CN112310176A - 一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置，该显示面板包括：阵列基板、第一电极层、第一像素定义层、第二像素定义层和发光材料。第一像素定义层的厚度为0.2μm以下。第二像素定义层沿第二方向设置在第一面上，且横跨第一像素定义层，第一方向与第二方向相交。其中，相邻的两个第二像素定义层之间设置有同一颜色的发光材料，且发光材料覆盖两个第二像素定义层之间的第一像素定义层。该显示面板采用Line Bank结构，并对其中的第一像素定义层进行改进，减薄了第一像素定义层的厚度，改善了发光材料在相同颜色像素的铺展性，并提高了开口率。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置。
背景技术
Line Bank结构，由行列排布的第一像素定义层(Bank1)和第二像素定义层(Bank2)构成。其中，第一像素定义层和第二像素定义层的厚度不同，Bank2厚于Bank1。第一像素定义层和第二像素定义层均为有机材料，其中Bank2为疏水性材料，Bank1为亲水性材料。为了保证相同光色打印时的墨水铺展性，流动性，Bank1的厚度最佳为0.3um以下。但Bank1有机材料的涂料(Coater)工艺无法满足，需要coater高厚度，如1μm，再做薄化处理(一般是Dry/ash减薄)，但为了保证均匀性，减薄水平有限。目前量产实绩bank1厚度为0.4μm以上,引起墨水爬坡的流动性不佳，最终相同颜色像素内墨水容量有偏差。另外Bank1采用有机材料形成的宽度较宽，也对开口率有影响。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置，能够改善墨水在相同颜色像素的铺展性，并提高开口率。
本申请提供一种显示面板，包括：
阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；
第一电极层，所述第一电极层设置在所述第一面上，所述第一电极层设置有多个，且所述第一电极层与所述第一电极层之间具有间隔；
第一像素定义层，所述第一像素定义层沿第一方向设置在所述第一面上，且设置在所述间隔内，所述第一像素定义层的端部延伸至所述第一电极层远离所述第一面的一侧，所述第一像素定义层的厚度为0.2μm以下；
第二像素定义层，所述第二像素定义层沿第二方向设置在所述第一面上，且横跨所述第一像素定义层，所述第一方向与所述第二方向相交；
发光材料，所述发光材料设置在所述第一电极层远离所述第一面的一侧；其中，相邻的两个所述第二像素定义层之间设置有同一颜色的发光材料，且所述发光材料覆盖两个所述第二像素定义层之间的所述第一像素定义层。
在一些实施例中，所述第一像素定义层延伸至所述第一电极层的水平长度为2μm以下。
在一些实施例中，所述第一像素定义层包括第一部和第二部，所述第一像素定义层延伸至所述第一电极层的部分为所述第一部，所述第一像素定义层设置在所述间隔内的部分为所述第二部，所述第一部的高度大于所述第二部的高度。
在一些实施例中，还包括第二电极层，所述第二电极层设置在所述第一像素定义层、所述第二像素定义层和所述发光材料远离所述第一面的一侧。
在一些实施例中，所述第二电极层在发光材料表面的高度高于所述第二电极层在所述第一像素定义层上的高度，且低于所述第二电极层在所述第二像素定义层上的高度。
在一些实施例中，所述第一像素定义层采用无机材料，所述第二像素定义层采用有机疏水材料。
在一些实施例中，所述第一像素定义层层的厚度小于所述第二像素定义层的厚度。
本申请提供一种显示面板制程方法，包括：
提供一阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；
在所述第一面设置第一电极层，所述第一电极层设置有多个，且所述第一电极层与所述第一电极层之间具有间隔；
在所述第一面上沿第一方向设置第一像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述间隔内，且所述第一像素定义层的端部延伸至所述第一电极层远离所述第一面的一侧，所述第一像素定义层的厚度为0.2μm以下；
在所述第一面上沿第二方向设置第二像素定义层，所述第二像素定义层横跨所述第一像素定义层，所述第一方向与所述第二方向相交；
在所述第一电极层远离所述第一面的一侧设置发光材料；其中，相邻的两个所述第二像素定义层之间设置有同一颜色的发光材料，且所述发光材料覆盖两个所述第二像素定义层之间的所述第一像素定义层。
在一些实施例中，所述在所述第一面上沿第一方向设置第一像素定义层，所述第一像素定义层延伸至所述第一电极层远离所述第一面的一侧，包括：
采用沉积的方法在所述第一面上设置第一像素定义层薄膜；
对所述第一像素定义层薄膜进行图案化处理得到沿第一方向设置的第一像素定义层薄膜；
对所述第一像素定义层薄膜进行干燥处理得到所述第一像素定义层。
本申请提供一种显示装置，包括以上所述的显示面板。
本申请实施例所提供的显示面板，包括阵列基板、第一电极层、第一像素定义层、第二像素定义层和发光材料。阵列基板包括相对设置的第一面和第二面。第一电极层设置在所述第一面上，第一电极层设置有多个，且第一电极层与第一电极层之间具有间隔。第一像素定义层沿第一方向设置在第一面上，且设置在间隔内，第一像素定义层的端部延伸至第一电极层远离第一面的一侧，第一像素定义层的厚度为0.2μm以下。第二像素定义层沿第二方向设置在第一面上，且横跨第一像素定义层，第一方向与第二方向相交。发光材料设置在第一电极层远离第一面的一侧；其中，相邻的两个第二像素定义层之间设置有同一颜色的发光材料，且发光材料覆盖两个第二像素定义层之间的第一像素定义层。本申请实施例提供的显示面板，采用了Line Bank结构，对其中的第一像素定义层进行改进，减薄了第一像素定义层的厚度，改善了发光材料在相同颜色像素区域内的铺展性，并提高了开口率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种俯视结构示意图；
图2为本申请实施例提供的第一种膜层结构示意图；
图3为本申请实施例提供的第二种膜层结构示意图；
图4为本申请实施例提供的第三种膜层结构示意图；
图5为本申请实施例提供的一种显示面板制程工艺流程图；
图6为本申请实施例提供的一种显示装置结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
需要说明的是，在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
本申请实施例提供一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置，以下对显示面板做详细介绍。
请参阅图1和图2，图1是本申请实施例中的显示面板10的一种俯视结构示意图，该显示面板10采用的是Line Bank结构，采用沿第一方向排布的第一像素定义层103和沿第二方向排布的第二像素定义层104分隔各像素，其中，第一方向和第二方向相交。第二像素定义层104分隔不同颜色的发光材料105。其中，发光材料105包括红色发光材料105a、蓝色发光材料105b和绿色发光材料105c。图1中红色发光材料105a、蓝色发光材料105b和绿色发光材料105c的排布顺序仅为示意，不作为对本申请的限制。红色发光材料105a、蓝色发光材料105b和绿色发光材料105c在Line Bank结构中的设置为本领域技术人员熟知的技术手段，在此不再赘述。
图2是本申请实施例中显示面板10的第一种膜层结构示意图。图2是指显示面板10的膜层结构示意图，并不是指图1的某个截面示意图，仅表示阵列基板101、第一电极层102、第一像素定义层103、第二像素定义层104和发光材料105之间的膜层关系。
其中，显示面板10包括阵列基板101、第一电极层102、第一像素定义层103、第二像素定义层104和发光材料105。阵列基板101包括相对设置的第一面101a和第二面101b。第一电极层102设置在第一面101a上，第一电极层102设置有多个，且第一电极层102与第一电极层102之间具有间隔。第一像素定义层103沿第一方向设置在第一面101a上，且设置在间隔内，第一像素定义层103的端部延伸至第一电极层102远离第一面101a的一侧，第一像素定义层103的厚度为0.2μm以下。第二像素定义层104沿第二方向设置在第一面101a上，且横跨第一像素定义层103，第一方向与第二方向相交。发光材料105设置在第一电极层102远离第一面101a的一侧；其中，相邻的两个第二像素定义层104之间设置有同一颜色的发光材料105，且发光材料105覆盖两个第二像素定义层104之间的第一像素定义层103。
本申请实施例提供的显示面板，采用了Line Bank结构，对其中的第一像素定义层103进行改进，减薄了第一像素定义层103的厚度，改善了发光材料105在相同颜色像素区域内的铺展性，并提高了开口率。
其中，图1中的沿x轴延伸的方向为第一方向，沿y轴延伸的方向为第二方向。图1中以第一方向与第二方向相互垂直为示例，并非是对本申请提供的第一像素定义层103和第二像素定义层104排布方向的限制。
需要说明的是，第一面101a可以为阵列基板101的上表面，第二面101b可以为阵列基板101的下表面。当然，第一面101a也可以为阵列基板101的下表面，第二面101b可以为阵列基板101的上表面。本申请实施例中不做特殊说明的情况下，默认为第一面101a为阵列基板101的上表面，第二面101b为阵列基板101的下表面。
其中，阵列基板101是薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板。TFT为低温多硅晶(LTPS,Low Temperature Poly-Silicon)TFT、氧化物(Oxide)TFT或固相结晶化(SPC,Solid Phase Crystallization)TFT中任一种。
其中，第一像素定义层103的厚度为0.05μm、0.07μm、0.1μm、0.12μm、0.15μm、0.17μm或0.2μm。
其中，第一像素定义层103采用无机材料，第二像素定义层104采用有机疏水材料。具体地，第二像素定义层104可采用有机硅、有机氟、聚烯烃、聚碳酸酯、聚酰胺或聚丙烯腈。无机材料的制程能够改善第一像素定义层103的厚度，提高减薄水平。第一像素定义层103厚度降低后，能够改善发光材料105的爬坡流动性。另外，第一像素定义层103采用有机材料时，其水平长度(taper distance)较长，对开口率影响较大。因此本申请采用无机材料制作第一像素定义层103，在减薄第一像素定义层103厚度的同时，降低了第一像素定义层103的水平长度。另外，还可以改善发光材料105墨水的爬坡流动性。而第二像素定义层104主要用于分隔不同颜色的发光材料105，因此采用有机疏水材料，防止发光材料105混色，影响显示效果。具体地，第一像素定义层103采用氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中任一种或多种的组合。使第一像素定义层103的厚度保证在0.2μm以下。
其中，第一像素定义层103延伸至第一电极层102的水平长度为2μm以下。具体地，第一像素定义层103延伸至第一电极层102的水平长度为1μm、1.2μm、1.5μm、1.7μm或2μm。由于第一像素定义层103在图案化工艺后需要做减薄，减薄工序需考虑膜厚和长度的误差，需要预留工艺外边距(margin)，相关技术中第一像素定义层103采用有机材料，其减薄工艺的外边距需要预留3μm以上。而本申请中第一像素定义层103采用无机材料，无机材料制程其外边距可以减小到2μm以下。从而可以减小第一像素定义层103的水平长度(taperdistance)，进而提高显示面板10的开口率。
其中，第一像素定义层103的厚度小于第二像素定义层104的厚度。降低第一像素定义层103的厚度，能够改善发光材料105打印时的爬坡流动性，使同颜色的发光材料105能够更好的附着在第一像素定义层103上。第二像素定义层104的厚度需要设置地较厚，是为了更好的分隔不同颜色发光材料105，防止发光材料105混色，影响显示面板10的显示效果。
其中，请参阅图3，图3是本申请实施例提供的显示面板10的第二种膜层结构示意图。第一像素定义层103包括第一部103a和第二部103b，第一像素定义层103延伸至第一电极层102的部分为第一部103a，第一像素定义层103设置在间隔内的部分为第二部103b，第一部103a的高度大于第二部103b的高度。这是因为第一像素定义层103采用无机材料制成，因此在减薄工艺中能够得到更薄的减薄效果，得到一个凹陷的形状。一方面，可以使第一像素定义层103的厚度较均一地保持在0.2μm以下。另一方面，能够使同一种颜色的发光材料105更好地附着在第一像素定义层103上，提高发光材料105喷墨打印制程时的铺展性，使同色各像素内部的发光材料105厚度均匀。
需要说明的是，第一像素定义层103是一个整体结构，图3中示意第一部103a和第二部103b是为了说明第一像素定义层103在不同处的高度不同，因而导致其形状在间隔内略有凹陷，而不是表示第一像素定义层103是由两个部件组成。
其中，请参阅图4，图4是本申请实施例提供的显示面板10的第三种膜层结构示意图。该显示面板10还包括第二电极层106，第二电极层106设置在第一像素定义层103、第二像素定义层104和发光材料105远离第一面101a的一侧。
其中，第二电极层106在发光材料105表面的高度高于第二电极层106在第一像素定义层103上的高度，且低于第二电极层106在第二像素定义层104上的高度。这是由于第二电极层106是整面制程，在第一像素定义层103、第二像素定义层104和发光材料105各处的厚度均一。
本申请实施例提供的显示面板10采用了Line Bank结构，这种像素定义层结构能够提高打印作业时间(tact time)及高分辨率下的打印精度容错率。本申请对其中的第一像素定义层103进行改进，将第一像素定义层采用无机材料制程，减薄了第一像素定义层103的厚度，将第一像素定义层103的厚度降低为0.2μm以下。由此改善了发光材料105在相同颜色像素区域内的铺展性，并提高了开口率。
本申请实施例提供一种显示面板制程方法，以下对显示面板制程方法做详细介绍。请参阅图5，图5是本申请实施例中的显示面板制程方法的一种流程示意图。本申请实施例提供的显示面板制程方法，具体包括如下步骤：
201、提供一阵列基板，阵列基板包括相对设置的第一面和第二面。
202、在第一面设置第一电极层，第一电极层设置有多个，且第一电极层与第一电极层之间具有间隔。
203、在第一面上沿第一方向设置第一像素定义层，第一像素定义层设置在间隔内，且第一像素定义层的端部延伸至第一电极层远离第一面的一侧，第一像素定义层的厚度为0.2μm以下。
其中，采用沉积的方法在第一面上设置第一像素定义层薄膜。然后对第一像素定义层薄膜进行图案化处理得到沿第一方向设置的第一像素定义层薄膜。在对第一像素定义层薄膜进行干燥处理得到第一像素定义层。
其中，沉积的方法可以为物理气相沉积、化学气相沉积或等离子化学气相沉积。图案化处理可以采用光刻的方法。具体地，在等离子体或电场的作用下，对第一像素定义层材料进行轰击，把第一像素定义层材料的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的第一像素定义层材料带有一定的动能，沿一定的方向射向第一面，从而在第一面上形成第一像素定义层薄膜。然后在第一像素定义层薄膜上涂布光刻胶，对光刻胶依次进行前烘和图案化曝光，再通过显影得到图案化的第一像素定义层薄膜，使第一像素定义层薄膜沿第一方向设置在间隔内。最后对第一像素定义层薄膜进行干燥得到第一像素定义层。
本申请提供的第一像素定义层设置方法，通过沉积的方法直接得到第一像素定义层，无需受制程工艺限制在涂布高厚度后再进行减薄。一方面简化了第一像素定义层的制程工艺，可以提高生产效率。另一方面，减薄了第一像素定义层，改善了发光材料的爬坡铺展性。
204、在第一面上沿第二方向设置第二像素定义层，第二像素定义层横跨第一像素定义层，第一方向与第二方向相交。
205、在第一电极层远离第一面的一侧设置发光材料；其中，相邻的两个第二像素定义层之间设置有同一颜色的发光材料，且发光材料覆盖两个第二像素定义层之间的第一像素定义层。
其中，采用喷墨打印的方法在第一电极层远离第一面的一侧设置发光材料。具体地，在第一面上喷墨印刷发光材料墨水，然后对发光材料墨水进行平坦化处理并干燥，再对发光材料墨水进行烘烤以得到发光材料。喷墨印刷的方法可以精确控制成膜区域，能够节约材料，降低成本，提高产品良率。
其中，在第一电极层远离第一面的一侧设置发光材料之后，还包括采用蒸镀的方法在第一像素定义层、第二像素定义层和发光材料远离第一面的一侧设置第二电极层。蒸镀的方式成膜方法简单、膜层层薄膜纯度和致密性高，采用蒸镀的方法厚度可控，容易得到低电阻的第二电极层。
本申请实施例提供的显示面板制程方法，在第一像素定义层的制程中采用无机制程，可以减薄第一像素定义层的厚度。在相关技术中，第一像素定义层采用有机材料，但为了保证有机第一像素定义层线宽、线距等关键尺寸能够符合生产要求,以及保证有机第一像素定义层厚度的均匀性和稳定性，第一像素定义层厚度仍然较厚，墨水爬坡铺展性不佳。而本申请中的第一像素定义层是无机材料，因此可以采用沉积的方法制成，沉积的方法速度快，膜层致密，附着性好，很适合于大批量，高效率工业生产。还能够有效减薄第一像素定义层厚度，并且能够减小第一像素定义层的水平长度，从而提高开口率。另外，发光材料采用喷墨印刷的方法，降低第一像素定义层厚度可以改善发光材料的铺展效果，提高了各像素间发光材料的铺展均匀性。
本申请提供一种显示装置100，图6为本申请实施例中显示装置100的结构示意图。其中，显示装置100包括以上所述的显示面板10和封装层20，显示装置100还可以包括其他装置。本申请实施例中封装层20和其他装置及其装配是本领域技术人员所熟知的相关技术，在此不做过多赘述。
本申请实施例提供的显示装置100，包括显示面板10和封装层20。显示面板10采用无机材料制成第一像素定义层，减薄了第一像素定义层的厚度，将第一像素定义层的厚度降低为0.2μm以下。改善了发光材料的铺展效果，提高了各像素间发光材料的铺展均匀性，进而可改善显示装置的显示效果。并且本申请中，第一像素定义层的水平长度减小，有利于提高显示装置的开口率。
以上对本申请实施例提供显示面板、显示面板制程方法及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请。同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；
第一电极层，所述第一电极层设置在所述第一面上，所述第一电极层设置有多个，且所述第一电极层与所述第一电极层之间具有间隔；
第一像素定义层，所述第一像素定义层沿第一方向设置在所述第一面上，且设置在所述间隔内，所述第一像素定义层的端部延伸至所述第一电极层远离所述第一面的一侧，所述第一像素定义层的厚度为0.2μm以下；
第二像素定义层，所述第二像素定义层沿第二方向设置在所述第一面上，且横跨所述第一像素定义层，所述第一方向与所述第二方向相交；
发光材料，所述发光材料设置在所述第一电极层远离所述第一面的一侧；其中，相邻的两个所述第二像素定义层之间设置有同一颜色的发光材料，且所述发光材料覆盖两个所述第二像素定义层之间的所述第一像素定义层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义层延伸至所述第一电极层的水平长度为2μm以下。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义层包括第一部和第二部，所述第一像素定义层延伸至所述第一电极层的部分为所述第一部，所述第一像素定义层设置在所述间隔内的部分为所述第二部，所述第一部的高度大于所述第二部的高度。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括第二电极层，所述第二电极层设置在所述第一像素定义层、所述第二像素定义层和所述发光材料远离所述第一面的一侧。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二电极层在发光材料表面的高度高于所述第二电极层在所述第一像素定义层上的高度，且低于所述第二电极层在所述第二像素定义层上的高度。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义层采用无机材料，所述第二像素定义层采用有机疏水材料。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义层层的厚度小于所述第二像素定义层的厚度。
8.一种显示面板制程方法，其特征在于，包括：
提供一阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；
在所述第一面设置第一电极层，所述第一电极层设置有多个，且所述第一电极层与所述第一电极层之间具有间隔；
在所述第一面上沿第一方向设置第一像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述间隔内，且所述第一像素定义层的端部延伸至所述第一电极层远离所述第一面的一侧，所述第一像素定义层的厚度为0.2μm以下；
在所述第一面上沿第二方向设置第二像素定义层，所述第二像素定义层横跨所述第一像素定义层，所述第一方向与所述第二方向相交；
在所述第一电极层远离所述第一面的一侧设置发光材料；其中，相邻的两个所述第二像素定义层之间设置有同一颜色的发光材料，且所述发光材料覆盖两个所述第二像素定义层之间的所述第一像素定义层。
9.根据权利要求8所述的显示面板制程方法，其特征在于，所述在所述第一面上沿第一方向设置第一像素定义层，所述第一像素定义层延伸至所述第一电极层远离所述第一面的一侧，包括：
采用沉积的方法在所述第一面上设置第一像素定义层薄膜；
对所述第一像素定义层薄膜进行图案化处理得到沿第一方向设置的第一像素定义层薄膜；
对所述第一像素定义层薄膜进行干燥处理得到所述第一像素定义层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括一种显示面板，所述显示面板为权利要求1至7任一项所述的显示面板。
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