CN112309847B - 显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制作方法。该显示面板的制作方法包括：在衬底上形成金属薄膜层；在该金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；对该光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；将未被该光阻图案覆盖的该疏水层去除；对未被该疏水层覆盖的该金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域，尤其涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
随着生活水平的提高，人们对显示器尺寸、分辨率和画面刷新速率的追求越来越高，因此采用铜取代铝作为导电金属材料。
导电层包括铜膜时，与玻璃基板以及含硅介电层的附着力较差，在进行高温制程后，容易出现膜层脱落现象，现有技术中，一般通过在铜膜上下沉积极性较强的金属或合金材料以提高铜膜与介电层的附着力，但在导电层图案化过程中，极性较强的金属或合金与光阻层的粘附力较差，容易出现光阻层意外脱落，导致图案化导电层良率不高的技术问题。
因此，亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述技术问题。
发明内容
本申请提供了一种显示面板及其制作方法，以解决现有技术中，在导电层图案化过程中，金属或合金与光阻层的粘附力较差，容易出现光阻层意外脱落，导致图案化导电层良率不高的技术问题。
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
一种显示面板的制作方法，包括：
在衬底上形成金属薄膜层；
在所述金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；
对所述光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；
将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
对未被所述疏水层覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。
在本申请的显示面板的制作方法中，所述第一电极层为栅极层，或所述第一电极层为源漏极层。
在本申请的显示面板的制作方法中，所述显示面板的制作方法还包括：
剥离所述光阻层；
利用等离子气体处理所述疏水层，将所述疏水层剥离。
在本申请的显示面板的制作方法中，利用等离子气体处理，将所述疏水层剥离的步骤包括：
利用氢气等离子或氧气等离子处理所述疏水层，使得所述疏水层与氢气等离子或氧气等离子形成碳氢气体或碳氧气体，将所述疏水层剥离。
在本申请的显示面板的制作方法中，形成第一电极层之后还包括：
在所述第一电极层上形成钝化层；
在所述钝化层上形成像素电极层。
在本申请的显示面板的制作方法中，所述第一电极层包括第一阻挡层、及位于所述第一阻挡层上的第一金属薄膜层。
在本申请的显示面板的制作方法中，所述第一电极层还包括位于所述第一金属薄膜层上的第二阻挡层。
在本申请的显示面板的制作方法中，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除的步骤包括：
利用等离子气体处理，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
其中，所述等离子气体包括氢气等离子或氧气等离子。
在本申请的显示面板的制作方法中，所述疏水层的材料为双层石墨烯、三层石墨烯、碳纤维、碳纳米管中的任意一种或多种的组合。
本申请还提供了一种显示面板，所述显示面板利用如任一上述的显示面板的制作方法制作形成。
有益效果：本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请的显示面板的制作方法的步骤流程图；
图2为本申请的显示面板的制作方法中第一种结构示意图；
图3为本申请的显示面板的制作方法中第二种结构示意图；
图4为本申请的显示面板的制作方法中第三种结构示意图；
图5为本申请的显示面板的制作方法中第四种结构示意图；
图6为本申请的显示面板的制作方法中第五种结构示意图；
图7为本申请的显示面板的制作方法中第六种结构示意图；
图8为本申请的显示面板的制作方法中第七种结构示意图；
图9为本申请的显示面板的制作方法中第八种结构示意图；
图10为本申请的显示面板的制作方法中第九种结构示意图；
图11为本申请的显示面板的制作方法中第十种结构示意图；
图12为本申请的显示面板的制作方法中第十一种结构示意图；
图13为本申请的显示面板的制作方法中第十二种结构示意图；
图14为本申请的显示面板的制作方法中第十三种结构示意图；
图15为本申请的显示面板的制作方法中第十四种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
导电层包括铜膜时，与玻璃基板以及含硅介电层的附着力较差，在进行高温制程后，容易出现膜层脱落现象，现有技术中，一般通过在铜膜上下沉积极性较强的金属或合金材料以提高铜膜与介电层的附着力，但在导电层图案化过程中，极性较强的金属或合金与光阻层的粘附力较差，容易出现光阻层意外脱落，导致图案化导电层良率不高的技术问题。
请参阅图1～图15，本申请还公开了一种显示面板100的制作方法，包括：
S100、在衬底上形成金属薄膜层。
S200、在所述金属薄膜层上形成疏水层700及光阻层。
S300、对所述光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案。
S400、将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层700去除。
S500、对未被所述疏水层700覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。
本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
请参阅图1～图15，所述显示面板100的制作方法，包括：
S100、在衬底200上形成金属薄膜层601。
本实施例中，所述金属薄膜层601为栅极层300的材料或源漏极层600的材料，即步骤S500形成的第一电极层为栅极层或源漏极层，在此不做限定，为方便描述，以下以所述金属薄膜层601为源漏极层600的材料为例，即形成所述第一电极层为所述源漏极层600进行描述，具体请参阅图2～图15，特此说明。
本实施例中，所述金属薄膜层601的厚度为100埃米～500埃米。
本实施例中，形成所述源漏极层600之前还包括：
S110、在衬底200上形成栅极层300。
本实施例中，所述栅极层300的具体结构及制作方法与源漏极层600类似，可以参阅源漏极层600的结构及方法，具体请参阅图2～图8，在此不再赘述。
S120、在所述栅极层300上形成栅绝缘层400。
S130、在所述栅绝缘层400上形成有源层500。
本实施例中，所述源漏极层600的材料包括与所述有源层500接触的对应区域内掺杂有以下元素钼、钛、钨、钽中任意一种或多种的组合。在靠近所述源漏极层600方向上，对应区域内掺杂的元素含量逐渐增大。增大有源层500与源漏极层600之间的粘结力，减少膜层脱落，增加电连接稳定性。
第一电极层本实施例中，以金属薄膜层601经图案化处理最终形成源漏极层600为例，所述源漏极层600包括第一阻挡层610、及位于所述第一阻挡层610上的第一金属薄膜层620，具体请参阅图10、图13。所述第一阻挡层610的材料包括钼、钛、钨、钽中任意一种或多种的组合。所述第一金属薄膜层620的材料为铜、铝、银中任意一种或多种的组合。所述第一阻挡层610提高了所述源漏极层600与有源层500之间的粘结力。
本实施例中，所述源漏极层600还包括位于所述第一金属薄膜层620上的第二阻挡层630，所述第二阻挡层630的材料为钼、钛、钨、钽中任意一种或多种的组合。所述第一金属薄膜层620位于所述第一阻挡层610与所述第二阻挡层630之间，具体请参阅图11、图14，所述第二阻挡层630提高了所述源漏极层600在图案化处理时与光阻层之间的粘结力，避免了光阻层的脱落，提高了图案化处理的精准度。
S200、在所述金属薄膜层601上形成所述疏水层700及光阻层710。
本实施例中，步骤S200包括：
S210、在所述金属薄膜层601上形成至少一所述疏水层700，具体请参阅图3。
本实施例中，所述疏水层700的材料为双层石墨烯、三层石墨烯、碳纤维、碳纳米管中的任意一种或多种的组合。利用相似相溶的原理，疏水性的材料与光阻层的粘结性好，所述疏水层700可以在制作显示面板100时，与光阻层有更好地粘结力，防止了光阻层的脱落，提高了制作显示面板100的质量。同时，双层石墨烯、三层石墨烯、碳纤维、碳纳米管均是良好的导电导热材料，可以更好地为所述栅极层300或/和所述源漏极层600降低电阻，在显示面板100工作时，更好地使热量导出散热，避免显示面板100热量聚积导致显示不良。同时，双层石墨烯、三层石墨烯、碳纤维、碳纳米管均是柔性材料，可以提供给柔性显示面板100更好的弯折性，降低整体显示面板100的弯折应力，显示面板100在弯折时，依然可以提供有信赖的显示效果。
S220、所述疏水层700上形成一光阻层710，具体请参阅图3。
本实施例中，所述光阻层710的材料可以为有机光阻材料，用于图案化处理所述疏水层700。
S300、对所述光阻层710进行图案化处理，以形成光阻图案。
本实施例中，步骤S300包括：利用曝光显影制程，将所述光阻层710进行第一图案化处理，在所述光阻层710上形成包括多个第一开孔711的第一图案。所述第一开孔711使所述疏水层700裸露，具体请参阅图4。
S400、将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层700去除。
本实施例中，利用等离子气体处理，将所述疏水层700进行与所述第一图案化处理对应的第二图案化处理，以在所述疏水层700上形成与所述第一图案对应的第二图案。
本实施例中，利用氢气等离子或氧气等离子处理所述疏水层700，使得部分所述疏水层700与氢气等离子形成碳氢气体或碳氧气体，以使所述金属薄膜层裸露，将所述疏水层700上形成与所述第一图案对应的第二图案。
本实施例中，步骤S400包括：利用等离子气体处理，将所述疏水层700进行第二图案化处理，以在所述疏水层700上形成包括多个第二开孔712的第二图案。其中，一所述第二开孔712与一所述第一开孔711对应。所述第二开孔712使所述金属薄膜层裸露，具体请参阅图5。
S500、对未被所述疏水层700覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。
本实施例中，光阻层710与所述疏水层700的粘结性好，在蚀刻过程中，避免了光阻层710的翘起脱落，从而提高了图案化处理的精准度，也提高了所述源漏极层600在与钝化层800或一些绝缘层之间的粘结力，避免了膜层之间的脱落。
本实施例中，利用刻蚀制程，将所述金属薄膜层601进行与所述第一图案化处理及所述第二图案化处理对应的第三图案化处理，以形成包括多个第三开孔930的源漏极层600。
本实施例中，所述第三图案化处理利用刻蚀制程，利用刻蚀液腐蚀所述金属薄膜层601的对应区域，以完成所述第三图案化处理。
本实施例中，所述第三开孔930贯穿所述源漏极层600、及使所述显示面板100的有源层500裸露，具体请参阅图6。所述第三开孔930内填充有后续的钝化层800，具体请参阅图9～图15。
本实施例中，步骤S500后还包括：
S510、剥离所述光阻层710。剥离所述光阻层710进行下一步的显示面板100制作。
本实施例中，剥离所述光阻层710，露出所述疏水层700，具体请参阅图7。
本实施例中，在步骤S600之前，步骤S510之后还可以包括：
S520、利用等离子气体处理所述疏水层700，将所述疏水层700剥离。
本实施例中，所述等离子气体处理的气体包括氢气等离子或氧气等离子。利用氢气等离子或氧气等离子处理所述疏水层700，使得所述疏水层700与氢气等离子或氧气等离子形成碳氢气体或碳氧气体，将所述疏水层700的对应区域的材料进行气化，经过挥发，将所述疏水层700剥离，具体请参阅图8。
S600、在所述疏水层700上形成钝化层800。
本实施例中，所述钝化层800的材料为二氧化硅或二氧化硅与氮化硅的复合膜层，其中，所述钝化层800的材料为二氧化硅与氮化硅的复合膜层时，二氧化硅材料位于靠近所述源漏极层600一侧。
本实施例中，所述源漏极层600的所述第三开孔930在远离所述有源层500的方向上，所述第三开孔930在第一截面上的面积逐渐增大，所述第一截面平行于所述显示面板100。所述疏水层700的所述第二开孔712的孔径小于靠近所述源漏极层600的所述第三开孔930的孔径。可以用刻蚀液形成本实施例的结构，形成如“箭头”般的结构，具体请参阅图12～图15，所述疏水层700增强了钝化层800与所述有源层500之间的固定，提高了膜层之间的稳定性，增强了显示面板100的显示稳定。
本实施例中，在形成所述钝化层800时包括位于所述钝化层800上的多个第四开孔910。
本实施例中，所述第四开孔910贯穿所述钝化层800，使所述源漏极层600裸露，方便步骤S700中所述像素电极层810与所述源漏极层600电连接。
本实施例中，所述第四开孔910贯穿所述钝化层800、及使位于所述源漏极层600上的所述疏水层700裸露，具体请参阅图12。所述疏水层700在增加膜层之间粘结力的同时，同样具有导电作用，故所述第四开孔910的深度使所述疏水层700裸露，即可实现后续步骤S700中的像素电极层810与源漏极层600的电连接，同时所述疏水层700的导热性也能更好地发挥，散热性能好。
本实施例中，在靠近所述疏水层700的方向上，所述第四开孔910在第一截面上的截面积逐渐增大。其中，所述第一截面与所述显示面板100平行。所述第四开孔910在靠近所述疏水层700方向上截面积增大，增大了像素电极层810与所述疏水层700之间的接触面积，降低了像素电极层810与源漏极层600之间的电阻，更好地实现显示面板100的显示。
本实施例中，所述源漏极层600还包括位于所述第一金属薄膜层620上的第二阻挡层630。所述第四开孔910贯穿所述钝化层800、贯穿所述疏水层700、及使所述第二阻挡层630裸露，具体请参阅图14。所述第一金属薄膜层620位于所述第一阻挡层610与所述第二阻挡层630之间，进一步增加像素电极层810与源漏极层600的接触面积，降低了像素电极层810与源漏极层600之间的电阻，更好地实现显示面板100的显示。
本实施例中，经过所述第一图案化处理、所述第二图案化处理、及所述第三图案化处理，在所述导电所述疏水层700上形成多个第五开孔920。所述第五开孔920贯穿所述疏水层700、及使所述栅极层300或/和所述源漏极层600裸露，具体地可以使所述源漏极层600的所述第二阻挡层630裸露，具体请参阅图15。钝化层800或位于所述栅极层300上的绝缘层与所述第二阻挡层630之间的粘结力大于钝化层800或位于所述栅极层300上的绝缘层与所述疏水层700之间的粘结力。所述第五开孔920可以增加钝化层800或位于所述栅极层300上的绝缘层与所述第二阻挡层630之间的接触面积，增加膜层之间的粘结力，同时第五开孔920也增加了钝化层800或位于所述栅极层300上的绝缘层与所述疏水层700之间的接触面积，同样增加了膜层之间的粘结力。
本实施例中，当执行步骤S520时，省略所述第五开孔的制作步骤，具体请参阅图9。最大程度减少所述显示面板100的厚度，所述疏水层700以完成其在显示面板100制作中提高所述源漏极层600或/和所述栅极层300与光阻层之间的粘结力的作用，但其导电性及导热性能没有体现，所以步骤S520可以进行，也可以不进行，视具体情况，在此不做绝对限定。
本实施例中，所述疏水层700的厚度小于50埃米。所述疏水层700的主要作用是提高在制作显示面板100图案化处理时，所述源漏极层600或/和所述栅极层300与光阻层之间的粘结力，以及提高述源漏极层600或/和所述栅极层300的导电性，增强显示面板100导热性，所以不用所述疏水层700的厚度过厚，而导致增加显示面板100的整体厚度，所述疏水层700的厚度小于50埃米即可，在所述疏水层700的厚度为30埃米时，既达到所述疏水层700预定的功能，也尽可能地减少了膜厚。
本实施例中，当执行步骤S520时，步骤S600为在源漏极层600上形成钝化层800，具体请参阅图9。
S700、在所述钝化层800上形成像素电极层810。
本实施例中，所述像素电极层810通过所述第四开孔910与所述源漏极层600电连接。
本实施例中，所述第四开孔910贯穿所述钝化层800、贯穿所述疏水层700、贯穿所述第二阻挡层630、及使所述第一金属薄膜层620裸露。所述第一金属薄膜层620的导电率是最高的，进一步降低了像素电极层810与源漏极层600之间的电阻，更好地实现显示面板100的显示。
本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。
本申请还公开了一种显示面板100，所述显示面板100利用如任一上述的显示面板100的制作方法制作形成。
所述显示面板100的具体结构请参阅本申请所述显示面板100的制作方法实施例及图2～图15，在此不再赘述。
本申请还公开了一种显示装置，包括任一上述的显示面板100、位于所述显示面板上的发光器件层、位于所述发光器件层上的封装层及盖板层。
所述显示装置的具体结构请参阅本申请所述显示面板100的实施例及图2～图15，在此不再赘述。
本申请还公开了一种显示装置的制作方法，包括任一上述的显示面板100的制作方法。
所述显示装置的制作方法的具体步骤，请参阅本申请所述显示面板100的制作方法实施例及图2～图15，在此不再赘述。
其中，在形成所述显示面板100后还包括在所述显示面板100上形成发光器件层、封装层及盖板层。
本申请公开了一种显示面板及其制作方法。该显示面板的制作方法包括：在衬底上形成金属薄膜层；在该金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；对该光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；将未被该光阻图案覆盖的该疏水层去除；对未被该疏水层覆盖的该金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (8)
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成金属薄膜层；
在所述金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；
对所述光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；
将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
对未被所述疏水层覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层；
其中，所述疏水层的材料为双层石墨烯、三层石墨烯、碳纤维、碳纳米管中的任意一种或多种的组合。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一电极层为栅极层，或所述第一电极层为源漏极层。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板的制作方法还包括：
剥离所述光阻层。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，形成第一电极层之后还包括：
在所述第一电极层上形成钝化层；
在所述钝化层上形成像素电极层。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一电极层包括第一阻挡层、及位于所述第一阻挡层上的第一金属薄膜层。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一电极层还包括位于所述第一金属薄膜层上的第二阻挡层。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除的步骤包括：
利用等离子气体处理，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
其中，所述等离子气体包括氢气等离子或氧气等离子。
8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板利用如权利要求1～7中任一项所述的显示面板的制作方法制作形成。
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