CN112234085A - 一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，阵列基板包括：间隔设置在衬底上的多个第一电极；设置在第一电极上的像素限定层，像素限定层限定出多个像素开口；设置在像素开口内的发光层；像素限定层包括：设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第一子部，第一子部具有第一高度；设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第二子部和第三子部，第二子部位于第一子部和第三子部之间，第二子部具有第二高度，第三子部具有第三高度，第三高度小于第一高度且大于第二高度。本发明通过在次高的第三子部与第一高的第一子部之间设置第三高的第二子部，使得提高相同颜色像素内墨水的流动性，提高成膜均匀性。

Description

一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置。

背景技术

利用喷墨打印技术制备OLED器件时，由于多个喷嘴间喷墨量的误差，会导致像素间成膜厚度的不均一，反映在发光器件上就会造成亮度均匀性的差异。现有技术中，通过连通每列同色子像素改善像素内成膜均匀性的问题，但在实际制作背板的过程中发现如下问题，在同色子像素之间的用于连通同色子像素的像素限定区域因部分刻蚀导致对应位置会出现亲液性差的问题，从而导致联通结构的墨水在部分刻蚀区域位置无法联通，从而因墨水无法均匀混合影响像素间的膜均匀性。

发明内容

为了解决上述问题至少之一，本申请的第一个方面提供一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底；间隔设置在衬底上的多个第一电极；设置在各第一电极上的像素限定层，像素限定层限定出多个像素开口，每个第一电极在衬底上的正投影覆盖对应的像素开口在衬底上的正投影；设置在各像素开口内的发光层，并且沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同，沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同，第一方向和第二方向垂直；每个像素开口对应的像素限定层包括第一子部、第二子部和第三子部，其中：

第一子部设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，并且第一子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第一高度；

第二子部和第三子部设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，第二子部位于第一子部和第三子部之间，并且第二子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第二高度，第三子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第三高度，第三高度小于第一高度，第二高度小于第三高度并且第二高度大于0。

在一些可选的实施例中，像素开口具有长边和短边，第一子部在衬底的正投影与设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口的长边在衬底的正投影重合，第二子部和第三子部在衬底的正投影与设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在衬底的正投影重合。

在一些可选的实施例中，阵列基板包括阵列排布的多个重复单元，每个重复单元沿第二方向包括具有不同颜色发光层的多个像素开口。

在一些可选的实施例中，重复单元包括第一颜色发光层、第二颜色发光层和第三颜色发光层。

本申请第二方面提供一种显示面板，包括如本申请第一方面所述的阵列基板。

本申请第三方面提供一种显示装置，包括如本申请第二方面所述的显示面板。

本申请第四方面提供一种制作本申请第一方面所述的阵列基板的方法，包括：

在衬底上形成间隔设置的多个第一电极；

在各第一电极上形成像素限定材料层；

图案化像素限定材料层形成像素限定层，像素限定层限定出多个像素开口，每个第一电极在衬底上的正投影覆盖对应的像素开口在衬底上的正投影，每个像素开口对应的像素限定层包括第一子部、第二子部和第三子部；

通过喷墨在各像素开口内形成发光层，其中，沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同，沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同，第一方向和第二方向垂直，第一子部设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，并且第一子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第一高度，第二子部和第三子部设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，第二子部位于第一子部和第三子部之间，并且第二子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第二高度，第三子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第三高度，第三高度小于第一高度，第二高度小于第三高度并且第二高度大于0。

在一些可选的实施例中，图案化像素限定材料层形成像素限定层进一步包括：

通过具有不同透过率的掩模板形成像素限定层，其中，像素限定层的第一子部对应掩模板的第一透过率，像素限定层的第二子部对应掩模板的第二透过率，像素限定层的第三子部对应掩模板的第三透过率，第一透过率为0，第三透过率大于第一透过率，第二透过率大于第三透过率且小于100％。

在一些可选的实施例中，图案化像素限定材料层形成像素限定层进一步包括：分别通过不同的掩模板图案化像素限定材料层以形成像素限定层的第一子部、第二子部和第三子部。

在一些可选的实施例中，在通过喷墨在各像素开口内形成发光层之后，方法还包括：在发光层上形成其它发光功能层；封装所述阵列基板。

本发明的有益效果如下：

本发明针对目前现有的问题，制定一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，并通过将像素限定层设置成包括设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第一子部、设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第二子部和第三子部，并使得第三子部的高度小于第一子部的高度，第二子部的高度小于第三子部的高度且大于0，能够通过第二子部阻断第一子部的疏液物质向第三子部扩散，从而提高像素限定层中相同颜色发光层的像素开口之间相应于部分刻蚀区域位置的亲液性，提高了相同颜色发光层中墨水的流动性，进而提高了像素间成膜均匀性，同时提高了发光亮度的均匀性，具有广泛的应用前景。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为根据本申请实施例的阵列基板的示意性俯视图。

图2为沿图1中AA′线截取的根据本申请实施例的阵列基板的示意性剖视图。

图3为根据本申请实施例的阵列基板的制作方法的方法流程图。

图4-6为示出本申请实施例的阵列基板在制作过程中的层结构示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明，下面结合优选实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。

除非另外定义，本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其它元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

本文中所述的“在……上”、“在……上形成”和“设置在……上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。在本文中，除非另有说明，所采用的术语“位于同一层”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过同一构图工艺形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。在本文中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。

如图1和图2所示，本发明的一个实施例提供了一种阵列基板，包括：

衬底；

间隔设置在衬底上的多个第一电极；

设置在各第一电极上的像素限定层，像素限定层限定出多个像素开口，每个第一电极在衬底上的正投影覆盖对应的像素开口在衬底上的正投影；

设置在各像素开口内的发光层，并且沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同，沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同，第一方向和第二方向垂直；

每个像素开口对应的像素限定层包括第一子部、第二子部和第三子部，其中：

第一子部设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，并且第一子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第一高度；

第二子部和第三子部设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，第二子部位于第一子部和第三子部之间，并且第二子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第二高度，第三子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第三高度，第三高度小于第一高度，第二高度小于第三高度并且第二高度大于0。

在本实施例中，通过将像素限定层设置成包括设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第一子部、设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第二子部和第三子部，并使得第三子部的高度小于第一子部的高度，第二子部的高度小于第三子部的高度且大于0，能够通过第二子部阻断第一子部的疏液物质向第三子部扩散，从而提高像素限定层中相同颜色发光层的像素开口之间相应于部分刻蚀区域位置的亲液性，提高了相同颜色发光层中墨水的流动性，进而提高了像素间成膜均匀性，同时提高了发光亮度的均匀性，具有广泛的应用前景。

在一个具体的实施例中，参照图1所示的俯视图和图2所示的剖视图，阵列基板包括衬底100；间隔设置在衬底100上的多个第一电极500；设置在各个第一电极500上的像素限定层，像素界定层包括第一子部210、第二子部220和第三子部230；像素限定层中限定出多个像素开口410、420、430，其中沿Y方向排列的列中相同列的各个像素开口以相同的标号表示，为了描述的方便，当在不需要区分多个像素开口410、420、430时，以400表示像素开口；以及设置在各像素开口410、420、430内的发光层300。

在图1的俯视图中以两个第一子部210之间隔开的区域表示发光层300覆盖的区域，如图1所示，在沿Y方向上的发光层300具有相同的颜色，即，沿Y方向，相邻的至少两个像素开口400内，如相邻两个像素开口410内的发光层颜色相同，在沿与Y方向垂直的X方向，由第一子部210隔开的相邻两列发光层300颜色不同，在该示例中，发光层包括如图2所示的三种颜色的发光层310、320和330，即，沿X方向，相邻的至少两个像素开口410和420、或者420和430内的发光层颜色不同。每个第一电极500在衬底100上的正投影覆盖对应的像素开口在衬底100上的正投影，以保证每个第一电极500可以驱动与其对应的像素开口中的像素。本领域技术人员应理解，此处并不旨在限定像素开口在衬底100上的正投影的尺寸必须等于第一电极500在衬底100上的正投影的面积，而是在于像素限定层限定出的每个像素开口使得间隔设置的第一电极500中的每个可以通过开口裸露，从而达到通过电极驱动对应像素发光的目的。本领域技术人员还应理解，实际应用中，为了能够保证像素发光效果，多个像素开口400中的每个在衬底100上的正投影的面积可以小于与其对应的第一电极500的面积，不过本申请中为了方便描绘，图中示出了二者相等的情形。

具体地，本申请的实施例中，如图2所示，像素限定层中的第一子部210、第二子部220和第三子部230形成为具有不同的高度。本领域技术人员应理解，为了清楚示出各个子部，在图2中以不同纹理的图块来进行区分，但实际上，第一子部210、第二子部220和第三子部230均为一个像素界定层整层中的各部分。如图2所示，第一子部210设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，并且第一子部210在垂直于衬底100所在平面方向上具有第一高度H1；第二子部220和第三子部230设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口400之间，如设置在相邻两个像素开口410之间、或者相邻两个像素开口420之间又或者相邻两个像素开口430之间，第二子部220位于第一子部210和第三子部230之间，并且第二子部220在垂直于衬底100所在平面方向上具有第二高度H2，第三子部230在垂直于衬底100所在平面方向上具有第三高度H3，0<H2<H3<H1，即，第三高度H3小于第一高度H1，第二高度H2小于第三高度H3并且第二高度H2大于0。

本发明的实施例提供的上述阵列基板，通过使像素限定层包括高度不同的第一子部、第二子部和第三子部，并通过将第一子部在垂直于衬底所在屏幕方向上的第一高度大于第二子部和第三子部，这样在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时，可以通过第一子部将不同颜色发光层间隔开，第二子部和第三子部较低，可以使相同颜色发光层的墨水材料在相邻像素开口之间进行流动，增大了发光材料的扩散范围，而通过设置第二子部在垂直于衬底所在屏幕方向上的高度小于第三子部的高度，使得可以通过第二子部的高度差阻断第一子部的疏液物质向第三子部位置扩散，从而避免在像素限定层中用于使墨水材料进行流动的区域亲液性差的问题，从而提高了同色像素内墨水的流动性，从而提高成膜均匀性。

在具体实施时，在一些可选的实施例中，参照图1，像素开口400具有长边和短边，第一子部210在衬底100的正投影与设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口的长边在衬底的正投影重合，第二子部220和第三子部230在衬底100的正投影与设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在衬底100的正投影重合。通常情况下，因为短边VCD(真空干燥)成膜范围太窄，从而亲液性差的问题尤其显著。在本申请的实施例中，利用第二子部扩大设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边的范围的同时，利用第二子部的高度差阻断第一子部的疏液物质向第三子部位置扩散，从而在提高像素开口的短边使发光材料扩散的范围的同时进一步增加了发光材料的流动性，改善了在像素限定层中短边成膜均匀性的劣势，提高了发光层成膜均匀性。

值得注意的是，尽管本申请示出了像素开口包括短边和长边的矩形的形式，其并不是限制性地，其它像素开口的形状或者不包括长边和短边的形式也是可以的。另外，第一子部的形状也不必限制为图1所示的长条形，其它例如连续的折线结构等弯折延伸的结构也是可以的。只要设置像素限定层包括如上文所述的第一子部、第二子部和第三子部即可。

具体地，如图1所示，阵列基板可以包括多个重复单元，每个重复单元沿X方向包括具有多个颜色发光层的多个像素开口。可选地，重复单元可以包括第一发光层310、第二发光层320和第三发光层330，在一些示例中，第一发光层310、第二发光层320和第三发光层330的颜色可以从红色、绿色和蓝色中进行选取，例如第一发光层310的颜色为红色、第二发光层的颜色为绿色、第三发光层的颜色为蓝色，当然本申请实施例的颜色种类和数量包括并不限于此，也可以包括其它颜色。通过这样的设置，重复单元中可以包括多个子像素，一个子像素包括一个像素开口，这样可以通过重复单元中不同子像素的发光层发光以进行混色，从而实现显示功能。

相应于阵列基板，参照图3，本申请的实施例还提供一种制作上述阵列基板的方法，包括：

在S11中，在衬底上形成间隔设置的多个第一电极；

在S12中，在各第一电极上形成像素限定材料层；

在S13中，图案化像素限定材料层形成像素限定层，像素限定层限定出多个像素开口，每个第一电极在所述衬底上的正投影覆盖对应的像素开口在衬底上的正投影，每个像素开口对应的像素限定层包括第一子部、第二子部和第三子部；

在S14中，通过喷墨在各像素开口内形成发光层，其中，沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同，沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同，第一方向和第二方向垂直，第一子部设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，并且第一子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第一高度，第二子部和第三子部设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，第二子部位于第一子部和第三子部之间，并且第二子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第二高度，第三子部在垂直于衬底所在平面方向上具有第三高度，第三高度小于第一高度，第二高度小于第三高度并且第二高度大于0。

在本实施例中，通过将像素限定层图案化为包括设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第一子部、设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第二子部和第三子部，并使得第三子部的高度小于第一子部的高度，第二子部的高度小于第三子部的高度且大于0，能够通过第二子部阻断第一子部的疏液物质向第三子部扩散，从而提高像素限定层中相同颜色发光层的像素开口之间相应于部分刻蚀区域位置的亲液性，提高了相同颜色发光层中墨水的流动性，进而提高了像素间成膜均匀性，同时提高了发光亮度的均匀性，具有广泛的应用前景。

下面通过具体的实施例，参照图4到图6，对制作方法进行解释说明。

如图4所示，在提供的衬底100上形成多个第一电极500，第一电极的形成可以通过一次性构图工艺制成。

如图5所示，在第一电极500上形成像素限定材料层，并对其进行图案化形成限定出上文所示的多个像素开口以及包括第一子部、第二子部和第三子部的像素限定层。

优选地，在本申请的实施例中，可以通过具有不同透过率的掩模板一次性形成像素限定层。具体地，像素限定层的第一子部对应掩模板的第一透过率，像素限定层的第二子部对应掩模板的第二透过率，像素限定层的第三子部对应掩模板的第三透过率，第一透过率为0，第三透过率大于所述第一透过率，第二透过率大于第三透过率且小于100％。通过设置掩模版的各个部分的透过率，使得在对像素限定材料层光刻时使第一子部、第二子部、第二子部在垂直于衬底方向的高度满足：第三高度小于第一高度，第二高度小于第三高度并且第二高度大于0，其中第一子部的高度为第一高度、第二子部的高度为第二高度、第三子部的高度为第三高度，如图5所示的第一子部210、第二子部220、和第三子部230。本领域技术人员可以理解，对于像素开口，该掩模板也可以同时具备透过率为100％的区域，只要使得在图案化的掩模板中同时具备对应于上述三个子部并具备对应于像素开口的位置的透过率即可完成一次性图案化过程，具体制作利用光刻掩模进行图案化的过程此处不再赘述。

值得注意的是，图5中示出一次性图案化的过程，但本申请并不限定于此，对像素限定材料层的图案化也可以通过多个不同的掩模板分多次形成第一子部、第二子部和第三子部。例如，分别通过第一掩模板形成第一子部、通过第二掩模板形成第二子部、通过第三掩模板形成第三子部。

进一步具体地，如图6所示，采用喷墨打印工艺，将发光材料喷涂到各个像素开口内以在各像素开口内形成发光层300。其中，沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同，沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同，如第一发光层310、第二发光层320和第三发光层330，第一方向垂直于第二方向，相对于图6所示的剖视图而言，垂直于纸面的方向为第一方向，平行于纸面的方向为第二方向。

进而，在形成发光层300之后，还可以在发光层300上形成其它发光功能层。进一步地，再形成第二电极层，该第二电极层在垂直于衬底的方向上的正投影可以覆盖整个衬底。

基于同一发明构思，本申请的一个实施例还提供一种显示面板，该显示面板解决的问题与前述阵列基板相似，在此不再赘述。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板。该显示装置解决问题的原理与前述显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见前述显示面板的实施，重复之处在此不再赘述。

在具体实施时，显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不再赘述，也不应作为对本申请的限制。

本发明针对目前现有的问题，制定一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，并通过将像素限定层设置成包括设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第一子部、设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间的第二子部和第三子部，并使得第三子部的高度小于第一子部的高度，第二子部的高度小于第三子部的高度且大于0，能够通过第二子部阻断第一子部的疏液物质向第三子部扩散，从而提高像素限定层中相同颜色发光层的像素开口之间相应于部分刻蚀区域位置的亲液性，提高了相同颜色发光层中墨水的流动性，进而提高了像素间成膜均匀性，同时提高了发光亮度的均匀性，具有广泛的应用前景。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底；

间隔设置在所述衬底上的多个第一电极；

设置在各第一电极上的像素限定层，像素限定层限定出多个像素开口，每个第一电极在所述衬底上的正投影覆盖对应的像素开口在所述衬底上的正投影；

设置在各像素开口内的发光层，并且沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同，沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同，所述第一方向和第二方向垂直；

每个像素开口对应的像素限定层包括第一子部、第二子部和第三子部，其中：

所述第一子部设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，并且所述第一子部在垂直于所述衬底所在平面方向上具有第一高度；

所述第二子部和第三子部设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，所述第二子部位于所述第一子部和第三子部之间，并且所述第二子部在垂直于所述衬底所在平面方向上具有第二高度，所述第三子部在垂直于所述衬底所在平面方向上具有第三高度，所述第三高度小于第一高度，第二高度小于第三高度并且第二高度大于0。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素开口具有长边和短边，所述第一子部在所述衬底的正投影与设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口的长边在所述衬底的正投影重合，所述第二子部和第三子部在所述衬底的正投影与设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在所述衬底的正投影重合。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括阵列排布的多个重复单元，每个重复单元沿第二方向包括具有不同颜色发光层的多个像素开口。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述重复单元包括第一颜色发光层、第二颜色发光层和第三颜色发光层。

5.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-4中任一项所述的阵列基板。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5所述的显示面板。

7.一种制作权利要求1-4中任一项所述的阵列基板的方法，其特征在于，包括：

在衬底上形成间隔设置的多个第一电极；

在各所述第一电极上形成像素限定材料层；

图案化所述像素限定材料层形成像素限定层，所述像素限定层限定出多个像素开口，每个第一电极在所述衬底上的正投影覆盖对应的像素开口在所述衬底上的正投影，每个像素开口对应的像素限定层包括第一子部、第二子部和第三子部；

通过喷墨在各像素开口内形成发光层，其中，沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同，沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同，所述第一方向和第二方向垂直，所述第一子部设置在不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，并且所述第一子部在垂直于所述衬底所在平面方向上具有第一高度，所述第二子部和第三子部设置在相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间，所述第二子部位于所述第一子部和第三子部之间，并且所述第二子部在垂直于所述衬底所在平面方向上具有第二高度，所述第三子部在垂直于所述衬底所在平面方向上具有第三高度，所述第三高度小于第一高度，第二高度小于第三高度并且第二高度大于0。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述图案化所述像素限定材料层形成像素限定层进一步包括：

通过具有不同透过率的掩模板形成像素限定层，其中，所述像素限定层的第一子部对应所述掩模板的第一透过率，所述像素限定层的第二子部对应所述掩模板的第二透过率，所述像素限定层的第三子部对应所述掩模板的第三透过率，所述第一透过率为0，所述第三透过率大于所述第一透过率，所述第二透过率大于第三透过率且小于100％。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述图案化所述像素限定材料层形成像素限定层进一步包括：

分别通过不同的掩模板图案化所述像素限定材料层以形成像素限定层的第一子部、第二子部和第三子部。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述通过喷墨在各像素开口内形成发光层之后，所述方法还包括：

在所述发光层上形成其它发光功能层；

封装所述阵列基板。

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