CN112292753B - 用于更好的设计对准的目标选择改进 - Google Patents

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Abstract

本发明揭示通过改进的像素到设计对准PDA目标选择实现对图像的更准确设计对准的技术及系统。裸片的图像帧中的PDA目标可经偏置以在所述PDA目标中的一者中包含热点位置。可通过分析用作所述PDA目标的点的唯一性而针对重复图案评估所述PDA目标。

Description

用于更好的设计对准的目标选择改进
相关申请案的交叉参考
此申请案主张2018年5月22日申请且被指定为第62/675126号美国申请案的临时专利申请案的优先权，所述申请案的揭示内容以引用的方式并入本文中。
技术领域
本发明涉及半导体晶片的检验。
背景技术
半导体制造行业的演进对良率管理及特定来说计量及检验系统提出越来越高的要求。临界尺寸不断缩小，而行业需要缩短实现高良率、高价值生产的时间。最小化从检测到良率问题到解决它的总时间决定了半导体制造商的投资报酬率。
制造例如逻辑及存储器装置的半导体装置通常包含使用大量制造工艺处理半导体晶片以形成半导体装置的各种特征及多个层级。例如，光刻是涉及将图案从光罩转印到布置于半导体晶片上的光致抗蚀剂的半导体制造工艺。半导体制造工艺的额外实例包含(但不限于)化学机械抛光(CMP)、蚀刻、沉积及离子植入。多个半导体装置可制造为单个半导体晶片上的布置且接着分离为个别半导体装置。
在半导体制造期间的各个步骤使用检验过程来检测晶片上的缺陷以促进制造工艺中的更高良率及因此更高利润。检验始终是制造例如集成电路(IC)的半导体装置的重要部分。然而，随着半导体装置尺寸减小，检验对于成功制造可接受半导体装置变得更为重要，这是因为较小缺陷可导致装置故障。例如，随着半导体装置的尺寸减小，检测缩小大小的缺陷已变得必要，这是由于甚至相对小的缺陷也可导致半导体装置中的非所要像差。
然而，随着设计规则缩小，半导体制造工艺可更接近于工艺的性能能力的限制而操作。另外，随着设计规则缩小，较小缺陷可影响装置的电参数，此驱使更灵敏的检验。随着设计规则缩小，通过检验检测到的潜在良率相关缺陷的群体急剧增长，且通过检验检测到的扰乱点(nuisance)缺陷的群体也急剧增加。因此，可在晶片上检测到更多缺陷，且校正工艺以消除全部缺陷可为困难且昂贵的。确定哪些缺陷实际上影响装置的电参数及良率可允许工艺控制方法专注于所述缺陷，同时大体上忽略其它缺陷。此外，在较小设计规则下，工艺引发的故障在一些情况中倾向于是系统性的。即，工艺引发的故障倾向于在通常在设计内重复许多次的预定设计图案下发生故障。空间系统性、电相关缺陷的消除可影响良率。
晶片印刷工艺、晶片图案及检验系统中的相互作用是极其复杂的。像素到设计对准(PDA)是基于设计的对准方法，其可改进由检验工具(例如扫描电子显微镜(SEM))报告的缺陷位置准确度。PDA准确度可有助于某些类型的晶片检验。然而，设计剪辑及晶片图像具有基本上不同模态。这些问题使图像呈现成为PDA中的最困难任务。尽管统计算法可用于在某一程度上减轻来自不令人满意的图像呈现的影响且可为个别PDA未对准提供相当大缓冲，但对难以呈现的设计剪辑(例如SRAM区域附近的区域)的子像素级的个别PDA的需要是不可避免的。
当前PDA目标选择是基于图像显著特征。当前PDA不并入任何设计信息。基于地标的PDA具有进行目标选择的能力，但仅基于预定义地标，所述预定义地标可为围绕用于产生目标的阵列区的特殊轮廓。此仅适用于基于阵列的检验。因此，逻辑关照区域处的PDA质量是不足够的。
设计导向检验方法通过采用来自设计的大量微小关照区域且以必要坐标准确度检验所述区域而增强某些缺陷类型的敏感度。设计导向检验通过改进放置准确度而有助于检验较小关照区域。较小关照区域导致关注区与扰乱点区之间的更好分离。这些关照区域在用于检测之前在系统中经受扩展步骤。关照区域扩展可归因于放置准确度的系统规格而发生或可归因于PDA对准误差而发生。
图1是具有PDA目标的裸片的示范性帧。PDA目标寻找步骤可尝试在裸片的每一帧中寻找五个目标。将帧划分为25个块。PDA目标寻找步骤尝试从具有良好光学性质(例如对比度)的五个块选择目标。此在图1中可见。归因于PDA对准误差的关照区域(CA)扩展取决于靠近关照区域的PDA目标的接近性。可动态地计算此像素值且在图1中展示的表中可见以像素(px)为单位的扩展量。
热点关照区域可为最关键区中的一者且通常以高敏感度进行检验。通常，如图2中所见，在大多数帧中，PDA目标不在热点关照区域附近。在图2的帧实例中，帧中的一些热点远离于基于光学性质选择的PDA目标。如果热点远离于PDA目标而定位，那么可不检验热点或可不选择PDA目标以提供最佳检验。
选择整个图像帧作为PDA区域成本过高。因此，扩展关照区域，使得不会错过PDA。如图3中所见，此归因于PDA对准误差及对关键关注缺陷的可能敏感度损失而导致增大的关照区域扩展。图3是来自N7上的接触CMP层的关注缺陷(DOI)的实例，其中扰乱点像素(即，在扰乱点位置处)由于扩展而进入到关照区域中。
使用每新一代检验工具减少归因于放置准确度的系统规格的关照区域扩展，因此归因于PDA对准误差的关照区域扩展将极大促成整个关照区域扩展。
因此，需要用于检验的改进系统及技术。
发明内容
在第一实施例中提供一种方法。在处理器处接收热点位置。使用所述处理器偏置裸片的图像帧中的图案到设计对准目标以在所述图案到设计对准目标中的一者中包含所述热点位置。使用所述处理器针对重复图案评估所述图案到设计对准目标。
可将所述图像帧划分为多个常规大小的块。例如，可将所述图像帧划分为25个所述常规大小的块。
所述评估可包含：使用所述处理器产生所述图像帧上的X及Y投影；使用所述处理器对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样；使用所述处理器在所述点的横截面处产生目标位置；及使用所述处理器评估所述点的唯一性。在例子中，所述点并非唯一的，且所述方法可进一步包含使用所述处理器凭借适应性傅里叶滤波(adaptive Fourierfiltering)对所述图像帧进行滤波。所述方法可进一步包含使用所述处理器选择具有最大强度的所述点作为所述图案到设计对准目标。
所有所述图案到设计对准目标可包含热点。
一种存储程序的非暂时性计算机可读媒体可经配置以命令处理器执行所述第一实施例的所述方法的变化。
在第二实施例中提供一种方法。使用处理器针对重复图案评估图像帧中的图案到设计对准目标，其中所述图案到设计对准目标包含至少一个热点位置。使用所述处理器产生所述图像帧上的X及Y投影。使用所述处理器对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样。使用所述处理器在所述点的横截面处产生目标位置。使用所述处理器评估所述点的唯一性。将所述点用作图案到设计对准目标。
在例子中，所述点并非唯一的，且所述方法可进一步包含使用所述处理器凭借适应性傅里叶滤波对所述图像帧进行滤波。所述方法可进一步包含使用所述处理器选择具有最大强度的所述点作为所述图案到设计对准目标。
一种存储程序的非暂时性计算机可读媒体可经配置以命令处理器执行所述第二实施例的所述方法的变化。
在第三实施例中提供一种系统。所述系统包含：载物台，其固持晶片；电子束源，其将电子束引导到所述晶片处；检测器，其经配置以接收从所述晶片反射的所述电子束；及处理器，其与所述检测器电子通信。所述处理器经配置以：接收热点位置；偏置所述晶片的裸片的图像帧中的图案到设计对准目标以在所述图案到设计对准目标中的一者中包含所述热点位置；及针对重复图案评估所述图案到设计对准目标。
可将所述图像帧划分为多个常规大小的块。例如，可将所述图像帧划分为25个所述常规大小的块。
针对所述重复图案评估所述图案到设计对准目标可包含：产生所述图像帧上的X及Y投影；对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样；在所述点的横截面处产生目标位置；及评估所述点的唯一性。在例子中，所述点并非唯一的，且所述处理器可经进一步配置以凭借适应性傅里叶滤波对所述图像帧进行滤波。所述处理器可经进一步配置以选择具有最大强度的所述点作为所述图案到设计对准目标。
所有所述图案到设计对准目标可包含热点。
附图说明
为更完全理解本发明的性质及目的，应参考结合附图进行的以下详细描述，其中：
图1是具有PDA目标的裸片的示范性帧；
图2是相对于热点的图1的示范性帧；
图3是关照区域扩展的实例；
图4是根据本发明的第一方法实施例的流程图；
图5是使用图4的第一方法的具有PDA目标的裸片的示范性帧；
图6是根据本发明的第二方法实施例的流程图；
图7是示范性图像；及
图8是根据本发明的系统的实施例的框图。
具体实施方式
尽管将依据某些实施例描述所主张的标的物，但其它实施例(包含未提供本文中陈述的全部益处及特征的实施例)也在本发明的范围内。可在不脱离本发明的范围的情况下做出各种结构、逻辑、过程步骤及电子改变。因此，仅参考所附权利要求书界定本发明的范围。
本文中揭示的实施例可通过改进PDA目标选择策略实现对图像的更准确设计对准。更好的设计对准可提供更好的关照区域位置准确度，此可有助于提供改进敏感度及扰乱点抑制。更好的设计对准还可提供较严格关照区域边界，此可减少扰乱点且改进敏感度。较好的对准目标可提供较高缺陷位置准确度且校正设计中的并像。
在本文中揭示的实施例中，可基于关键检验区域选择PDA目标。图像投影及用以移除重复图案的滤波器可用于目标选择。目标选择还可基于设计内容。可忽略图像中与一些设计层重叠的区域。除减小关照区域大小以外，这些技术还可改进敏感度。
图4是第一方法100的流程图。可使用处理器执行方法100的一些或所有步骤。
在101，在处理器处接收一或多个热点位置。半导体制造商可提供热点关照区域位置文件，其可含有热点位置的坐标。还可以其它方式提供热点位置。例如，其它工具可产生热点位置。在另一实例中，可分析半导体装置的设计文件以提供热点位置。
在102，偏置裸片的图像帧中的PDA目标以在所述PDA目标中的一者中包含热点位置。可将图像帧划分为多个常规大小的块。例如，可将图像帧划分为5x5阵列中的25个常规大小的块。一些或所有PDA目标可包含热点。方法100可尝试寻找含有热点的PDA目标或方法100可尝试将PDA目标放置于热点附近。
热点可在PDA目标的中心、PDA目标的边缘处或PDA目标的中心与边缘之间。在例子中，热点可以PDA目标的中心为中心。在另一例子中，块中的大多数热点大致以PDA目标为中心。
图像帧及块可视需要针对特定应用进行配置。在实例中，图像帧是1500x780像素。此可划分为具有6x4配置的块阵列。在另一实例中，图像帧是1000x1000像素。此可划分为具有5x5配置的块阵列。额外块或不同块阵列可用于特定应用。
如果帧中存在的热点少于PDA目标，那么可基于基于图像的选择定位其它PDA目标。
如果帧中存在的热点多于PDA目标，那么可试图使用PDA目标覆盖最大密度的热点或最大数目个热点。
在某些状况中，方法100不使PDA目标偏置朝向热点中的一或多者。例如，热点位置处的设计可为不可用的或设计可未对准到图像。在此类实例中，方法100可不偏置PDA目标或可无法偏置PDA目标。
在103，针对重复图案评估PDA目标。此可减少或消除数据库中的数个重复目标。重复图案无法帮助对准超过重复周期。如果PDA目标不含有重复图案，那么可检验PDA目标。如果PDA目标仅含有重复图案，那么可任选地执行方法200。
图5是使用图4的第一方法的具有PDA目标的裸片的示范性帧。由用户(例如，半导体制造商)所定义的热点关照区域导引在图5中寻找PDA目标的操作。目标寻找操作可试图在帧内部的热点附近寻找良好目标。即使其从目标选择准则角度来说可能并非帧中的最佳目标，其从整体检验敏感度角度来说仍是最佳目标。
在图5中，具有PDA目标的块将基于热点位置而改变为标记为“修正块”的块。因此，修正块经偏置朝向热点位置。将热点放置于PDA目标中可导致这些热点关照区域的零PDA对准误差。
接着，可检验经偏置朝向热点位置的PDA目标。可通过检验工具(例如SEM)执行检验。缺陷检测具备改进敏感度。
在使用方法100的情况下，可通过在不具有热点的帧中寻找较少目标且在具有更多热点关照区域的帧上寻找更多目标而动态地控制在帧中找到的PDA目标的数目。方法100还可改进检验的整体PDA质量。
新设计节点可能无法接受增加的关照区域大小。先前，针对低PDA质量缺陷，使关照区域大小增加约一个像素以考虑不确定性。使用7nm、5nm或更新设计节点，关照区域的增加可导致敏感度损失。
代替地，在具有关键图案的位置处而非跨裸片的显著位置处使用设计对准。半导体制造商通常知道关键区域在何处且可以关照区域的形式提供此信息。关照区域可用于使用方法100进行目标选择。
方法100还可潜在地避免设计中的半导体制造商不关照的特定区域处的PDA目标。还可能限制PDA目标选择且不使用某些区域，这是因为这些区域无益于基于设计的对准。半导体制造商或其它操作者可具有关于即使设计是可用的仍无法执行哪些区域的对准的经验。通过避免这些区域进行PDA目标选择，可接着使用其它目标。
可提供图像中的基于水平及垂直投影的隔离边角。两个投影中的转变可为图像的边角的指示。可标记且评估这些转变的交叉点以进行设计对准。
此在PDA目标是唯一的情况下可为有益的。否则，系统可使用或集中于错误目标。例如，可使用在1μm范围内或更小(例如，20个像素)的唯一性。
在图6的方法200中描述使用某些基于图像或频域滤波器来避免其中对准变得容易混淆的重复区域处的目标选择。可使用处理器执行方法200的一些或所有步骤。
在201，针对复图案评估图像帧中的PDA目标。重复图案可为以小于搜索范围(例如，1微米)的周期重复的图案。此图案可具有90％或更大相似性以被视为重复。此可为方法100的步骤103或可单独执行。PDA目标包含至少一个热点位置。
在202，产生图像帧上的X及Y投影(例如，X及Y轴)。
在203，对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样。此可包含针对X及Y上的最高梯度的每一组合的一个点。因此，如果X上存在三个点且Y上存在两个点，那么将存在六个点。例如，对具有X及Y两者上的最高梯度的三个点取样。
在204，在所述点的横截面处产生目标位置(例如，PDA目标)。横截面可为来自样本点的图像上的交叉位置。
在205，评估所述点的唯一性。每一目标可与搜索范围(例如，1微米)相互关联且第一关联峰值与第二关联峰值之间的差异可被视为唯一性。差异越大，那么唯一性越大。如果所述点是唯一的，那么所述点可被用作PDA目标。如果所述点并非唯一的，那么可使用处理器凭借适应性傅里叶滤波对图像帧进行滤波。接着，可将具有最大强度的点选择作为PDA目标。
关于用以寻找非重复目标的频域滤波，现存算法通常无法找到图7中的任何唯一目标。在实施例中，可使用适应性傅里叶滤波移除重复图案。图7的顶部不具有傅里叶滤波器且底部是应用傅里叶滤波器之后。底部将提供较好的PDA目标。
可应用带通滤波器。适应性地选择此带通滤波器以抑制高频成分。还可移除低频成分。
在此经滤波图像上作为强度最大值选择的目标可为唯一目标。
使用可变大小目标，使得次峰值小于主关联峰值可改进对准。如果使用固定大小，那么唯一小目标可被其周围的噪声污染。当目标较小且居中时，其可具有较好的唯一性得分。
可任选地在方法100之后使用方法200。
图8是系统300的实施例的框图。系统300包含经配置以产生晶片304的图像的晶片检验工具(其包含电子柱301)。
晶片检验工具包含输出获取子系统，所述输出获取子系统包含至少一能量源及检测器。输出获取子系统可为基于电子束的输出获取子系统。例如，在一个实施例中，经引导到晶片304的能量包含电子，且从晶片304检测的能量包含电子。以此方式，能量源可为电子束源。在图8中展示的一个此实施例中，输出获取子系统包含耦合到计算机子系统302的电子柱301。载物台310可固持晶片304。
还如图8中展示，电子柱301包含电子束源303，所述电子束源303经配置以产生由一或多个元件305聚焦到晶片304的电子。电子束源303可包含例如阴极源或发射器尖端。一或多个元件305可包含例如枪透镜、阳极、光束限制孔隙、闸阀、光束电流选择孔隙、物镜及扫描子系统，其全部可包含所属领域中已知的任何此类适合元件。
可通过一或多个元件306将从晶片304返回的电子(例如，二次电子)聚焦到检测器307。一或多个元件306可包含例如扫描子系统，所述扫描子系统可为包含于(若干)元件305中的相同扫描子系统。
电子柱301还可包含所属领域中已知的任何其它适合元件。
尽管电子柱301在图8中被展示为经配置使得电子按倾斜入射角被引导到晶片304且按另一倾斜角从晶片304散射，但电子束可按任何适合角被引导到晶片304且从晶片304散射。另外，基于电子束的输出获取子系统可经配置以使用多个模式来产生晶片304的图像(例如，用不同照明角、收集角等)。基于电子束的输出获取子系统的多个模式可在输出获取子系统的任何图像产生参数方面不同。
计算机子系统302可如上文描述那样耦合到检测器307。检测器307可检测从晶片304的表面返回的电子，借此形成晶片304的电子束图像。电子束图像可包含任何适合电子束图像。计算机子系统302可经配置以使用检测器307的输出及/或电子束图像来执行本文中描述的功能中的任一者。计算机子系统302可经配置以执行本文中描述的(若干)任何额外步骤。包含图8中展示的输出获取子系统的系统300可如本文中描述那样进一步配置。
应注意，本文中提供图8以大体上说明可用于本文中描述的实施例中的基于电子束的输出获取子系统的配置。如通常在设计商业输出获取系统时执行，本文中描述的基于电子束的输出获取子系统布置可经更改以优化输出获取子系统的性能。另外，本文中描述的系统可使用现存系统实施(例如，通过将本文中描述的功能性添加到现存系统)。对于一些此类系统，本文中描述的方法可被提供为系统的任选功能性(例如，除系统的其它功能性之外)。替代地，本文中描述的系统可被设计为全新系统。
尽管输出获取子系统在上文被描述为基于电子束的输出获取子系统，但输出获取子系统可为基于离子束的输出获取子系统。可如图8中展示那样配置此输出获取子系统，除可用所属领域中已知的任何适合离子束源替换电子束源之外。另外，输出获取子系统可为任何其它适合基于离子束的输出获取子系统，例如包含于市售聚焦离子束(FIB)系统、氦离子显微镜(HIM)系统及二次离子质谱仪(SIMS)系统中的基于离子束的输出获取子系统。
计算机子系统302包含处理器308及电子数据存储单元309。处理器308可包含微处理器、微控制器或其它装置。
计算机子系统302可以任何适合方式(例如，经由一或多个传输媒体，其可包含有线及/或无线传输媒体)耦合到系统300的组件，使得处理器308可接收输出。处理器308可经配置以使用输出执行数个功能。晶片检验工具可从处理器308接收指令或其它信息。处理器308及/或电子数据存储单元309任选地可与另一晶片检验工具、晶片计量工具或晶片重检工具(未说明)电子通信以接收额外信息或发送指令。
处理器308与晶片检验工具(例如检测器307)电子通信。处理器308可经配置以处理使用来自检测器307的测量产生的图像。例如，处理器可执行方法100或方法200的实施例。
在例子中，处理器308经配置以：接收热点位置；偏置晶片的裸片的图像帧中的图案到设计对准目标以在图案到设计对准目标中的一者中包含热点位置；及针对重复图案评估图案到设计对准目标。可将图像帧划分为多个常规大小的块，例如5x5阵列中的25个块。在实施例中，所有图案到设计对准目标包含热点。
在例子中，处理器308经进一步配置以：产生图像帧上的X及Y投影；对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样；在所述点的横截面处产生目标位置；及评估所述点的唯一性，其中所述点被用作图案到设计对准目标。如果所述点并非唯一的，那么处理器可经进一步配置以凭借适应性傅里叶滤波对图像帧进行滤波。处理器可经进一步配置以选择具有最大强度的点作为图案到设计对准目标。
本文中描述的计算机子系统302、(若干)其它系统或(若干)其它子系统可为各种系统的部分，包含个人计算机系统、图像计算机、主计算机系统、工作站、网络设备、因特网设备或其它装置。(若干)子系统或(若干)系统还可包含所属领域中已知的任何适合处理器，例如并行处理器。另外，(若干)子系统或(若干)系统可包含作为单独或网络化工具的具有高速处理及软件的平台。
处理器308及电子数据存储单元309可安置于系统300或另一装置中或以其它方式成为系统300或另一装置的部分。在实例中，处理器308及电子数据存储单元309可为单独控制单元的部分或在集中式质量控制单元中。可使用多个处理器308或电子数据存储单元309。
在实践中，处理器308可通过硬件、软件及固件的任何组合实施。同样地，如本文中描述的其功能可通过一个单元执行，或在不同组件间划分，所述组件中的每一者可又通过硬件、软件及固件的任何组合实施。处理器308实施各种方法及功能的程序代码或指令可存储于可读存储媒体(例如电子数据存储单元309中的存储器或其它存储器)中。
如果系统300包含一个以上计算机子系统302，那么不同子系统可彼此耦合，使得可在子系统之间发送图像、数据、信息、指令等。例如，一个子系统可通过任何适当传输媒体耦合到(若干)额外子系统，所述传输媒体可包含所属领域中已知的任何适合有线及/或无线传输媒体。此类子系统的两者或更多者还可通过共享计算机可读存储媒体(未展示)有效耦合。
处理器308可经配置以使用系统300的输出或其它输出执行数个功能。例如，处理器308可经配置以将输出发送到电子数据存储单元309或另一存储媒体。处理器308可如本文中描述那样进一步配置。
处理器308或计算机子系统302可为缺陷重检系统、检验系统、计量系统或某种其它类型的系统的部分。因此，本文中揭示的实施例描述可针对具有或多或少适合于不同应用的不同能力的系统以数种方式定制的一些配置。
如果系统包含一个以上子系统，那么不同子系统可彼此耦合，使得可在子系统之间发送图像、数据、信息、指令等。例如，一个子系统可通过任何适当传输媒体耦合到(若干)额外子系统，所述传输媒体可包含所属领域中已知的任何适合有线及/或无线传输媒体。此类子系统的两者或更多者还可通过共享计算机可读存储媒体(未展示)有效耦合。
处理器308可根据本文中描述的实施例中的任一者配置。处理器308还可经配置以使用系统300的输出或使用来自其它源的图像或数据执行其它功能或额外步骤。
处理器308可以所属领域中已知的任何方式通信地耦合到系统300的各种组件或子系统中的任一者。此外，处理器308可经配置以通过可包含有线及/或无线部分的传输媒体接收及/或获取来自其它系统的数据或信息(例如，来自例如重检工具的检验系统的检验结果、包含设计数据的远程数据库及类似物)。以此方式，传输媒体可充当处理器308与系统300的其它子系统或系统300外部的系统之间的数据链路。
系统300的各种步骤、功能及/或操作及本文中揭示的方法由以下中的一或多者实行：电子电路、逻辑门、多路复用器、可编程逻辑装置、ASIC、模拟或数字控制/开关、微控制器或计算系统。实施方法(例如本文中描述的方法)的程序指令可通过载体媒体传输或存储于载体媒体上。载体媒体可包含存储媒体，例如只读存储器、随机存取存储器、磁盘或光盘、非易失性存储器、固态存储器、磁带及类似物。载体媒体可包含传输媒体，例如电线、电缆或无线传输链路。例如，贯穿本发明描述的各种步骤可由单个处理器308(或计算机子系统302)或替代地多个处理器308(或多个计算机子系统302)实行。此外，系统300的不同子系统可包含一或多个计算或逻辑系统。因此，上文描述不应被解释为对本发明的限制而仅为说明。
可如本文中描述那样执行所述方法的步骤中的每一者。所述方法还可包含可通过本文中描述的处理器及/或(若干)计算机子系统或(若干)系统执行的任何其它(若干)步骤。所述步骤可通过一或多个计算机系统执行，所述一或多个计算机系统可根据本文中描述的实施例中的任一者配置。另外，可通过本文中描述的系统实施例中的任一者执行上文描述的方法。
尽管已参考一或多个特定实施例描述本发明，但将理解，可在不脱离本发明的范围的情况下制作本发明的其它实施例。因此，本发明被视为仅受所附权利要求书及其合理解释限制。

Claims (18)

1.一种检验方法，其包括：
在处理器处接收利用设计文件来提供的热点位置；
使用所述处理器来偏置裸片的图像帧中的多个块中的一或多者中的图案到设计对准目标，以使得所述图案到设计对准目标中的一者包含所述热点位置，其中所述偏置包括将所述图案到设计对准目标中的至少一者从没有所述热点位置的所述块的一者移动到具有所述热点位置的所述块的一者；
使用所述处理器针对重复图案评估所述图案到设计对准目标；及
基于具有所述热点位置的所述图案到设计对准目标而减少关照区域大小。
2.根据权利要求1所述的检验方法，其中所述块为常规大小。
3.根据权利要求2所述的检验方法，其中将所述图像帧划分为25个所述常规大小的块。
4.根据权利要求1所述的检验方法，其中所述评估包含：
使用所述处理器产生所述图像帧上的X及Y投影；
使用所述处理器对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样；
使用所述处理器在所述点的横截面处产生目标位置；及
使用所述处理器评估所述点的唯一性。
5.根据权利要求4所述的检验方法，其中所述点并非唯一的，且其中所述方法包括使用所述处理器凭借适应性傅里叶滤波对所述图像帧进行滤波。
6.根据权利要求5所述的检验方法，其包括使用所述处理器选择具有最大强度的所述点作为所述图案到设计对准目标。
7.根据权利要求1所述的检验方法，其中全部所述图案到设计对准目标包含热点。
8.根据权利要求1所述的检验方法，其中所述热点位置在热点关照区域位置文件中。
9.一种非暂时性计算机可读媒体，其存储经配置以命令处理器执行根据权利要求1所述的方法的程序。
10.一种非暂时性计算机可读媒体，其存储经配置以命令处理器执行根据权利要求4所述的方法的程序。
11.一种检验系统，其包括：
载物台，其固持晶片；
电子束源，其将电子束引导到所述晶片处；
检测器，其经配置以接收从所述晶片反射的所述电子束；及
处理器，其与所述检测器电子通信，其中所述处理器经配置以：
接收利用设计文件来提供的热点位置；
偏置所述晶片的裸片的图像帧中的多个块中的一或多者中的图案到设计对准目标，以使得所述图案到设计对准目标中的一者包含所述热点位置，其中所述偏置包括将所述图案到设计对准目标中的至少一者从没有所述热点位置的所述块的一者移动到具有所述热点位置的所述块的一者；
针对重复图案评估所述图案到设计对准目标；及
基于具有所述热点位置的所述图案到设计对准目标而减少关照区域大小。
12.根据权利要求11所述的检验系统，其中所述块为常规大小。
13.根据权利要求12所述的检验系统，其中将所述图像帧划分为25个所述常规大小的块。
14.根据权利要求11所述的检验系统，其中针对所述重复图案评估所述图案到设计对准目标包含：
产生所述图像帧上的X及Y投影；
对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样；
在所述点的横截面处产生目标位置；及
评估所述点的唯一性。
15.根据权利要求14所述的检验系统，其中所述点并非唯一的，且其中所述处理器经配置以凭借适应性傅里叶滤波对所述图像帧进行滤波。
16.根据权利要求15所述的检验系统，其中所述处理器经配置以选择具有最大强度的所述点作为所述图案到设计对准目标。
17.根据权利要求11所述的检验系统，其中全部所述图案到设计对准目标包含热点。
18.根据权利要求11所述的检验系统，其中所述热点位置在热点关照区域位置文件中。
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