CN107402469B - 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 81
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 75
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims abstract description 43
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 37
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 12
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/1336—Illuminating devices
- G02F1/133617—Illumination with ultraviolet light; Luminescent elements or materials associated to the cell
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
- B41M3/003—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns on optical devices, e.g. lens elements; for the production of optical devices
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
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- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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Abstract
本发明提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置,属于显示技术领域。彩膜基板的制作方法,包括在衬底基板上形成条状的第一黑矩阵图形,所述第一黑矩阵图形限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域和第二像素区域,所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度,所述制作方法还包括:采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层;采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层。本发明能够降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求,并能避免亚像素之间形成段差以及角段差对显示带来的不良影响。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是指一种彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置。
背景技术
现有的彩膜基板制作工艺中,是在彩膜基板的衬底基板上形成格子状的黑矩阵图形,每个格子为一个亚像素区域,通过三次涂布、曝光、显影工艺在相邻的亚像素区域上分别形成R(红色)/G(绿色)/B(蓝色)三色的彩色滤光单元,但是这种方式使得每个亚像素之间会形成段差以及角段差,这有可能导致显示不良。
随着工艺技术的进步,出现了一种利用喷墨打印法制备彩色滤光单元的方法,喷墨打印法是利用高精度的喷墨打印工艺,直接在预先形成的方格的黑矩阵图形内把R/G/B三色颜料精准的喷涂在相应的亚像素区域内,然后经过固化形成彩色滤光单元。喷墨打印法的成本低,工艺简单,色阻利用率高,但是对喷涂精度的要求很高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置,能够降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求,并能避免亚像素之间形成段差以及角段差对显示带来的不良影响。
为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:
一方面,提供一种彩膜基板的制作方法,包括在衬底基板上形成条状的第一黑矩阵图形,所述第一黑矩阵图形限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域和第二像素区域,所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度,所述制作方法还包括:
采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层;
采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层。
进一步地,所述采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层包括:
采用喷墨打印工艺在第一像素区域内喷涂色阻材料制作色阻层,所述色阻材料包括彩色滤光材料、荧光材料和量子点材料。
进一步地,所述彩膜基板上形成有第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素,第一颜色、第二颜色和第三颜色能够混合成白光,所述制作方法具体包括:
在所述第二像素区域内制作所述第二颜色亚像素的色阻层;
在所述第一像素区域内制作所述第一颜色亚像素和所述第三颜色亚像素的色阻层,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替形成在所述第一像素区域内;或
在所述第二像素区域内制作所述第一颜色亚像素和所述第三颜色亚像素的色阻层,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替形成在所述第二像素区域内;
在所述第一像素区域内制作所述第二颜色亚像素的色阻层。
进一步地,采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层,采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层之后,所述制作方法还包括:
形成平坦层;
在所述平坦层上形成网状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形限定出多个亚像素区域;或
在所述平坦层上形成条状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域。
本发明实施例还提供了一种彩膜基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的条状的第一黑矩阵图形,所述第一黑矩阵图形限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域和第二像素区域,所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度,所述第一像素区域内设置有色阻层或透光层,所述第二像素区域内设置有色阻层或透光层。
进一步地,所述第一宽度为所述第二宽度的两倍以上。
进一步地,所述彩膜基板上形成有第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素,第一颜色、第二颜色和第三颜色能够混合成白光,所述第二颜色亚像素位于第二像素区域中,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替排布在所述第一像素区域内;
或
所述第二颜色亚像素位于第一像素区域中,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替排布在所述第二像素区域内。
进一步地,所述第二颜色亚像素为蓝色亚像素,所述第一颜色亚像素为红色亚像素,所述第三颜色亚像素为绿色亚像素,第二颜色亚像素包括位于第二像素区域内的透光层或蓝色量子点层,所述第一颜色亚像素包括位于第一像素区域内的红色量子点层,所述第三颜色亚像素包括位于第一像素区域内的绿色量子点层。
进一步地,还包括:
覆盖所述色阻层或透光层的平坦层;
位于所述平坦层上的网状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形限定出多个亚像素区域;或
位于所述平坦层上的条状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域。
本发明实施例还提供了一种显示面板,包括如上所述的彩膜基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括如上所述的显示面板和位于所述显示面板入光侧的背光源。
进一步地,在所述第一像素区域或所述第二像素区域内设置透光层时,所述背光源为单色光背光源。
进一步地,在所述彩膜基板包括蓝色亚像素、红色亚像素和绿色亚像素,蓝色亚像素包括位于第二像素区域内的透光层或蓝色量子点层,红色亚像素包括位于第一像素区域内的红色量子点层,绿色亚像素包括位于第一像素区域内的绿色量子点层时,所述背光源为蓝光背光源。
本发明的实施例具有以下有益效果:
上述方案中,在彩膜基板上形成有两种宽度不同的像素区域,两种宽度不同的像素区域在彩膜基板上成行交替排布,在较宽的像素区域采用喷墨打印工艺制作色阻层,能够降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求,提高彩膜基板产品的可靠性,并使喷墨打印法可应用更多尺寸类型的彩膜基板产品,利用了喷墨打印法成本低,工艺简单,色阻利用率高的优点。另外在较窄的像素区域采用曝光工艺制作色阻层或透光层,由于较窄的像素区域和较宽的像素区域是交替排布在彩膜基板上,相邻较窄的像素区域之间间隔有较宽的像素区域,因此,能避免采用曝光工艺制备的色阻层或透光层之间形成段差以及角段差,进而避免对显示带来不良影响,保证显示装置的显示效果。
附图说明
图1-图5为本发明实施例彩膜基板的示意图;
图6-图7为本发明实施例显示装置的示意图。
附图标记
1第一黑矩阵图形 2红色色阻层 3蓝色色阻层
4绿色色阻层 5第二黑矩阵图形
6绿色量子点层 7红色量子点层
8蓝光背光源 9透光层
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本发明的实施例针对现有技术中采用曝光显影工艺制作彩色滤光单元使得每个亚像素之间会形成段差以及角段差,有可能导致显示不良;采用喷墨打印法制作彩色滤光单元,对喷涂精度的要求很高的问题,提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置,能够降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求,并能避免亚像素之间形成段差以及角段差对显示带来的不良影响。
本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法,如图1所示,包括在衬底基板上形成条状的第一黑矩阵图形1,所述第一黑矩阵图形1限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域(A1和A3)和第二像素区域(A2),所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度d1大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度d2,所述制作方法还包括:
采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层;
采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层。
本实施例中,在彩膜基板上形成有两种宽度不同的像素区域,两种宽度不同的像素区域在彩膜基板上成行交替排布,在较宽的像素区域采用喷墨打印工艺制作色阻层,能够降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求,提高彩膜基板产品的可靠性,并使喷墨打印法可应用更多尺寸类型的彩膜基板产品,利用了喷墨打印法成本低,工艺简单,色阻利用率高的优点。另外在较窄的像素区域采用曝光工艺制作色阻层或透光层,由于较窄的像素区域和较宽的像素区域是交替排布在彩膜基板上,相邻较窄的像素区域之间间隔有较宽的像素区域,因此,能避免采用曝光工艺制备的色阻层或透光层之间形成段差以及角段差,进而避免对显示带来不良影响,保证显示装置的显示效果。
其中,d1可以是d2的两倍或者d1大于d2的两倍,这样可以使得第一像素区域的宽度较宽,可以降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求。
进一步地,所述采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层包括:
采用喷墨打印工艺在第一像素区域内喷涂色阻材料制作色阻层,所述色阻材料包括彩色滤光材料、荧光材料和量子点材料。
具体地,采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层包括:
在衬底基板上涂布色阻材料,对色阻材料进行曝光,显影后在第二像素区域内形成色阻层,所述色阻材料包括彩色滤光材料、荧光材料和量子点材料;
采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作透光层包括:
在衬底基板上涂布透光材料,对透光材料进行曝光,显影后在第二像素区域内形成透光层。
其中,在第一像素区域或第二像素区域内形成有透光层时,则对应的显示装置所采用的背光源为单色光背光源,这样单色光背光源出射的单色光可以直接经透光层射出参与彩色显示。
进一步地,所述彩膜基板上形成有第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素,第一颜色、第二颜色和第三颜色能够混合成白光,所述制作方法具体包括:
在所述第二像素区域内制作所述第二颜色亚像素的色阻层或透光层;
在所述第一像素区域内制作所述第一颜色亚像素和所述第三颜色亚像素的色阻层,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替形成在所述第一像素区域内,这样可以使得第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素交替排布,实现彩色显示;或者
在所述第二像素区域内制作所述第一颜色亚像素和所述第三颜色亚像素的色阻层,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替形成在所述第二像素区域内;
在所述第一像素区域内制作所述第二颜色亚像素的色阻层或透光层。
一具体实施例中,如图2所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成交替排布的红色色阻层2和绿色色阻层4,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成蓝色色阻层3,其中,在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用彩色滤光材料时,对应的显示装置的背光源为白光背光源;在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用量子点材料时,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源。
另一具体实施例中,如图3所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成交替排布的蓝色色阻层3和绿色色阻层4,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成红色色阻层2,其中,在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用彩色滤光材料时,对应的显示装置的背光源为白光背光源;在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用量子点材料时,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源。
另一具体实施例中,如图4所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成交替排布的蓝色色阻层3和红色色阻层2,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成绿色色阻层4,其中,在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用彩色滤光材料时,对应的显示装置的背光源为白光背光源;在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用量子点材料时,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源。
进一步地,在采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层,采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层之后,如图5所示,所述制作方法还包括:
形成平坦层;
在所述平坦层上形成网状的第二黑矩阵图形5,所述第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光;或
在所述平坦层上形成条状的第二黑矩阵图形5,所述第二黑矩阵图形5沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形5与第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光。
进一步地,在图2-图4所示的实施例中,在红色色阻层2、绿色色阻层4采用量子点材料,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源时,蓝色亚像素对应的区域可以不设置蓝色色阻层,仅设置透光层即可,蓝光背光源发出的光直接透射透光层出射蓝光。如图6所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成交替排布的绿色量子点层6和红色量子点层7,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成透光层9,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过透光层9出射蓝光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过绿色量子点层6出射绿光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过红色量子点层6出射红光,从而形成彩色显示。
当然,也可以是在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成交替排布的绿色量子点层6和红色量子点层7,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成蓝色量子点层,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过蓝色量子点层出射蓝光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过绿色量子点层6出射绿光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过红色量子点层6出射红光,从而形成彩色显示。
当然,在上述实施例的基础上,如图7所示,所述制作方法还包括:
形成平坦层;
在所述平坦层上形成网状的第二黑矩阵图形5,所述第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光。
或者还可以在所述平坦层上形成条状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形与第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光。
本发明实施例还提供了一种彩膜基板,如图1所示,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的条状的第一黑矩阵图形1,所述第一黑矩阵图形1限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域(A1和A3)和第二像素区域(A2),所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度d1大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度d2,所述第一像素区域内设置有色阻层或透光层,所述第二像素区域内设置有色阻层或透光层。
本实施例中,在彩膜基板上形成有两种宽度不同的像素区域,两种宽度不同的像素区域在彩膜基板上成行交替排布,在较宽的像素区域采用喷墨打印工艺制作色阻层,能够降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求,提高彩膜基板产品的可靠性,并使喷墨打印法可应用更多尺寸类型的彩膜基板产品,利用了喷墨打印法成本低,工艺简单,色阻利用率高的优点。另外在较窄的像素区域采用曝光工艺制作色阻层或透光层,由于较窄的像素区域和较宽的像素区域是交替排布在彩膜基板上,相邻较窄的像素区域之间间隔有较宽的像素区域,因此,能避免采用曝光工艺制备的色阻层或透光层之间形成段差以及角段差,进而避免对显示带来不良影响,保证显示装置的显示效果。
其中,d1可以是d2的两倍或者d1大于d2的两倍,这样可以使得第一像素区域的宽度较宽,可以降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求。
其中,在第一像素区域或第二像素区域内形成有透光层时,则对应的显示装置所采用的背光源为单色光背光源,这样单色光背光源出射的单色光可以直接经透光层射出参与彩色显示。
具体地,所述彩膜基板上形成有第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素,第一颜色、第二颜色和第三颜色能够混合成白光,所述第二颜色亚像素位于第二像素区域中,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替排布在所述第一像素区域内,这样可以使得第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素交替排布,实现彩色显示。或者所述第二颜色亚像素位于第一像素区域中,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替排布在所述第二像素区域内。
一具体实施例中,如图2所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成有交替排布的红色色阻层2和绿色色阻层4,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成有蓝色色阻层3,其中,在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用彩色滤光材料时,对应的显示装置的背光源为白光背光源;在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用量子点材料时,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源。
另一具体实施例中,如图3所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成有交替排布的蓝色色阻层3和绿色色阻层4,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成有红色色阻层2,其中,在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用彩色滤光材料时,对应的显示装置的背光源为白光背光源;在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用量子点材料时,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源。
另一具体实施例中,如图4所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成有交替排布的蓝色色阻层3和红色色阻层2,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成有绿色色阻层4,其中,在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用彩色滤光材料时,对应的显示装置的背光源为白光背光源;在红色色阻层2、绿色色阻层4、蓝色色阻层3采用量子点材料时,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源。
进一步地,如图5所示,所述彩膜基板还包括:
覆盖所述色阻层或透光层的平坦层;
位于平坦层上的网状的第二黑矩阵图形5,所述第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光。
或者第二黑矩阵图形还可以设计为条状,所述第二黑矩阵图形沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形与第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光。
进一步地,在图2-图4所示的实施例中,在红色色阻层2、绿色色阻层4采用量子点材料,对应的显示装置的背光源为蓝光背光源时,蓝色亚像素对应的区域可以不设置蓝色色阻层,仅设置透光层即可,蓝光背光源发出的光直接透射透光层出射蓝光。如图6所示,在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成有交替排布的绿色量子点层6和红色量子点层7,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成有透光层9,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过透光层9出射蓝光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过绿色量子点层6出射绿光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过红色量子点层6出射红光,从而形成彩色显示。
当然,也可以是在第一像素区域内采用喷墨打印工艺形成有交替排布的绿色量子点层6和红色量子点层7,在第二像素区域内采用曝光显影工艺形成有蓝色量子点层,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过蓝色量子点层出射蓝光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过绿色量子点层6出射绿光,显示装置的蓝光背光源8发出的光经过红色量子点层6出射红光,从而形成彩色显示。
当然,在上述实施例的基础上,如图7所示,所述彩膜基板还包括:
平坦层;
位于平坦层上的网状的第二黑矩阵图形5,所述第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形5限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光。
或者第二黑矩阵图形还可以设计为条状,所述第二黑矩阵图形沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,通过第二黑矩阵图形与第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域,可以避免相邻亚像素区域之间出现混光。
本发明实施例还提供了一种显示面板,包括如上所述的彩膜基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括如上所述的显示面板和位于所述显示面板入光侧的背光源。所述显示装置可以为:液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件,其中,所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。
其中,在所述第一像素区域或所述第二像素区域内设置透光层时,所述背光源为单色光背光源。单色光背光源发出的光直接出射透光层发出单色光,以进行彩色显示。
一具体实施例中,如图6和图7所示,所述彩膜基板包括蓝色亚像素、红色亚像素和绿色亚像素,蓝色亚像素包括位于第二像素区域内的透光层9,红色亚像素包括位于第一像素区域内的红色量子点层7,绿色亚像素包括位于第一像素区域内的绿色量子点层6,显示装置的背光源为蓝光背光源8。
或者所述彩膜基板包括蓝色亚像素、红色亚像素和绿色亚像素,蓝色亚像素包括位于第二像素区域内的蓝色量子点层,红色亚像素包括位于第一像素区域内的红色量子点层,绿色亚像素包括位于第一像素区域内的绿色量子点层,显示装置的背光源为蓝光背光源8。
除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解,当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时,该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”,或者可以存在中间元件。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (13)
1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括在衬底基板上形成条状的第一黑矩阵图形,所述第一黑矩阵图形限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域和第二像素区域,所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度,所述制作方法还包括:
采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层;
采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层包括:
采用喷墨打印工艺在第一像素区域内喷涂色阻材料制作色阻层,所述色阻材料包括彩色滤光材料、荧光材料和量子点材料。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述彩膜基板上形成有第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素,第一颜色、第二颜色和第三颜色能够混合成白光,所述制作方法具体包括:
在所述第二像素区域内制作所述第二颜色亚像素的色阻层;
在所述第一像素区域内制作所述第一颜色亚像素和所述第三颜色亚像素的色阻层,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替形成在所述第一像素区域内;或
在所述第二像素区域内制作所述第一颜色亚像素和所述第三颜色亚像素的色阻层,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替形成在所述第二像素区域内;
在所述第一像素区域内制作所述第二颜色亚像素的色阻层。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层,采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层之后,所述制作方法还包括:
形成平坦层;
在所述平坦层上形成网状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形限定出多个亚像素区域;或
在所述平坦层上形成条状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域。
5.一种彩膜基板,其特征在于,采用如权利要求1-4中任一项所述的制作方法制作得到,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的条状的第一黑矩阵图形,所述第一黑矩阵图形限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域和第二像素区域,所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度,所述第一像素区域内设置有色阻层或透光层,所述第二像素区域内设置有色阻层或透光层。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一宽度为所述第二宽度的两倍以上。
7.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板上形成有第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素,第一颜色、第二颜色和第三颜色能够混合成白光,所述第二颜色亚像素位于第二像素区域中,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替排布在所述第一像素区域内;
或
所述第二颜色亚像素位于第一像素区域中,所述第一颜色亚像素和第三颜色亚像素在第一方向上交替排布在所述第二像素区域内。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二颜色亚像素为蓝色亚像素,所述第一颜色亚像素为红色亚像素,所述第三颜色亚像素为绿色亚像素,第二颜色亚像素包括位于第二像素区域内的透光层或蓝色量子点层,所述第一颜色亚像素包括位于第一像素区域内的红色量子点层,所述第三颜色亚像素包括位于第一像素区域内的绿色量子点层。
9.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,还包括:
覆盖所述色阻层或透光层的平坦层;
位于所述平坦层上的网状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形限定出多个亚像素区域;或
位于所述平坦层上的条状的第二黑矩阵图形,所述第二黑矩阵图形沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸,与所述第一黑矩阵图形配合限定出多个亚像素区域。
10.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求5-9中任一项所述的彩膜基板。
11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求10所述的显示面板和位于所述显示面板入光侧的背光源。
12.根据权利要求11所述的显示装置,其特征在于,在所述第一像素区域或所述第二像素区域内设置透光层时,所述背光源为单色光背光源。
13.根据权利要求11所述的显示装置,其特征在于,在所述彩膜基板包括蓝色亚像素、红色亚像素和绿色亚像素,蓝色亚像素包括位于第二像素区域内的透光层或蓝色量子点层,红色亚像素包括位于第一像素区域内的红色量子点层,绿色亚像素包括位于第一像素区域内的绿色量子点层时,所述背光源为蓝光背光源。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710712249.9A CN107402469B (zh) | 2017-08-18 | 2017-08-18 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置 |
US15/928,371 US10871678B2 (en) | 2017-08-18 | 2018-03-22 | Color filter substrate, fabricating method thereof, display panel and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710712249.9A CN107402469B (zh) | 2017-08-18 | 2017-08-18 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107402469A CN107402469A (zh) | 2017-11-28 |
CN107402469B true CN107402469B (zh) | 2021-01-26 |
Family
ID=60397159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710712249.9A Active CN107402469B (zh) | 2017-08-18 | 2017-08-18 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10871678B2 (zh) |
CN (1) | CN107402469B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109062014B (zh) * | 2018-09-12 | 2020-06-02 | 友达光电(昆山)有限公司 | 一种掩膜板组及显示面板 |
CN109273410A (zh) * | 2018-09-12 | 2019-01-25 | 重庆惠科金渝光电科技有限公司 | 一种显示面板的加工方法以及显示面板 |
CN110616009A (zh) * | 2019-08-26 | 2019-12-27 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 钙钛矿墨水及其制备方法、显示面板 |
CN111487803A (zh) * | 2020-03-20 | 2020-08-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7755652B2 (en) * | 2002-01-07 | 2010-07-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Color flat panel display sub-pixel rendering and driver configuration for sub-pixel arrangements with split sub-pixels |
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-
2017
- 2017-08-18 CN CN201710712249.9A patent/CN107402469B/zh active Active
-
2018
- 2018-03-22 US US15/928,371 patent/US10871678B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10871678B2 (en) | 2020-12-22 |
CN107402469A (zh) | 2017-11-28 |
US20190056625A1 (en) | 2019-02-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |