CN112271266B - 膜层结构及其制备方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种膜层结构及其制备方法、显示面板和显示装置，膜层结构的制备方法包括：在器件层的一侧制作第一平坦层，第一平坦层具有与器件层的第一凸起结构相对应的第二凸起中间结构；在第一平坦层远离器件层的一侧制作第二平坦中间结构，且第二平坦中间结构的刻蚀速度小于第一平坦层的刻蚀速度；对第二平坦中间结构和第二凸起中间结构进行刻蚀，得到第二平坦结构和第二凸起结构，第二凸起结构远离器件层的一侧与第二平坦结构远离器件层的一侧平齐。本申请实施例采用的膜层结构的制备方法可以简化膜层平坦化的制备工艺过程，无需耗费昂贵的掩模版，并且可以全面地同时进行刻蚀，极大地降低了成本。

Description

膜层结构及其制备方法、显示面板和显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种膜层结构及其制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

在显示产品的制造过程中，涉及到的膜层结构制备工艺非常常见，其中平坦层的平整度往往不足，这会导致显示面板的发光效率低下、或产生色偏、或寿命过短等问题。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种膜层结构及其制备方法、显示面板和显示装置，用以解决现有技术存在的膜层结构制备工艺中平坦层的平整度不足的问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种膜层结构，包括依次层叠的器件层、第一平坦层和第二平坦结构；

第二平坦结构的刻蚀速度小于第一平坦层的刻蚀速度；

第一平坦层远离器件层的一侧，具有与器件层的第一凸起结构相对应的第二凸起结构；

第二平坦结构具有与第二凸起结构相适应的镂空，第二凸起结构远离器件层的一侧与第二平坦结构远离器件层的一侧平齐。

第二个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括上述第一个方面提供的膜层结构。

第三个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括：上述第一个方面提供的膜层结构；或，上述第二个方面提供的显示面板。

第四个方面，本申请实施例还提供一种膜层结构的制备方法，包括：

在器件层的一侧制作第一平坦层，第一平坦层具有与器件层的第一凸起结构相对应的第二凸起中间结构；

在第一平坦层远离器件层的一侧制作第二平坦中间结构，且第二平坦中间结构的刻蚀速度小于第一平坦层的刻蚀速度；

对第二平坦中间结构和第二凸起中间结构进行刻蚀，得到第二平坦结构和第二凸起结构，第二凸起结构远离器件层的一侧与第二平坦结构远离器件层的一侧平齐。

本申请实施例提供的膜层结构、显示面板和显示装置带来的有益技术效果包括：器件层、第一平坦层和第二平坦结构依次层叠设置，刻蚀速度不同的第一平坦层和第二平坦结构通过刻蚀速率差而在刻蚀过程中某一时刻达到相同的厚度，即第二平坦结构与第二凸起结构相接处高度平齐。采用前述膜层结构的设置可以使用更加简便的平坦化的制备工艺，无需使用昂贵的掩模版，仅通过控制两层刻蚀速率不同的平坦层的刻蚀时间，即可将凹凸不平的器件层平坦化，得到平整度很好的平坦层，进而可以提高发光器件的发光效率，有效减少色偏现象，还可延长器件寿命。

本申请实施例提供的膜层结构的制备方法带来的有益技术效果包括：在器件层的一侧制作第一平坦层，在第一平坦层的另一侧制作第二平坦中间结构，由于第二平坦中间结构的刻蚀速度小于第一平坦层的刻蚀速度，则位于器件层和第二平坦结构中间的第一平坦层刻蚀速度快一些，同一时间内刻蚀的膜厚厚于刻蚀掉的第二平坦结构，由此在某一时刻第二平坦结构与第一平坦层相接处平齐，进而得到平整度更好的平坦层。该方法使刻蚀过程简便，成本低，无需耗费昂贵的掩模版，仅仅控制刻蚀时间即可获得较高平整度的平坦层面，并且利用平坦层刻蚀工艺可以全面地同时进行刻蚀。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请实施例提供的一种膜层结构的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种膜层结构的制备方法中在器件层的一侧制作第一平坦层，第一平坦层具有与器件层的第一凸起结构相对应的第二凸起中间结构后的膜层结构示意图；

图3为本申请实施例提供的一种膜层结构的制备方法中在第一平坦层远离器件层的一侧制作第二平坦层，第二平坦层的刻蚀速度小于第一平坦层的刻蚀速度，第二平坦层具有与第二凸起中间结构相对应的第三凸起结构后的膜层结构示意图；

图4为本申请实施例提供的一种膜层结构的制备方法中对第二平坦层进行刻蚀，露出第一平坦层的第二凸起中间结构后，得到第二平坦中间结构，第二平坦结构具有与第二凸起中间结构相适应的镂空后的膜层结构示意图；

图5为本申请实施例提供的一种膜层结构的制备方法中对第二平坦中间结构和第二凸起中间结构进行刻蚀，得到第二平坦结构和第二凸起结构，第二凸起结构远离器件层的一侧与第二平坦结构远离器件层的一侧平齐后的膜层结构示意图；

图6为本申请实施例提供的一种膜层结构的制备方法中的流程示意图；

图7为本申请实施例提供的另一种膜层结构的制备方法的流程示意图。

图中：

1-器件层；

2-第一凸起结构；

3-第一平坦层；

4-第二平坦结构；

5-第二凸起结构；

6-第三凸起结构；

7-第二平坦层；

8-第二平坦中间结构；

9-第二凸起中间结构。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

本申请的发明人进行研究发现，在显示领域中，喷墨打印作用于像素中，像素发光区域的平坦度直接影响喷墨打印墨水成膜膜厚，从而影响发光器件的性能，而像素中器件层的表面具有例如金属导线等凸起的图案结构，是凹凸不平的，涂覆平坦层后虽能够提高一定的平整度，但受器件层表面的图案结构的影响，平坦层远离器件层的表面仍具有一定的凹凸结构，即平坦层远离器件层的表面难以实现真正的平坦。平坦化的效率不高，进而导致显示面板中发光器件的发光效率低下、会产生色偏或寿命过短等问题。发明人考虑到，为了提高平坦层远离器件层的表面的平坦度，可以借助掩膜板对凸起部分进行刻蚀，但掩膜板的图案精度难以与凸起部分相匹配，而且引入掩膜板会造成制备成本的大幅增加。

本申请提供的膜层结构及其制备方法、显示面板和显示设置，旨在解决现有技术的如上技术问题。

下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。

本申请实施例提供了一种膜层结构，该膜层结构的结构示意图如图1所示，包括依次层叠的器件层1、第一平坦层3和第二平坦结构4。

第二平坦结构4的刻蚀速度小于第一平坦层3的刻蚀速度。

第一平坦层3远离器件层1的一侧，具有与器件层1的第一凸起结构2相对应的第二凸起结构5。

第二平坦结构4具有与第二凸起结构5相适应的镂空，第二凸起结构4远离器件层1的一侧与第二平坦结构4远离器件层1的一侧平齐。

可选地，器件层1上存在第一凸起结构2，例如金属导线等凸起的图案结构，从而在器件层1上制作的第一平坦层3和第二平坦结构4在器件层1的凸起处对应的地方也存在相应的凸起结构。

在本实施例中，器件层1、第一平坦层3和第二平坦结构4依次层叠设置，刻蚀速度不同的第一平坦层3和第二平坦层4由于刻蚀速率差而在某一时刻达到相同的厚度，即第二平坦结构4与第二凸起结构5在相接处高度平齐。采用前述膜层结构可以使平坦化的制备工艺更加简便，无需使用昂贵的掩模版，仅通过控制两层刻蚀速率不同的平坦层的刻蚀时间，即可将凹凸不平的器件层平坦化，进而可以提高发光器件的发光效率，有效减少色偏现象，还可延长器件寿命。

在本实施例中，第二平坦结构4的刻蚀速度小于第一平坦层3的刻蚀速度。第二平坦结构4和第一平坦层3采用不同的材料制作，不同的材料在相同的环境下会有不同的刻蚀速度。由于第二平坦结构4的刻蚀速度小于第一平坦层3的刻蚀速度，则第二凸起结构5可以刻蚀至与第二平坦结构4平齐，保证了平坦层的平整度。

在本实施例中，刻蚀方法可以包括但不限于干法刻蚀和湿法刻蚀。干法刻蚀包括光挥发、气相腐蚀、等离子体腐蚀等。湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。

可选地，采用干法刻蚀时，第一平坦层3和第二平坦层4的材料均可以包括但不限于亚克力树脂或者硅系树脂材料，但是要保持材料的特性不同，以便保证第一平坦层3和第二平坦层4刻蚀速率不同。

可选地，采用湿法刻蚀时，第一平坦层3和第二平坦层4的材料均可以包括但不限于掺杂有感光剂、酚醛树脂及其他添加剂的感光型亚克力树脂，但是要保持材料的特性不同，以便保证第一平坦层3和第二平坦层4刻蚀速率不同。

在一些可能的实施方式中，本申请实施例的膜层结构，包括：

第一平坦层3的第二凸起结构5的厚度小于器件层1的第一凸起结构2的厚度。

在本实施例中，刻蚀掉一部分第二凸起结构5后，第一平坦层3的第二凸起结构5的厚度小于器件层1的第一凸起结构2的厚度，由此可以保证第二凸起结构5露出第二平坦结构4，以便后期第二平坦结构4和第一平坦层3能够进行同步刻蚀，并且留有足够的刻蚀厚度空间，避免在平坦层还未完全平坦化时第二平坦结构4已全部刻蚀掉。

基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：如前述任一实施例提供的膜层结构。

在本实施例中，显示面板采用了前述实施例提供的膜层结构，其原理和技术效果请参阅前述各实施例，在此不再赘述。

本申请的发明人考虑到，显示面板可以适用于OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机电致发光半导体)的显示结构。为此，本申请为显示面板提供如下一种可能的实现方式：

本申请实施例的显示面板包括依次层叠的阳极层、发光层和阴极层。阳极层远离发光层的一侧位于膜层结构的第二平坦结构4远离膜层结构的器件层1的一侧。在本实施例中，显示面板采用了OLED的发光结构来提供背光源，第二平坦结构4和第二凸起结构5组成的平坦层有利于稳定发光层的发光效率。

本申请的发明人考虑到，显示面板可以适用于LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器件)的显示结构。为此，本申请为显示面板提供如下一种可能的实现方式：

本申请实施例的显示面板包括依次层叠的背光源和液晶盒。背光源位于膜层结构的器件层1远离膜层结构的第二平坦结构4的一侧，液晶盒与膜层结构的第二平坦结构4远离膜层结构的器件层1的一侧相贴合。在本实施例中，显示面板采用了LCD的发光结构来提供背光源。其中，背光源位于膜层结构的器件层1远离膜层结构的第二平坦结构4的一侧，液晶盒位于膜层结构的第二平坦结构4远离膜层结构的器件层1的一侧，第二平坦结构4和第二凸起结构5组成的平坦层有利于稳定液晶的透光率。

基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示装置，包括：如前述任一实施例提供的显示面板。

在本实施例中，显示装置采用了前述各实施例提供的显示面板，其原理和技术效果请参阅前述各实施例，在此不再赘述。

基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种膜层结构的制备方法，如图6所示，该方法包括步骤S101-S103：

S101：在器件层1的一侧制作第一平坦层3，第一平坦层3具有与器件层1的第一凸起结构2相对应的第二凸起中间结构9。

S102：在第一平坦层3远离器件层1的一侧制作第二平坦中间结构8，且第二平坦中间结构8的刻蚀速度小于第一平坦层3的刻蚀速度。

S103：对第二平坦中间结构8和第二凸起中间结构9进行刻蚀，得到第二平坦结构4和第二凸起结构5，第二凸起结构5远离器件层1的一侧与第二平坦结构4远离器件层1的一侧平齐。

在本实施例中，在器件层1的一侧制作第一平坦层3，在第一平坦层3的另一侧制作第二平坦中间结构8，由于第二平坦中间结构8的刻蚀速度小于第一平坦层3的刻蚀速度，则位于器件层1和第二平坦结构4中间的第一平坦层3刻蚀速度快一些，同一时间内刻蚀的膜厚厚于刻蚀掉的第二平坦结构4，由此在某一时刻可以达到第二平坦结构4与第一平坦层3相接处平齐，进而得到平整度更好的平坦层。该方法使刻蚀过程简便，成本低，无需耗费昂贵的掩模版，仅仅控制刻蚀时间即可获得较高平整度的平坦层面，并且利用平坦层刻蚀工艺可以全面地同时进行刻蚀。

基于同一发明构思，本申请实施例提供了另一种显示面板的制备方法的方法，如图7所示，该方法包括步S201-S204：

S201：在器件层1的一侧制作第一平坦层3，第一平坦层3具有与器件层1的第一凸起结构2相对应的第二凸起中间结构9。

在本步骤中，在器件层1的一侧制作第一平坦层3，此时为第一平坦层3的初始状态，由于器件层1上存在第一凸起结构2，从而在器件层1上制作的第一平坦层3在器件层1的第一凸起结构2处对应的地方也存在相应的第二凸起中间结构9。经过步骤S201得到的膜层结构如图2所示，本步骤为下一个步骤制作第二平坦层7做准备。

可选地，第二凸起中间结构9的厚度小于第一凸起结构2的厚度。

由于制作平坦层的材料具有回流的平滑效果，第二凸起中间结构9的部分制作材料会回流至第一平坦层3，导致第二凸起中间结构9的厚度小于第一凸起结构2的厚度。

可选地，制作第一平坦层3的材料可以根据采用的刻蚀工艺的不同选用不同的材料。关于刻蚀材料的选择在前文已有介绍，在此不再赘述。

S202：在第一平坦层3远离器件层1的一侧制作第二平坦层7，第二平坦层7的刻蚀速度小于第一平坦层3的刻蚀速度，第二平坦层7具有与第二凸起中间结构9相对应的第三凸起结构6。

在本步骤中，第二平坦层7为初始状态，在第一平坦层3另外一侧制作第二平坦层7，第二平坦层7具有与第二凸起中间结构9相对应的第三凸起结构6。经过步骤S202得到的膜层结构如图3所示。此时为刻蚀的初始状态。由此得到了两层刻蚀速率不同的平坦层。

可选地，制作第二平坦层7的材料可以根据采用的刻蚀工艺的不同选用不同的材料。步骤S202中的刻蚀的也可以包括但不限于干法刻蚀和湿法刻蚀。

可选地，第二平坦层7的第三凸起结构6的厚度小于第二平坦层7的厚度。

由于制作平坦层的材料具有回流的平滑效果，第三凸起结构6的部分制作材料会回流至第二平坦层7，所以第二平坦层7的第三凸起结构6的厚度小于第二平坦层7的厚度。

S203：对第二平坦层7进行刻蚀，露出第一平坦层3的第二凸起中间结构9后，得到第二平坦中间结构8，第二平坦结构4具有与第二凸起中间结构9相适应的镂空。

在本步骤中，将步骤S202中的初始状态的第二平坦层7进行刻蚀，刻蚀至露出第一平坦层3的第二凸起中间结构9，得到了现阶段的第二平坦中间结构9。由于第二凸起中间结构9是露出第二平坦中间结构8的，则第二平坦中间结构8在第二凸起中间结构9处有镂空。经过步骤S203得到的膜层结构如图4所示。此时为刻蚀第一阶段。经此步骤使第二平坦层7上的第三凸起结构6全部刻蚀掉，使第二凸起结构5露出第二平坦中间8结构。

可选地，第二平坦层7的第三凸起结构6的厚度与第二平坦层7的厚度的差值等于第二平坦中间结构8的厚度。

在本步骤中，刻蚀第一阶段中第三凸起结构6刻蚀至消失，第二平坦层7刻蚀至第二平坦中间结构8。第二平坦层7的第三凸起结构6的厚度与第二平坦层7的厚度的差值即剩下的第二平坦层7厚度，等于第二平坦中间结构8的厚度。

S204：对第二平坦中间结构8和第二凸起中间结构9进行刻蚀，得到第二平坦结构4和第二凸起结构5，第二凸起结构5远离器件层1的一侧与第二平坦结构4远离器件层1的一侧平齐。

如图5所示，在本步骤中，由步骤S203中的刻蚀第一阶段开始继续刻蚀，由于第二平坦层7的刻蚀速度小于第一平坦层3的刻蚀速度，第二平坦中间结构8和第二凸起中间结构9同时刻蚀，当露出第二平坦中间结构8的第二凸起中间结构9刻蚀至与第二平坦结构4平齐，得到前述实施例中的膜层结构。经过步骤S204得到的膜层结构如图5所示。此时为刻蚀第二阶段。由此可以实现仅通过控制刻蚀时间来控制第一平坦层3和第二平坦结构4的刻蚀厚度，进而得到全面的平整的平坦层。

可选地，第一平坦层3的刻蚀速率和第二平坦结构4的刻蚀速率的差值与刻蚀时长的乘积，等于第二凸起中间结构9的厚度与第二平坦中间结构8的厚度的差值。

在本步骤中，由于刻蚀速率乘以刻蚀时长等于刻蚀厚度，所以刻蚀速率差值乘以刻蚀时长等于刻蚀厚度差值。在刻蚀第二阶段内，第一平坦层3的刻蚀速率和第二平坦结构4的刻蚀速率的差值与刻蚀时长的乘积，等于第二凸起中间结构9的厚度与第二平坦中间结构8的厚度的差值。

基于同一发明构思，当器件层1存在多个不同高度段差需要进行平坦化处理，可多次使用上述实施例中的膜层结构制备方法进行平坦化处理。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：

1、涂覆平坦层后虽能够提高一定的平整度，但受器件层表面的图案结构的影响，平坦层远离器件层的表面仍具有一定的凹凸结构，即平坦层远离器件层的表面难以实现真正的平坦。同时使用两层平坦层进行刻蚀，可以更全面地覆盖到全部器件层表面，使平坦化效果更好。

2、同时使用两层刻蚀速率不同的平坦层进行刻蚀，节省时间，可以实现仅仅控制刻蚀时间就能得到平整度更好的完整的平坦层，操作简便，同时容易保证工艺的精确度，提高发光器件的发光效率或使用寿命。

3、无需使用昂贵的掩模版进行高精度的刻蚀操作，节约制备成本。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，其执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种膜层结构的制备方法，其特征在于，包括：

在器件层的一侧制作第一平坦层，所述第一平坦层具有与所述器件层的第一凸起结构相对应的第二凸起中间结构；

在所述第一平坦层远离所述器件层的一侧制作第二平坦层，所述第二平坦层的刻蚀速度小于所述第一平坦层的刻蚀速度，所述第二平坦层具有与所述第二凸起中间结构相对应的第三凸起结构；

对所述第二平坦层进行刻蚀，露出所述第一平坦层的所述第二凸起中间结构后，得到所述第二平坦中间结构，所述第二平坦结构具有与所述第二凸起中间结构相适应的镂空；

对所述第二平坦中间结构和所述第二凸起中间结构进行刻蚀，得到第二平坦结构和第二凸起结构，所述第二凸起结构远离所述器件层的一侧与所述第二平坦结构远离所述器件层的一侧平齐。

2.根据权利要求1所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述第二平坦层的第三凸起结构的厚度小于所述第二平坦层的厚度。

3.根据权利要求2所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述第二平坦层的第三凸起结构的厚度与所述第二平坦层的厚度的差值等于第二平坦中间结构的厚度。

4.根据权利要求3所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述第一平坦层的刻蚀速率和所述第二平坦结构的刻蚀速率的差值与刻蚀时长的乘积，等于第二凸起中间结构的厚度与第二平坦中间结构的厚度的差值。

5.一种基于如权利要求1-4中任一所述的制备方法制备得到的膜层结构，其特征在于，包括依次层叠的器件层、第一平坦层和第二平坦结构；

所述第二平坦结构的刻蚀速度小于所述第一平坦层的刻蚀速度；

所述第一平坦层远离所述器件层的一侧，具有与所述器件层的第一凸起结构相对应的第二凸起结构；

所述第二平坦结构具有与所述第二凸起结构相适应的镂空，所述第二凸起结构远离所述器件层的一侧与所述第二平坦结构远离所述器件层的一侧平齐。

6.根据权利要求5所述的膜层结构，其特征在于，所述第一平坦层的所述第二凸起结构的厚度小于所述器件层的所述第一凸起结构的厚度。

7.一种显示面板，其特征在于，包括如上述权利要求5-6中任一项所述的膜层结构。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，还包括依次层叠的阳极层、发光层和阴极层；

所述阳极层远离所述发光层的一侧位于所述膜层结构的第二平坦结构远离所述膜层结构的器件层的一侧。

9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，还包括依次层叠的背光源和液晶盒；

所述背光源位于所述膜层结构的器件层远离所述膜层结构的第二平坦结构的一侧，所述液晶盒位于所述膜层结构的第二平坦结构远离所述膜层结构的器件层的一侧。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：如上述权利要求5-6中任一项所述的膜层结构；或，如权利要求7-9中任一项所述的显示面板。

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