CN112271182B - 一种显示面板的制备方法及显示面板 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板的制备方法，包括：提供基板，基板包括第一区域和第二区域；在第一区域上形成磁性层；利用磁场作用对磁性层和/或待形成电极层的电极粒子进行处理，使得第二区域上覆盖电极层，在基板上形成图案化电极层。通过上述方式，本申请能够减少透明区域覆盖的电极层，提高显示面板的透光率。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域，特别是涉及一种显示面板的制备方法及显示面板领域。
背景技术
随着显示技术的发展，为了给用户带来更好的视觉体验，手机屏占比不断提高。高屏占比的移动装置相较于现有的移动装置拥有更窄的边框、更广的显示区域，在相同的屏幕尺寸下，拥有更小的外形尺寸。然而，移动装置的显示面板中存在一些必要的元件，例如：摄像头。摄像头中的光学元件需要有一定的光线入射才能运作。目前，为了实现全面屏，即屏占比100％，可以通过在显示区像素块(pixel)旁边设置不显示的透明区域，用于光线透射，从而实现摄像头可以在屏幕下方正常运作。
本申请的发明人在长期的研发过程中，发现透明区域仍会蒸镀金属电极等不透明或者透明度很低的结构，使得进入光学元件的光线减少，影响光学元件高质量运作。因此，提高透明区域的光透过率，是需要妥善解决的重要问题。
发明内容
有鉴于此，本申请主要解决的技术问题是提供一种显示面板的制备方法以及显示面板，能够减少透明区域覆盖的电极层，改善显示面板的透光率。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示面板的制备方法，包括：提供基板，基板包括第一区域和第二区域；在第一区域上形成磁性层；利用磁场作用对磁性层和/或待形成电极层的电极粒子进行处理，使得第二区域上覆盖电极层，在基板上形成图案化电极层。
在本申请的一实施例中，在第一区域上形成磁性层，包括：在第一区域上涂覆磁性液体，其中，磁性液体包括磁性颗粒；设置第一磁场，使得磁性颗粒在第一磁场的磁场力作用下根据磁极而有序排列；固化磁性液体，形成磁性层。
在本申请的一实施例中，固化磁性液体，形成磁性层，包括：采用紫外光固化磁性液体。
在本申请的一实施例中，利用磁场作用对磁性层进行处理，使得第二区域上覆盖电极层，在基板上形成图案化电极层，包括：在基板上形成面电极层；设置第二磁场，在第二磁场的磁场力的作用从基板上剥离磁性层和形成在磁性层上的面电极层，在基板上形成图案化电极层。
在本申请的一实施例中，设置第二磁场，在第二磁场的磁场力的作用从基板上剥离磁性层和形成在磁性层上的面电极层，包括：将强磁体设置于基板远离磁性层的一侧，形成第二磁场，其中，强磁体的磁极排布方向与磁性层的磁极排布方向相反，以使磁性层在强磁体的排斥力作用下从基板上剥离。
在本申请的一实施例中，利用磁场作用对待形成电极层的电极粒子进行处理，使得第二区域上覆盖电极层，在基板上形成图案化电极层，包括：设置第三磁场，在第三磁场的磁场力作用下沉积电极粒子，以使得电极粒子被磁化带上与磁性层表面相反的磁性，进而使与磁性层对应的第一区域上不形成电极层，得到图形化电极层。
在本申请的一实施例中，第一区域包括像素定义层，在第一区域上形成磁性层包括：在像素定义层上形成磁性层，其中磁性层与像素定义层的材料不同。
在本申请的一实施例中，磁性层包括含氟树脂及位于含氟树脂中的磁性颗粒。
在本申请的一实施例中，磁性层为透明层。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，该显示面板定义有第二显示区，第二显示区包括层叠设置的基板、像素定义层、磁性层和图案化电极层：像素定义层，包括像素定义结构和位于相邻像素定义结构之间的像素开口；磁性层至少部分覆盖像素定义结构，且磁性层与图案化电极层在基板的正投影至少部分不重叠。
本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供一种显示面板的制备方法，在显示面板中的第一区域设置磁性层。利用磁性原理使得磁性区域不会覆盖电极层，从而提高了第一区域的透光度，可以有更多的光线入射到屏下光学元件，提高了屏下光学元件的工作质量。
附图说明
图1是根据本申请一实施例的显示面板制备方法的流程示意图；
图2A是根据本申请一实施例的显示面板制备方法过程中形成像素定义层的示意图；
图2B是根据本申请一实施例的显示面板制备方法过程中形成磁性层的示意图；
图2C是根据本申请一实施例的显示面板制备方法过程中形成电极层的示意图；
图2D是根据本申请一实施例的显示面板的结构示意图；
图3是根据本申请一实施例的第一区域与第二区域分布示意图；
图4是根据本申请一实施例的磁性层形成方法的流程示意图；
图5是根据本申请一实施例的形成磁性层的示意图；
图6是根据本申请一实施例的蒸镀形成阴极示意图；
图7是根据本申请一实施例的电极层的形成方法的流程示意图；
图8是根据本申请一实施例的剥离磁性层的示意图；
图9是根据本申请另一实施例的显示面板结构示意图；
图10是根据本申请一实施例的第二显示区域剖面结构示意图。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本申请进一步详细说明。
为解决现有技术中，屏下摄像头区域透射光线不足的技术问题，本申请提供一种显示面板的制备方法，包括：提供基板，基板包括第一区域和第二区域；在基板上形成磁性层，磁性层位于第一区域上；在基板上形成电极层，其中，利用磁场作用对磁性层和/或电极层进行处理，以使得对应磁性层的区域不形成电极层。该方法无需使用掩膜板，减少了电极层在第一区域的覆盖面积，提高了第一区域的光透过率。需要注意的是，本申请提供的方法并不仅限于解决屏下摄像头的问题，对于其他需要设置于显示面板下方，需要光线透射的设备同样适用。本申请公开的显示面板制备方法可用于多种显示方式，例如OLED显示、量子点显示，Micro-LED显示等。这里以OLED显示为例进行说明，但不限于该显示方式。
请参见图1，图1是根据本申请一实施例的显示面板制备方法的流程示意图。需注意的是，若有实质上相同的结果，本申请的方法并不以图1所示的流程顺序为限。如图1所示，该方法包括如下步骤：
步骤S110：提供基板。
参阅图2A，图2A是根据本申请一实施例的显示面板制备方法过程中形成像素定义层的示意图。显示面板包括第一显示区域以及第二显示区域，其中第二显示区域用于在显示面板的一侧设置摄像头等器件。第二显示区域的基板包括第一区域210和第二区域220。其中，第一区域210用于光线透过屏幕，入射到屏下的光学元件。第二区域220用于设置OLED电极层和各功能层。第一区域210与第二区域220呈棋盘状间隔分布。请参阅图3，图3是根据本申请一实施例的第一区域与第二区域分布示意图。其中，第二区域220与第一区域210的面积可以是相等的，也可以是按照一定比例设置的。第一区域210与第二区域220间隔分布可以使得第二区域220画面连续，并且在第二区域220不出现明显的大面积间隔的情况下仍能保证有足够的光线透过屏幕。
在一实施例中，基板200包括依次设置衬底230、TFT阵列层240；基板还设置有像素定义层(PDL层)250或阳极层260。具体的，在第一区域210的TFT阵列层240上设置有像素定义层250，在第二区域220的TFT阵列层240上设置有阳极层260。第二区域具体过程为：首先在TFT阵列层240上的指定区域形成PDL层250，此区域即为第一区域；之后，在TFT阵列层240上的没有形成PDL层250的区域形成阳极层260，此区域即为第二区域。
步骤S120：在第一区域上形成磁性层。
参阅图2B，图2B是根据本申请一实施例的显示面板制备方法过程中形成磁性层的示意图。磁性层270位于第一区域210的至少部分区域。具体的，磁性层270可以覆盖第一区域210的全部区域，以使得第一区域210完全不会被电极层覆盖。磁性层270还可以是覆盖第一区域210的部分区域，例如第一区域210的中心区域，以使得第一区域210的边界区域会有少量电极粒子的覆盖，这样可以保证整个显示面板区域电极层的导通，减少电极层的电阻，保证显示效果不受影响。
在一实施例中，磁性层270可以为透明层。在一实施例中，在磁性层270上没有覆盖电极层时，可以不将磁性层270剥离。磁性层270可以是由具有较高光透过率的材料形成，因而即时不去除磁性层270，也不会影响第一区域210的光透过率，保证显示面板下光学元件的工作质量。
其中，磁性层270的全部区域磁极排列统一。具体的，磁性层270中包含磁性材料，磁性层270中的磁性材料磁极排列相同。例如，磁性材料可以为磁性颗粒271，磁性颗粒271在磁性层270中按照磁极有序排列，例如所有的磁性颗粒271均是N极朝着远离基板200的方向；或所有的磁性颗粒271均是S极朝着远离基板200的方向。磁性层270形成方法的更多细节参阅图5及其相关描述。
步骤S130：利用磁场作用对磁性层和/或待形成电极层的电极粒子进行处理，使得第二区域上覆盖电极层，在基板上形成图案化电极层。
参阅图2C，图2C是根据本申请一实施例的显示面板制备方法过程中形成电极层的示意图；参阅图2D，图2D是根据本申请一实施例的显示面板的结构示意图。
具体的，可以对基板200进行电极层蒸镀，在基板200上形成电极层290。具体的，可以在进行电极层蒸镀之前，依次蒸镀OLED功能层280。例如，可以利用掩膜板，使得OLED功能层280不会蒸镀到第一区域210。OLED功能层280可以包括但不限于：空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子阻挡层(EBL)、发光层(EML)、空穴阻挡层(HBL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)等。
在一实施例中，利用磁场作用对磁性层270进行处理，在基板上形成图案化电极层290。具体地，可以是利用磁场作用将磁性层270剥离，在磁性层270上覆盖有电极层290时，这些层会同时剥落，以在基板上形成图案化电极层。从而实现基板上与磁性层对应的第一区域上至少部分区域不形成电极层，并且不设置电极层。剥落后的显示面板结构参阅图2D所示。剥落方法的更多细节参阅图7及其相关描述。
在一实施例中，可以利用磁场作用对待形成电极层的电极粒子进行处理，在基板上形成图案化电极层290。具体地，在进行电极层沉积过程中，可以利用磁场作用磁化待形成电极层的电极粒子，使得电极粒子带有磁性，例如电极粒子带有的磁性可以与磁性层270表面的磁性相反，从而避免电极粒子沉积在磁性层270上。其中，电极粒子可以是指形成电极层的金属材料的金属粒子。显示面板的结构参阅图2C所示。利用磁场作用对待形成电极层的电极粒子进行处理方法的更多细节参阅图6及其相关描述。
在一实施例中，可以利用磁场作用对带形成电极层的电极粒子进行处理后，在利用磁场作用对磁性层270进行处理，从而在基板上形成图案化的电极层290。具体的，可以在显示面板的制备过程中同时利用前述的两种手段，实现在磁性层对应的第一区域上至少部分区域不形成电极层，并且在该区域也不形成磁性层，从而提高第一区域的光透过率。显示面板结构参阅图2D所示。
通过上述实施方式，可以使得与磁性层270对应的第一区域210上至少部分区域不形成电极层290。值得说明的是，可以是第一区域210上与磁性层270对应的全部区域均不形成电极层290。当然，也有可能根据需要仅使得第一区域210上与磁性层270对应的部分区域不形成电极层290。
在本申请的实施例中，在显示面板中的第一区域210设置磁性层270，利用磁性原理使得磁性区域不会覆盖电极层290，从而提高了第一区域210的透光度，可以有更多的光线入射到屏下光学元件，提高了屏下光学元件的工作质量。
请查阅图4，图4是根据本申请一实施例的磁性层形成方法的流程示意图。需注意的是，若有实质上相同的结果，本申请的方法并不以图4所示的流程顺序为限。如图4所示，该方法包括如下步骤：
步骤S410，在第一区域涂覆磁性液体。
在一实施例中，可以通过打印或印刷等任意方式将磁性液体涂布于指定区域。例如，可以涂布与第一区域的全部区域或部分区域。优选的，可以采用喷墨打印的方式进行涂布。磁性液体可以包括磁性颗粒和液态树脂。
树脂可以是指由简单有机物经化学合成或某些天然产物经化学反应而得到的合成树脂产物，如含氟树脂、丙烯酸类树脂，环氧树脂，或聚氯乙烯树脂等。当然，磁性层使用的树脂材料也可以为天然树脂，在此不做限定。液态树脂可以是指树脂材料呈液态，也可以是指通过乳化或溶解等方式将树脂液化获得。
在一实施例中，第一区域包括像素定义层，磁性层与像素定义层的材料不同。具体地，磁性层可以包括树脂材料和磁性材料，其中形成磁性层的树脂材料与形成像素定义层的树脂材料可以是不同的材料。即，磁性液体中的液态树脂可以是与其所附着的像素定义层不同的树脂材料。从而可以使得磁性层与像素定义层之间的粘附力较弱，易于磁性层的剥落。在一实施例中，磁性液体中的液态树脂可以是粘附力较弱的树脂材料。具体的，磁性液体中的液态树脂可以为含氟树脂。即，磁性层包括含氟树脂以及位于该含氟树脂中的磁性颗粒。
在一实施例中，磁性液体中的液态树脂可以是固化后具有较高透明度的树脂材料。具体的，可以为透明度较高的丙烯树脂和环氧树脂。从而，在阴极粒子不在磁性层沉积的情况下，即使不将磁性层剥落，第一区域也可以保持良好的光透过率。即，磁性层为透明层。
在一实施例中，磁性液体中包括磁性颗粒。磁性颗粒可以是指永久磁性颗粒。磁性颗粒的材料可以包括但不限于合金材料，例如包含Fe、Ni、Co的合金材料，或铁的氧化物。优选的，磁性颗粒可以为Fe3O4颗粒。又例如，磁性颗粒可以为磁性纳米颗粒。
步骤S420，设置第一磁场，使得磁性颗粒在第一磁场的磁场力作用下根据磁极而有序排列。
在一实施例中，在磁性层所在位置设置第一磁场，磁性颗粒会在磁场力的作用下，统一磁极排布，从而实现磁性颗粒的有序排列。
具体的，参阅图5，图5是根据本申请一实施例的形成磁性层的示意图。可以将涂覆有磁性液体的基板200靠近磁场源510，使得磁性液体处于第一磁场中。磁性液体中的磁性颗粒271在磁场力的作用下磁极排布方向可以统一。例如图5中的，磁性颗粒271的磁极排布方向可以都是N极向上，S极向下。其中，磁场源510可以是电磁铁，也可以是永磁铁，在此不做限定。
步骤430，固化磁性液体，形成磁性层。
在一实施例中，可以以任意固化方法对磁性液体进行固化，从而形成磁性层。例如，可以采用热固化方法或光固化方法。优选的，可以采用紫外光固化方法固化磁性液体。其他固化方式，例如热固化可能会导致磁性粒子的磁性减弱，从而影响后续步骤的效果。但是紫外光固化不会对磁性粒子的磁性产生不良影响。
通过上述方法在基板所形成的磁性层具有良好的磁性，磁性层中磁性颗粒的磁极排列统一，从而使得磁性层表面的磁极统一。磁性层为透明层，具有较高的光透过率。此外，磁性层与像素定义层的材料不同，磁性层易于在像素定义层上剥离。
利用磁场作用对待形成电极层的电极粒子进行处理，在基板上形成图案化电极层的具体步骤可以包括：设置第三磁场，在第三磁场的磁场力作用下沉积电极粒子，以使得电极粒子被磁化带上与磁性层表面相反的磁性，进而使磁性层对应的第一区域上不形成电极层，得到图形化电极层。
在一实施例中，电极层可以为阴极电极层，可以采用蒸镀的方法形成阴极层。参阅图6，图6是根据本申请一实施例的蒸镀形成阴极示意图。
在蒸镀阴极的腔室内，在阴极蒸发源610与基板200之间设置电磁线圈620，在电磁线圈620上通有环形电流。根据楞次定律，电磁线圈620会产生第三磁场，在线圈经过的金属粒子会被磁化。通过调整环形电流的方向，将第三磁场的磁场方向设置为与磁性层270中磁极排布方向相反。从而金属粒子经过第三磁场磁化后，金属粒子的磁极排布方向与磁性层270的磁极排布方向相反，以使得金属粒子朝向基板200的磁极与磁性层表面的磁极相同。根据同性相斥的原理，金属粒子不会在磁性层270表面沉降，磁性层270表面无法成膜。金属粒子仅会沉降在第二区域220以及第一区域210没有覆盖磁性层270的区域。因此，可以达到图案化蒸镀阴极的效果。其中，楞次定律可以概括表述为感应电流具有这样的方向，即感应电流的磁场总要阻碍引起感应电流的磁通量的变化。
例如图6中，磁性层270中的磁极排布为N极向下，S极向上，电磁线圈620中磁场方向为N极向上，S极向下，金属粒子朝向磁性层270的一端的磁极为N。由于同性相斥的原理，金属粒子难以沉积在磁性层270的表面。
由于阴极金属材料容易导致掩膜中的孔发生堵塞等问题，从而难以实现利用掩膜mask进行阴极图案化沉降。本申请基于电磁线圈产生第三磁场，并利用同性排斥的原理使得阴极粒子难以沉降于基板200上的部分指定区域，从而实现了阴极的图案化沉积，解决了阴极层难以掩膜沉降的难题。
利用磁场作用对磁性层进行处理，在基板上形成图案化电极层的方法请参阅图7。图7是根据本申请一实施例的电极层的形成方法的流程示意图。需注意的是，若有实质上相同的结果，本申请的方法并不以图7所示的流程顺序为限。如图7所示，该方法包括如下步骤：
步骤S710，在基板上形成面电极层。
面电极层可以是指整面覆盖了基板的电极层。具体的，面电极层连续覆盖了整个基板的第一区域和第二区域。面电极层的形成过程没有进行图案化处理，可以采用常规的任意适用的形成整面电极层的方法制备。
在一实施例中，电极层可以包括阴极层。对基板进行阴极蒸镀，阴极层可以覆盖整个基板的第二区域和第一区域。
在一实施例中，还可以在第一区域上形成磁性层后，在基板上形成OLED各功能层，OLED各功能层可以覆盖第一区域。当然，也可以使用掩膜板使得OLED各功能层不会在第一区域覆盖。
步骤S720，设置第二磁场，在第二磁场的磁场力的作用从基板上剥离磁性层和形成在磁性层上的面电极层，在基板上形成图案化电极层。
在一实施例中，将强磁体设置于基板远离磁性层的一侧，形成第二磁场，其中，强磁体的磁极排布方向与磁性层的磁极排布方向相反。从而，磁性层在强磁体的排斥力作用下从基板上剥离。
具体地，参阅图8，图8是根据本申请一实施例的剥离磁性层的示意图。面电极层290覆盖显示面板的全部区域，其中部分面电极层290覆盖于磁性层270上。磁性层270中的磁性纳米粒子均是呈N极向上，S极向下排列，将强磁体810靠近基板原理磁性层270的一侧，并且强磁体810的磁极为S极向上，N极向下。强磁体810与磁性层270会产生一种相互排斥的力，这种互斥力可以将磁性层270从基板上剥离。同时，附着在磁性层270上的面电极层290也会被一起剥离。从而实现第一区域210不覆盖面电极层290，即，在基板上形成图案化电极层。
当然，也有可能互斥力仅使得磁性层与基板之间产生一些缝隙裂纹，可以借助后续的操作将磁性层完全从基板上剥离。由于互斥力的作用，已经使得磁性层易于与基板分离，可以仅依靠简单的后续操作就可以使得磁性层从基板上剥离，同时磁性层上的阴极层也会一起剥离。
剥离过程也可以是，将强磁体设置于靠近磁性层的一侧，利用不同磁极之间的吸引力，将磁性层从基板上剥离。强磁体可以是任意的具有较强磁性的磁体。
在一实施例中，磁性层270中的树脂材料可以是与PDL层250不同的树脂材料。优选的，磁性层270中的树脂材料可以是粘附力较弱的树脂材料。例如，含氟树脂。
综上所述，本申请公开的实施例，利用磁性原理将磁性层从基板上剥离，在剥离过程中，不会对其他层造成伤害。并且本申请所采用的方法操作简单，不易产生磁性层残留，从而有效的提高了第一区域的光透过率。
本申请还提供了一种显示面板，具体结构参阅图9。图9是根据本申请另一实施例的显示面板结构示意图。
显示面板定义有第一显示区100和第二显示区900。其中第二显示区900由上述制备方法制备而成。其中，第二显示区900的下方可以设置摄像头等光学器件。
第二显示区900的剖面结构可以具体参阅图10。参阅图10所示，第二显示区包括层叠设置的基板910、像素定义层920、磁性层930和图案化电极层940。
其中，基板包括依次设置的衬底911和TFT阵列层912。
其中像素定义层920包括像素定义结构921和位于相邻像素定义结构921之间的像素开口(未标出)。
磁性层至少部分覆盖像素定义结构，并且磁性层与电极层在基板的正投影至少部分不重叠。
在一实施例中，显示面板还包括位于像素开口内的光学器件。图案化电极层940可以是指阴极层。光学器件包括层叠设置的阳极层950、发光层960和阴极层940。图案化电极层940不覆盖像素定义结构920或部分覆盖像素定义结构920。
在一实施例中，磁性层930至少部分覆盖像素定义结构921，磁性层930可以是透明层。磁性层930中可以包括磁性颗粒931。
需要说明的是，像素定义结构920位于前述的第一区域，磁性层930位于前述第一区域的至少部分区域。光学器件位于前述的第二区域。
以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (9)
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供基板，所述基板包括第一区域和第二区域；
在所述第一区域上形成磁性层；
利用磁场作用对所述磁性层和/或待形成电极层的电极粒子进行处理，使得所述第二区域上覆盖所述电极层，在所述基板上形成图案化电极层；
所述在所述第一区域上形成磁性层，包括：
在所述第一区域涂覆磁性液体，其中，所述磁性液体包括磁性颗粒；
设置第一磁场，使得所述磁性颗粒在所述第一磁场的磁场力作用下根据磁极而有序排列；
固化所述磁性液体，形成所述磁性层。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述固化所述磁性液体，形成所述磁性层，包括：
采用紫外光固化所述磁性液体。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述利用磁场作用对所述磁性层进行处理，使得第二区域上覆盖所述电极层，在所述基板上形成图案化电极层，包括：
在所述基板上形成面电极层；
设置第二磁场，在所述第二磁场的磁场力的作用从所述基板上剥离所述磁性层和形成在所述磁性层上的面电极层，在所述基板上形成所述图案化电极层。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述设置第二磁场，在所述第二磁场的磁场力的作用从所述基板上剥离所述磁性层和形成在所述磁性层上的面电极层，包括：
将强磁体设置于所述基板远离所述磁性层的一侧，形成第二磁场，其中，所述强磁体的磁极排布方向与所述磁性层的磁极排布方向相反，以使所述磁性层在所述强磁体的排斥力作用下从所述基板上剥离。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述利用磁场作用对待形成电极层的电极粒子进行处理，使得第二区域上覆盖电极层，在所述基板上形成图案化电极层，包括：
设置第三磁场，在所述第三磁场的磁场力作用下沉积电极粒子，以使得所述电极粒子被磁化带上与所述磁性层表面相反的磁性，进而使与所述磁性层对应的第一区域上不形成电极层，形成图案化电极层。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一区域包括像素定义层，所述在所述第一区域上形成磁性层包括：
在所述像素定义层上形成所述磁性层，
其中所述磁性层与所述像素定义层的材料不同。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述磁性层包括含氟树脂及位于所述含氟树脂中的磁性颗粒。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述磁性层为透明层。
9.一种显示面板，其特征在于，
所述显示面板由权利要求1-8任一项所述的制备方法制备形成；
其中，所述显示面板定义有第二显示区，所述第二显示区包括层叠设置的基板、像素定义层、磁性层和图案化电极层：
所述像素定义层，包括像素定义结构和位于相邻所述像素定义结构之间的像素开口；
所述磁性层至少部分覆盖所述像素定义结构，且所述磁性层与所述图案化电极层在所述基板的正投影至少部分不重叠。
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