CN112321567B - 一种多刺激响应型材料及其制备方法和应用 - Google Patents
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Abstract
Description
技术领域
本发明属于刺激响应型材料技术领域,具体涉及具有室温长余辉和压致发光性质的材料制备方法,并涉及在潜指纹识别成像与电致发光方面的应用。
背景技术
多功能有机发光材料具有良好的光电性能,在智能显示、生物传感器等领域应用十分广泛。而刺激响应型材料作为该类材料中重要组成部分起着至关重要的作用,因其具有受物理刺激、化学刺激等方式调节发光颜色的能力。迄今为止,发现许多关于发射颜色可调的多激发响应材料的报道,这些研究为设计新型材料提供了思想理论借鉴。尽管这类传统的发光材料在受到外界刺激时可以表现出颜色的变化,但必须在紫外光下照射较长时间的才能显示出来,限制了它们的实际应用。因此,开发不需要暴露在紫外线下就能看到的发射颜色的新型刺激响应材料是急需的,但也具有挑战性。
直到最近,一系列纯有机分子在紫外-可见光刺激前后不仅可以表现出发光可调性质,而且发光可以持续几秒钟甚至几分钟,这一现象称为长余辉。这类材料有芳香族酰胺或1,3,5-三嗪等衍生物分子,该研究方法对开发提高磷光效率和延长三线态寿命具有积极作用。这些磷光材料中的大多数只有在紫外光的单一刺激下才会呈现出可调的发射颜色。
然而,另一类材料在机械力的研磨作用下可以直接发射出明亮的可见光,并且该过程不需要借助无紫外照射,这类对机械力刺激有响应的现象称为压致发光。这类现象为研究多刺激响应响应发光材料在可视化的应用起到重要作用。然而,单组分有机发射体在不需要紫外线照射的情况下实现多刺激响应特性,目前尚未成功的例子还很少,主要由于分子结构与发光机理的关系尚不明确。总的来讲,无紫外照射而通过更合理的其他外部刺激方式的实现响应材料高效发光,将有助于开发各种可视化应用技术。
发明内容
本发明的目的在于提供具有室温长余辉和压致发光性质的多重刺激响应材料制备方法,以及材料在潜指纹识别成像和电致发光方面的应用。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:多刺激响应型材料,其化学结构式如下:
其中,
Ar1为咔唑基或3,6-二叔丁基咔唑基或吖啶酮基或吩噻嗪基或9,9-二甲基吖啶基;
Ar2为2-吡啶基或3-吡啶基或4-吡啶基。
多刺激响应型材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)将碘代吡啶基咔唑与4-苯硫酚一定条件,加热发生碳硫偶联反应得到产物氟苯巯基吡啶基咔唑,所述一定条件为碘化亚铜,1,10-菲罗啉,叔丁醇钠和溶剂正丁醇;
(2)将所述步骤(1)氟苯巯基吡啶基咔唑,与氧化剂在溶剂中,加热反应得到产物氟苯砜基吡啶基咔唑;
(3)将所属步骤(2)氟苯砜基吡啶基咔唑,与含Ar1芳烃溶于溶剂,在无机金属盐作用下,加热偶联反应得到权利要求1所述的多刺激响应型材料。
优选的,所述步骤(1)中反应温度为90~130℃,加热反应时间为16~25h,所述步骤(1)中碘代吡啶基咔唑为3-碘-9-(2-吡啶)咔唑或3-碘-9-(3-吡啶) 咔唑或3-碘-9-(4-吡啶)咔唑。
优选的,所述步骤(1)中产物氟苯巯基吡啶基咔唑为3-(4-氟苯)巯基-9-(2- 吡啶)咔唑或3-(4-氟苯)巯基-9-(3-吡啶)咔唑或3-(4-氟苯)巯基-9-(4-吡啶) 咔唑。
优选的,所述步骤(2)中反应温度为15~40℃,加热反应时间为2~6h,溶剂为二氯甲烷/甲醇混合溶液,体积比为1:1~2,所述步骤(2)中氧化剂为过氧单磺酸钾。
优选的,所述步骤(3)中加热温度为120~160℃,加热反应时间为25~32h,含Ar1芳烃为咔唑基或3,6-二叔丁基咔唑基或吖啶酮基或酚噻嗪基或9,9-二甲基吖啶基,无水N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜,无机金属盐为碳酸钾或碳酸钠或碳酸铯或氟化铯。
优选的,多刺激响应型材料在潜指纹识别成像的应用。
优选的,多刺激响应型材料在电致发光中的应用。
本发明中,多刺激响应型材料在潜指纹识别成像的应用,所述刺激响应材料在潜指纹成像的应用操作步骤为:
步骤1:将粉末样品1~15mg,逐渐覆盖至待识别的指纹表面;
步骤2:将气体流量为0.5~2.5SLPM的氮气流轻轻吹扫指纹界面覆盖时间为1~2h;
步骤3:将指纹界面多余的粉末材料扫除;
步骤4:将处理后的指纹放于紫外灯下,照射时间2~3s后关闭紫外灯,分别得到紫外照射前后的指纹识别图像。
本发明中,所述刺激响应材料在电致发光的应用操作步骤为:
将刺激响应材料作为发光层,采用非掺杂方式,制备薄膜厚度为10~30nm;
器件采用真空蒸镀方法制备。
优选的,所述在电致发光器件的色度坐标可以达到(0.16,0.05)~(0.15, 0.06)的深蓝光发射区,启亮电压为3.5~4.0V。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明提供了多刺激响应的材料,分子表现出紫外光照射后长余辉可达到 5~7s,机械力研磨发出强烈的深蓝光和室温磷光发射的特性;并且分子具有较强的亲脂亲油性,使分子能够对指纹中油脂性物质有亲和作用并形成聚集现象。本发明提供的多刺激响应材料可以在不暴露与紫外光辐射下实现潜指纹细节特征精准成像;以及采用非掺杂方式制备电致发光器件,其中色度坐标可以达到 (0.16,0.05)~(0.15,0.06)的深蓝光发射区,启亮电压在3.5~4.0V,效果显著。
附图说明
图1.用于指纹识别和电致发光的分子结构。
图2.BCZPSFPYCZ的室温荧光和磷光发射光谱。
图3.CZPSFPYCZ的室温荧光和磷光发射光谱。
图4.CZPSFPYCZ材料用于指纹识,在365nm紫外光源照射和关闭紫外光源后的成像图片。
图5.BCZPSFPYCZ材料制备的器件1和CZPSFPYCZ材料制备的器件2在3.5V 驱动电压下的电致发射光谱。
图6.器件1和器件2的CIE坐标图,器件1的CIE(0.15,0.06),器件2 的CIE(0.16,0.05)。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面将结合具体实施例,进一步阐述本发明,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-6,本发明提供以下技术方案:
实施例1
刺激响应材料BCZPSFPYCZ的制备方法,包括以下步骤:
(1)分别称取原料3-碘-9-(3-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol),叔丁醇钠粉末1.73g(17.97mmol),碘化亚铜0.12g(0.60mmol),1,10-菲罗啉0.13g (0.72mmol)加入到烧瓶反应器中,进行氮气保护后,加入无水80mL正丁醇溶液;在室温下搅拌5min使固体充分溶解体系分散均匀;再将0.77g(6.03mmol)4- 苯硫酚加入反应体系并继续搅拌1min;体系加热至110℃待温度稳定后继续回流反应24h;反应结束后,粗产物加入到20mL二氯甲烷和100mL水,并使用二氯甲烷萃取(50mL×4);移除溶剂后得到粘稠液体;粘稠液体溶于30mL乙酸乙酯放于-5℃低温环境中重结晶得到无色固体产物3-(4-氟苯)巯基-9-(3-吡啶) 咔唑,产率92%,结构表征为1H NMR(DMSO-d6):δ8.92(s,1H),8.51(s,1H), 8.34(d,1H),8.15(d,1H),7.78(s,1H),7.54–7.15(m,10H)。
(2)3-(4-氟苯)巯基-9-(3-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol)加入二氯甲烷/甲醇(v/v=20mL/20mL)混合溶液中,待固体完全溶解后,加入过氧单磺酸钾 3.87g(6.29mmol)并在室温下搅拌6h,反应结束后,使用布氏漏斗抽滤除去固体杂质得到粗产物,使用二氯甲烷/正己烷=1:10→1:5→2:1洗脱剂进行色谱柱分离得到3-(4-氟苯)砜基-9-(3-吡啶)咔唑,产率为98%,结构表征为1H NMR (CDCl3):δ8.83–8.78(m,3H),8.21(d,1H),8.04–8.00(m,2H), 7.96–7.93(m,1H),7.89–7.86(m,1H),7.61(dd,1H),7.53–7.49(m, 1H),7.43–7.34(m,3H),7.19–7.14(m,2H)。
(3)3-(4-氟苯)砜基-9-(3-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑0.90g (5.39mmol),氟化铯2.23g(14.67mmol)加入无水N,N-二甲基甲酰胺(50mL)中并在氩气环境中回流24h,使用薄层色谱板(二氯甲烷/正己烷=1:1)监控反应直到3-(4-氟苯)砜基-9-(3-吡啶)咔唑完全反应,分别使用水(3×200mL)和二氯甲烷(4×50mL)洗掉溶剂并获得粗产物,使用柱层析法进行分离提纯(二氯甲烷/正己烷=1:10→1:1→4:1)得到白色固体产率92%,在高真空300℃下对白色固体进一步升华提纯得到白色粉末产物,HPLC检测纯度达到99.99%,结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.82(dd, 1H),8.56(d,1H),8.32(d,2H),8.23(d,2H),8.18–8.10(m,2H),7.92 (d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30(t, 2H)。
实施例2
实施例2制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤(1)原料为3-碘-9-(2-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(2-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(2-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6): δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.83(dd,1H),8.56(d,1H),8.32(d,2H), 8.23(d,2H),8.18–8.10(m,2H),7.92(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54 (m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30(t,2H)。
实施例3
实施例3制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤 (1)原料为3-碘-9-(4-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(4-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(4-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6): δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.81(dd,1H),8.56(d,1H),8.32(d,2H), 8.23(d,2H),8.18–8.10(m,2H),7.92(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54 (m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30(t,2H)。
实施例4
实施例4制备刺激响应材料CZPSFPYCZ的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤步骤(3)咔唑替换为3,6-二叔丁基咔唑0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR(DMSO-d6):δ9.12(d,1H),8.92(d,1H),8.82(dd,1H), 8.56(d,1H),8.30–8.26(m,4H),8.19–8.17(m,1H),8.10(dd,1H),7.91 (d,2H),7.76(dd,1H),7.57(t,2H),7.46–7.39(m,6H),1.39(s,18H)。
实施例5
实施例5制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤 (1)原料为3-碘-9-(2-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(2-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(2-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为3,6-二叔丁基咔唑0.90g (5.39mmol),结构表征为:1H NMR(DMSO-d6):δ9.12(d,1H),8.92(d,1H), 8.84(dd,1H),8.56(d,1H),8.30–8.26(m,4H),8.19–8.17(m,1H),8.10 (dd,1H),7.91(d,2H),7.76(dd,1H),7.57(t,2H),7.46–7.39(m,6H), 1.39(s,18H)。
实施例6
实施例6制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤 (1)原料为3-碘-9-(4-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(4-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(4-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为3,6-二叔丁基咔唑0.90g (5.39mmol),结构表征为:1H NMR(DMSO-d6):δ9.12(d,1H),8.92(d,1H), 8.85(dd,1H),8.56(d,1H),8.30–8.26(m,4H),8.19–8.17(m,1H),8.10 (dd,1H),7.91(d,2H),7.76(dd,1H),7.57(t,2H),7.46–7.39(m,6H), 1.39(s,18H)。
实施例7制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤步骤(3)咔唑替换为吩噻嗪0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz, DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.82(dd,1H),8.56(d,1H),8.42 (d,2H),8.43(d,2H),8.20–8.15(m,2H),7.86(d,2H),7.76(dd,1H), 7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30(t,2H)。
实施例8
实施例8制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤 (1)原料为3-碘-9-(2-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(2-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(2-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为吩噻嗪0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.84 (dd,1H),8.56(d,1H),8.42(d,2H),8.43(d,2H),8.20–8.15(m,2H), 7.86(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30 (t,2H)。
实施例9
实施例9制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤 (1)原料为3-碘-9-(4-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(4-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(4-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为吩噻嗪0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.85 (dd,1H),8.56(d,1H),8.42(d,2H),8.43(d,2H),8.20–8.15(m,2H), 7.86(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30 (t,2H)。
实施例10
实施例10制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤步骤(3)咔唑替换为吖啶酮0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz, DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.82(dd,1H),8.56(d,1H),8.44 (d,2H),8.46(d,2H),8.19–8.12(m,2H),7.82(d,2H),7.76(dd,1H), 7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30(t,2H)。
实施例11
实施例11制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤 (1)原料为3-碘-9-(2-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(2-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(2-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为吖啶酮0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.82 (dd,1H),8.56(d,1H),8.44(d,2H),8.46(d,2H),8.19–8.12(m,2H), 7.84(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30 (t,2H)。
实施例12
实施例12制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤(1)原料为3-碘-9-(4-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(4-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(4-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为吖啶酮0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.81 (dd,1H),8.56(d,1H),8.44(d,2H),8.46(d,2H),8.19–8.12(m,2H), 7.82(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30 (t,2H)。
实施例13
实施例13制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤步骤(3)咔唑替换为9,9-二甲基吖啶0.90g(5.39mmol),结构表征为:1H NMR (400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92(d,1H),8.82(dd,1H),8.56(d, 1H),8.44(d,2H),8.46(d,2H),8.19–8.12(m,2H),7.82(d,2H),7.76 (dd,1H),7.59–7.54(m,2H),7.47–7.38(m,6H),7.30(t,2H),1.02 (d,6H)。
实施例14
实施例14制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤(1)原料为3-碘-9-(2-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(2-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(2-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为9,9-二甲基吖啶0.90g (5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92 (d,1H),8.82(dd,1H),8.56(d,1H),8.45(d,2H),8.46(d,2H), 8.19–8.12(m,2H),7.82(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54(m,2H), 7.47–7.38(m,6H),7.30(t,2H),1.02(d,6H)。
实施例15
实施例15制备刺激响应材料的制备方法与实施例1相同,不同之处是步骤 (1)原料为3-碘-9-(4-吡啶)咔唑2.21g(5.97mmol);步骤(2)原料为3-(4- 氟苯)巯基-9-(4-吡啶)咔唑2.12g(5.72mmol);步骤(3)原料为3-(4-氟苯)砜基-9-(4-吡啶)咔唑1.97g(4.89mmol),咔唑替换为9,9-二甲基吖啶0.90g (5.39mmol),结构表征为:1H NMR(400MHz,DMSO-d6):δ9.16(d,1H),8.92 (d,1H),8.82(dd,1H),8.56(d,1H),8.43(d,2H),8.46(d,2H), 8.19–8.12(m,2H),7.82(d,2H),7.76(dd,1H),7.59–7.54(m,2H), 7.47–7.38(m,6H),7.30(t,2H),1.02(d,6H)。
实施例16:
潜指纹识别成像:
使用材料CZPSFPYCZ对油脂性指纹进行识别成像,在材质表面印上指纹,将材料粉末CZPSFPYCZ轻轻吹扫于待识别的指纹表面,用气体流量为0.5~2.5 SLPM的氮气流轻轻吹扫指纹界面,时间为1~2h,随后,仔细清除指纹表面多余的粉末,用365nm紫外光照射处理后指纹,在紫外灯照射下,指纹表现出深蓝色发光,指纹的细节从一级到三级结构可以被观察到;在关闭紫外光源,暖黄色的指纹包括一级到三级细节可以被观察到,该成像可以持续至少5~7s(见附图4)。
实施例17:
电致发光器件:
将发光材料分别为BCZPSFPYCZ和CZPSFPYCZ通过真空蒸镀方法得到非掺杂器件1和器件2,器件1和器件2的结构为ITO(50nm)/PEDOT:PSS(60nm)/TAPC (20nm)/mCP(10nm)/emitter(25nm)/TSPO1(5nm)/TPBi(20nm)/LiF(1 nm)/Al(200nm),器件1和器件2在3.5~4.0V电压下电致发光,其最大发射波长分别为421nm和409nm(见附图5),器件1和器件2的CIE坐标图,器件1的CIE(0.15,0.06),器件2的CIE(0.16,0.05)(见附图6)。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (8)
2.如权利要求1所述的一种多刺激响应型材料的制备方法,步骤为:
(1)碘代吡啶基咔唑与4-苯硫酚,碘化亚铜,1,10-菲罗啉,叔丁醇钠和溶剂正丁醇混合,加热发生碳硫偶联反应得到产物氟苯巯基吡啶基咔唑,加热温度为90~130℃,加热反应时间为16~25h,所述碘代吡啶基咔唑为3-碘-9-(2-吡啶)咔唑或3-碘-9-(3-吡啶)咔唑或3-碘-9-(4-吡啶)咔唑;
(2)将所述步骤(1)氟苯巯基吡啶基咔唑,与氧化剂在溶剂中,加热反应得到产物氟苯砜基吡啶基咔唑;
(3)将所述步骤(2)氟苯砜基吡啶基咔唑,与含Ar1芳烃溶于溶剂,在无机金属盐作用下,加热偶联反应得到多刺激响应型材料,加热温度为120~160℃,加热反应时间为25~32h,含Ar1芳烃为咔唑基或3,6-二叔丁基咔唑基,溶剂为无水N, N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜,无机金属盐为碳酸钾或碳酸钠或碳酸铯或氟化铯。
3.根据权利要求2所述的一种多刺激响应型材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中加热温度为15~40℃,加热反应时间为2~6h,溶剂为二氯甲烷/甲醇混合溶液,体积比为1:1~2,氧化剂为过氧单磺酸钾。
4.如权利要求1所述的一种多刺激响应型材料在潜指纹识别成像的应用。
5.根据权利要求1所述的一种多刺激响应型材料在电致发光器件的应用。
6.根据权利要求4所述的一种多刺激响应型材料在潜指纹识别成像的应用,其特征在于,所述刺激响应材料在潜指纹成像的应用操作步骤为:
步骤1:将粉末样品1~15mg,逐渐覆盖至待识别的指纹表面;
步骤2:将气体流量为0.5~2.5 SLPM的氮气流轻轻吹扫指纹界面覆盖时间为1~2h;
步骤3:将指纹界面多余的粉末材料扫除;
步骤4:将处理后的指纹放于紫外灯下,照射时间2~3s后关闭紫外灯,分别得到紫外照射前后的指纹识别图像。
7.根据权利要求5所述的一种多刺激响应型材料在电致发光器件的应用,其特征在于,所述刺激响应材料在电致发光的应用操作步骤为:
将刺激响应材料作为发光层,采用非掺杂方式,制备薄膜厚度为10~30nm;
器件采用真空蒸镀方法制备。
8.根据权利要求5所述的一种多刺激响应型材料在电致发光器件的应用,其特征在于,所述在电致发光器件的色度坐标可以达到(0.16,0.05)和(0.15,0.06)的深蓝光发射区,启亮电压为3.5~4.0V。
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