靠近所述衬底的表面为第三表面，每个第三表面在所述第一间隙位置处形成有与所述凹槽相咬合的凸起。
11.根据权利要求8～10任一项所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述在衬底上形成第一导电图案层、依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，以及像素界定层，包括：
在衬底上形成第二导电薄膜；
在形成有所述第二导电薄膜的衬底上形成第一光刻胶层；
通过半色调掩膜工艺在所述第二导电薄膜上形成第一光刻胶图案，所述第一光刻胶图案包括光刻胶完全去除区域，光刻胶半保留区域和光刻胶完全保留区域；
通过刻蚀工艺去除所述第二导电薄膜与所述光刻胶完全去除区域对应的部分，得到位于至少一个第一区域的第二导电图案层和位于多个第二区域的第一导电图案层；
采用灰化工艺对所述第一光刻胶图案进行灰化，露出位于至少一个所述第一区域的部分第二导电图案层，对露出的部分第二导电图案层进行刻蚀，在至少一个所述第二导电图案层的表面形成所述凹槽；
在形成有所述凹槽的衬底上形成第三导电薄膜和第四导电薄膜；
在形成有所述第三导电薄膜和所述第四导电薄膜的衬底上形成第二光刻胶层，通过曝光、显影，刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第四导电图案层；
在所述第四导电图案层的遮挡下，采用第一湿法刻蚀工艺对所述第三导电薄膜进行刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第三导电图案层，使所述第三导电图案层的侧壁相对于所述第四导电图案层的侧壁向内缩进；所述第一湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与所述第二导电薄膜和第四导电薄膜不发生反应；
在形成有第三导电图案层的衬底上形成具有所述多个第一开口和所述至少一个第二开口的所述像素界定层。
12.根据权利要求11所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述第二导电薄膜的材料包括ITO材料；
对露出的部分第二导电图案层进行刻蚀之前，还包括：
对所述第二导电图案层进行热处理。
13.根据权利要求8～10任一项所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
在所述显示面板还包括第五导电图案层和第六导电图案层的情况下，所述在衬底上形成第一导电图案层、依次层叠的第二导电图案层、第三导电图案层和第四导电图案层，以及像素界定层，包括：
在衬底上形成第二导电薄膜，通过构图工艺形成位于至少一个第一区域的第二导电图案层和位于多个第二区域的第一导电图案层；
在形成有第一导电图案层和第二导电图案层的衬底上依次形成第三导电薄膜和第四导电薄膜；
在形成有所述第三导电薄膜和第四导电薄膜的衬底上形成第三光刻胶层，通过曝光、显影，刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第四导电图案层和位于第四导电图案层远离衬底一侧的第三光刻胶图案，以及位于至少一个所述第二区域的第六导电图案层和位于第六导电图案层远离衬底一侧的第四光刻胶图案；
在所述第四导电图案层和第六导电图案层的遮挡下，采用第一湿法刻蚀工艺对所述第三导电薄膜进行刻蚀，形成位于至少一个所述第一区域的第三导电图案层，和位于至少一个所述第二区域的第五导电图案层，使所述第三导电图案层的侧壁相对于所述第四导电图案层的侧壁向内缩进；所述第五导电图案层的侧壁相对于所述第六导电图案层的侧壁向内缩进；所述第一湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与所述第二导电薄膜和第四导电薄膜不发生反应；
在第三光刻胶图案和第四光刻胶图案的遮挡下，采用第二湿法刻蚀工艺对所述第二导电薄膜进行刻蚀，在所述第二导电薄膜未被所述第三导电图案层覆盖的部分表面形成凹槽；所述第二湿法刻蚀工艺所采用的刻蚀液与所述第三导电薄膜不发生反应；
在形成有凹槽的衬底上形成具有所述多个第一开口和所述至少一个第二开口的所述像素界定层，并使所述第五导电图案层和所述第六导电图案层的侧壁与所述第一开口的侧壁接触。
14.根据权利要求13所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述第二导电薄膜的材料包括ITO材料；
在采用第二湿法刻蚀工艺对第二导电薄膜进行刻蚀之前，还包括：
对所述第二导电薄膜进行热处理。
15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～7任一项所述的显示面板。
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