CN112265121A - 一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及日用陶瓷生产设备技术领域,且公开了一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,包括釉池、立式转盘和关于釉池对称设置的上料传送带和下料传送带,立式转盘的正面呈环形均匀等距的固定连接有四个碗坯浸釉机构;碗坯浸釉机构包括支撑柱,支撑柱固定连接在立式转盘的正面边缘处,支撑柱远离立式转盘的一端通过转动组件转动连接有呈“L”型的碗托,碗托的水平端上端开设有缓冲槽,缓冲槽内沿水平直线方向固定连接有支撑杆,支撑杆上对称套设有支撑环。该陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,能够解决目前上料吸盘将待上釉碗坯搬至L形碗托上时,碗坯直接落在L形碗托上,容易造成碗坯损坏的问题。
Description
技术领域
本发明涉及日用陶瓷生产设备技术领域,具体为一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备。
背景技术
在以往的日用陶瓷生产中,各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因,施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉,手工浸釉生产效率低,同时由于在施釉过程中手指接触坯体,使坯体在施釉后留下手指印,影响坯体的施釉质量。另外,由于釉水中加有多种化工材料,这些化工材料对人体有腐蚀作用,长期手工浸釉对人体有危害。
为了提高生产效率,提高产品质量,改善工人生产环境,降低成本等,技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。
经检索公开(公告)号CN104086229B公开一种立式转盘自动浸釉装置,在使用时,用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤,克服传统上釉装置存在的驱动机构复杂、效率不高、上釉存在死角、自动化程度不高、工人劳动强度大的缺陷;该方案仍然存在以下技术缺陷:
该技术方案上料吸盘将待上釉碗坯搬至L形碗托上时,碗坯直接落在L形碗托上,容易造成碗坯损坏,方案明显存在缺陷。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,具备对碗坯进行保护的优点,解决了目前上料吸盘将待上釉碗坯搬至L形碗托上时,碗坯直接落在L形碗托上,容易造成碗坯损坏的问题。
二技术方案
为实现对碗坯进行保护的目的,本发明提供如下技术方案:一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,包括釉池、立式转盘和关于釉池对称设置的上料传送带和下料传送带,所述立式转盘的正面呈环形均匀等距的固定连接有四个碗坯浸釉机构;
所述碗坯浸釉机构包括支撑柱,所述支撑柱固定连接在立式转盘的正面边缘处,所述支撑柱远离立式转盘的一端通过转动组件转动连接有呈“L”型的碗托,所述碗托的水平端上端开设有缓冲槽,所述缓冲槽内沿水平直线方向固定连接有支撑杆,所述支撑杆上对称套设有支撑环,两个所述支撑环的相背端对称固定连接有弹簧,所述弹簧的另一端固定连接在缓冲槽对应的槽壁上,且弹簧套设在支撑杆上,两个所述支撑环的上端环形侧壁上均铰接有传动杆,两根所述传动杆的另一端共同铰接有与缓冲槽相匹配的支撑块,所述支撑块的上端穿过缓冲槽的槽口并向外延伸,且支撑块与缓冲槽之间设有密封组件。
优选的,所述转动组件包括转动杆,所述转动杆固定连接在支撑柱远离立式转盘的一端,所述碗托的竖直端开设有与转动杆相匹配的转动孔,所述转动杆穿过转动孔设置,且碗托与转动杆转动连接。
优选的,所述密封组件包括框型的密封条,所述缓冲槽靠近槽口一端位置的槽壁上开设有框型的密封槽,所述密封条固定连接在密封槽的槽底,所述密封条的内侧壁穿过密封槽的槽口并设置在支撑块的侧壁上,且支撑块与密封条滑动连接。
优选的,所述支撑环的下端固定连接有支撑板,所述支撑板的下端开设有滚动槽,所述滚动槽内设有滚动的滚珠,所述滚珠穿过滚动槽的槽口设置,且滚珠滚动连接在缓冲槽的槽底。
优选的,所述上料传送带靠近釉池一端位置的上端固定连接有上料支架,所述上料支架上安装有上料吸盘,所述下料传送带靠近釉池一端位置的上端固定连接有下料支架,所述下料支架上安装有卸料吸盘。
优选的,所述转动杆远离支撑柱的一端固定连接有防脱块,所述转动杆和转动孔之间填充有润滑油脂。
优选的,所述立式转盘的背面一侧设有驱动电机,所述驱动电机的输出端通过联轴器与立式转盘的背面中心处相连接。
(三)有益效果
与现有技术相比,本发明提供了一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,具备以下有益效果:
1、该陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,通过设置碗坯浸釉机构,将上料传送带上的碗坯放置在支撑块上时,支撑块受力后自动向下运动,通过两根传动杆的传动推动两个支撑环在支撑杆上做相背运动,对支撑杆上的两根弹簧进行压缩,使得弹簧受力发生形变,对碗坯放置在支撑块上时的压力进行消耗,同时支撑块在缓冲槽内向下运动时,通过密封组件使得支撑块对缓冲槽内的空气被压缩,进一步的对碗坯放置在支撑块上时的压力进行消耗,从而降低了碗坯放置在支撑块上时所受到的反作用力,提高了对碗坯的保护效果。
附图说明
图1为本发明提出的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备的结构示意图;
图2为本发明提出的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备的立式转盘和碗坯浸釉机构连接部分的结构示意图;
图3为图2中A部分的放大图;
图4为图2中B部分的放大图;
图5为图2中C部分的放大图。
图中:1釉池、2立式转盘、3上料传送带、4下料传送带、5支撑柱、6碗托、7缓冲槽、8支撑杆、9支撑环、10弹簧、11传动杆、12支撑块、13转动杆、14转动孔、15密封条、16密封槽、17缓冲槽、18支撑板、19滚动槽、20滚珠、21上料吸盘、22卸料吸盘、23防脱块、24驱动电机。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-5,一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,包括釉池1、立式转盘2和关于釉池1对称设置的上料传送带3和下料传送带4,立式转盘2的正面呈环形均匀等距的固定连接有四个碗坯浸釉机构;
碗坯浸釉机构包括支撑柱5,支撑柱5固定连接在立式转盘2的正面边缘处,支撑柱5远离立式转盘2的一端通过转动组件转动连接有呈“L”型的碗托6,碗托6的水平端上端开设有缓冲槽7,缓冲槽7内沿水平直线方向固定连接有支撑杆8,支撑杆8上对称套设有支撑环9,两个支撑环9的相背端对称固定连接有弹簧10,弹簧10的另一端固定连接在缓冲槽7对应的槽壁上,且弹簧10套设在支撑杆8上,两个支撑环9的上端环形侧壁上均铰接有传动杆11,两根传动杆11的另一端共同铰接有与缓冲槽7相匹配的支撑块12,支撑块12的上端穿过缓冲槽7的槽口并向外延伸,且支撑块12与缓冲槽7之间设有密封组件;
将上料传送带3上的碗坯放置在支撑块12上时,支撑块12受力后自动向下运动,通过两根传动杆11的传动推动两个支撑环9在支撑杆8上做相背运动,对支撑杆8上的两根弹簧10进行压缩,使得弹簧10受力发生形变,对碗坯放置在支撑块12上时的压力进行消耗,同时支撑块12在缓冲槽7内向下运动时,通过密封组件使得支撑块12对缓冲槽7内的空气被压缩,进一步的对碗坯放置在支撑块12上时的压力进行消耗,从而降低了碗坯放置在支撑块12上时受到的反作用力,提高了对碗坯的保护效果。
转动组件包括转动杆13,转动杆13固定连接在支撑柱5远离立式转盘2的一端,碗托6的竖直端开设有与转动杆13相匹配的转动孔14,转动杆13穿过转动孔14设置,且碗托6与转动杆13转动连接,使得碗托6与支撑柱5保持连接的同时,在重力作用下一直朝下。
密封组件包括框型的密封条15,缓冲槽7靠近槽口一端位置的槽壁上开设有框型的密封槽16,密封条16固定连接在密封槽15的槽底,密封条16的内侧壁穿过密封槽15的槽口并设置在支撑块12的侧壁上,且支撑块12与密封条16滑动连接,通过密封条16提高了支撑块12和缓冲槽7之间的密封性。
支撑环9的下端固定连接有支撑板18,支撑板18的下端开设有滚动槽19,滚动槽19内设有滚动的滚珠20,滚珠20穿过滚动槽19的槽口设置,且滚珠20滚动连接在缓冲槽7的槽底,通过滚珠20对支撑板18上的支撑环9进行支撑,当支撑环9在支撑杆8上进行运动时带动滚珠20滚动,降低支撑板18在缓冲槽7内运动时的摩擦阻力。
上料传送带3靠近釉池1一端位置的上端固定连接有上料支架,上料支架上安装有上料吸盘21,通过上料吸盘21对将上料传送带3上的碗坯进行搬运,将碗坯搬运至碗托6上,下料传送带4靠近釉池3一端位置的上端固定连接有下料支架,下料支架上安装有卸料吸盘22,通过卸料吸盘22将碗托6上的碗坯搬运至下料传送带4上。
转动杆13远离支撑柱5的一端固定连接有防脱块23,防止碗托6从转动杆13上脱离,转动杆13和转动孔14之间填充有润滑油脂,提高了碗托6和转动杆13之间转动时的润滑性。
立式转盘2的背面一侧设有驱动电机24,驱动电机24的输出端通过联轴器与立式转盘2的背面中心处相连接,驱动电机24固定在对应的机架上,驱动电机24带动立式转盘2发生转动,完成碗托6的搬运。
综上,该陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,将上料传送带3上的碗坯放置在支撑块12上时,支撑块12受力后自动向下运动,通过两根传动杆11的传动推动两个支撑环9在支撑杆8上做相背运动,对支撑杆8上的两根弹簧10进行压缩,使得弹簧10受力发生形变,对碗坯放置在支撑块12上时的压力进行消耗,同时支撑块12在缓冲槽7内向下运动时,通过密封组件使得支撑块12对缓冲槽7内的空气被压缩,进一步的对碗坯放置在支撑块12上时的压力进行消耗,从而降低了碗坯放置在支撑块12上时所受到的反作用力,提高了对碗坯的保护效果。
需要说明的是,术语“包括”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,包括釉池(1)、立式转盘(2)和关于釉池(1)对称设置的上料传送带(3)和下料传送带(4),其特征在于:所述立式转盘(2)的正面呈环形均匀等距的固定连接有四个碗坯浸釉机构;
所述碗坯浸釉机构包括支撑柱(5),所述支撑柱(5)固定连接在立式转盘(2)的正面边缘处,所述支撑柱(5)远离立式转盘(2)的一端通过转动组件转动连接有呈“L”型的碗托(6),所述碗托(6)的水平端上端开设有缓冲槽(7),所述缓冲槽(7)内沿水平直线方向固定连接有支撑杆(8),所述支撑杆(8)上对称套设有支撑环(9),两个所述支撑环(9)的相背端对称固定连接有弹簧(10),所述弹簧(10)的另一端固定连接在缓冲槽(7)对应的槽壁上,且弹簧(10)套设在支撑杆(8)上,两个所述支撑环(9)的上端环形侧壁上均铰接有传动杆(11),两根所述传动杆(11)的另一端共同铰接有与缓冲槽(7)相匹配的支撑块(12),所述支撑块(12)的上端穿过缓冲槽(7)的槽口并向外延伸,且支撑块(12)与缓冲槽(7)之间设有密封组件。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,其特征在于:所述转动组件包括转动杆(13),所述转动杆(13)固定连接在支撑柱(5)远离立式转盘(2)的一端,所述碗托(6)的竖直端开设有与转动杆(13)相匹配的转动孔(14),所述转动杆(13)穿过转动孔(14)设置,且碗托(6)与转动杆(13)转动连接。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,其特征在于:所述密封组件包括框型的密封条(15),所述缓冲槽(7)靠近槽口一端位置的槽壁上开设有框型的密封槽(16),所述密封条(16)固定连接在密封槽(15)的槽底,所述密封条(16)的内侧壁穿过密封槽(15)的槽口并设置在支撑块(12)的侧壁上,且支撑块(12)与密封条(16)滑动连接。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,其特征在于:所述支撑环(9)的下端固定连接有支撑板(18),所述支撑板(18)的下端开设有滚动槽(19),所述滚动槽(19)内设有滚动的滚珠(20),所述滚珠(20)穿过滚动槽(19)的槽口设置,且滚珠(20)滚动连接在缓冲槽(7)的槽底。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,其特征在于:所述上料传送带(3)靠近釉池(1)一端位置的上端固定连接有上料支架,所述上料支架上安装有上料吸盘(21),所述下料传送带(4)靠近釉池(3)一端位置的上端固定连接有下料支架,所述下料支架上安装有卸料吸盘(22)。
6.根据权利要求2所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,其特征在于:所述转动杆(13)远离支撑柱(5)的一端固定连接有防脱块(23),所述转动杆(13)和转动孔(14)之间填充有润滑油脂。
7.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备,其特征在于:所述立式转盘(2)的背面一侧设有驱动电机(24),所述驱动电机(24)的输出端通过联轴器与立式转盘(2)的背面中心处相连接。
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