CN112213877A - 基板、显示面板以及基板制造方法 - Google Patents
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Abstract
涉及一种基板、显示面板以及基板制造方法。本记载的基板包括:基底层;间隔壁,位于所述基底层上并将所述基底层上方划分成多个像素区域;以及图案,在所述基底层位于所述像素区域,并引导喷出到所述基底层的液滴扩散。
Description
技术领域
本发明涉及基板、显示面板以及基板制造方法,更详细地涉及可用于制造显示面板的基板、显示面板以及基板制造方法。
背景技术
一般来说,为了制造电路部件或液晶显示面板之类平板显示器(FPD:Flat PanelDisplay),需要使用光致抗试剂(PR:photoresist)液或铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)等之类金属膏(paste)在玻璃表面或印刷电路板(PCB)上形成电极(electrodes)或点(dots)等之类一定图案(patterns)。
作为用于在基板形成一定图案的方法,可以使用利用2个辊以胶印方式将一定图案直接图案化的方式或者喷射墨滴的方式。在此,一般来说,将墨滴向基板喷出的液滴喷出装置类似于普通喷墨打印,使用利用喷嘴在基板直接图案化一定图案的方式。
另一方面,在包括在液滴喷出装置中的喷头向基板喷出液滴的情况下,规定有应向基板的各个像素区域中最小限度填充的液滴的体积。一般来说,计算准确量,将液滴填充于像素区域。但是,根据基板表面的亲水性或疏水性特性,可能发生液滴在各像素区域中不能正常填充的情况。
更详细说明的话,需要像素区域内部成为亲水性状态,液滴才能均匀扩散于像素区域。但是,因基板的疏水性特性,液滴可能难以均匀扩散。由此,即使从喷头喷出应填充于像素区域中的量的液滴,在像素区域中可能还存在不被填充液滴的区域。
若为了使液滴均匀地填充于像素区域,进行等离子体处理,则因液滴的高表面能和间隔壁的亲水性特性,反而液滴可能向外部溢出。需要间隔壁保持疏水性,才能墨即使喷出到间隔壁附近也会向像素内部注入,但是通过以往的工艺方法难以将像素内部区域和间隔壁区域选择性地保持亲水性和疏水性。
(现有技术文献)
(专利文献)
专利文献1:韩国授权专利第10-0647701号
发明内容
本发明的目的在于提供能够提高液滴的扩散性的基板、显示面板以及基板制造方法。
本发明的一方面的基板包括:基底层;间隔壁,位于所述基底层上并将所述基底层上方划分成多个像素区域;以及图案,在所述基底层位于所述像素区域,并引导喷出到所述基底层的液滴扩散。
另一方面,可以是,所述图案构成为线(line)状。
另一方面,可以是,所述图案的上下端面的形状是重复存在沟槽和凸起。
另一方面,可以是,喷出到所述像素区域的液滴沿着所述图案移动而均匀地涂布于像素区域。
另一方面,可以是,所述图案通过光刻、压印、喷墨打印或滚筒印压工艺或者利用激光及化学物质的蚀刻而生成。
本发明的一方面的显示面板包括前述的基板来制造。
本发明的一方面的基板制造方法包括:准备所述基底层的基底层布置步骤;在所述基底层形成图案的图案形成步骤;在所述基底层形成间隔壁的间隔壁形成步骤;以及向所述基底层喷出液滴的液滴喷出步骤。
另一方面,可以是,在所述图案形成步骤中,使用光刻、压印、喷墨打印或滚筒印压方法或者利用激光以及化学物质的蚀刻方法来形成图案。
另一方面,可以是,在所述液滴喷出步骤中,喷出的液滴沿着所述图案移动而均匀地涂布于像素区域。
本发明的基板包括生成于基底层上的图案。因此,在液滴喷出到基底层的情况下,生成图案的基板与液滴的附着力会比液滴的凝聚力相对大,液滴会沿着图案的模样扩散。如此喷出到像素区域的液滴会沿着图案移动而能够均匀地涂布于像素区域。即,与不具备图案的基板相比,本发明的基板可以显著提高液滴的扩散性。
如此,本发明的基板即使不实施液滴的粘度、表面能调整,或者对像素区域照射紫外线或用等离子体进行处理等后处理工艺,仅通过在基底层生成图案能够提高液滴的扩散性。
以往的基板由于在基底层不存在图案,反射从包括在普通显示面板中的背光单元(back light unit)照射的光而光提取效率可能降低。但是,本发明的基板可以使从背光单元照射的光沿着图案的模样散射而增加向外部发出的光提取效率。
然后,本发明的基板制造方法即使不考虑基板和液滴的综合性因素,只要实施在基底层形成图案的图案形成步骤,能够以与以往基板制造方法相比低廉的费用制造高质量及高分辨率的显示模组。
附图说明
图1是示出本发明的一实施例的基板和喷头的立体图。
图2是示出向图1的基板喷出液滴的状态的图。
图3是示出液滴填充在基板上的状态的图。
图4是示出本发明的一实施例的基板制造方法的顺序图。
图5是依次示出通过图4的基板制造方法制造基板的过程的图。
图6是示出图案的各种形状的图。
(附图标记说明)
100:基板;110:基底层;120:间隔壁;130:图案;K:液滴。
具体实施方式
以下,参照附图来详细说明本发明的实施例,以使得本发明所属技术领域中具有通常知识的人能够容易地实施。本发明可以以各种不同方式实现,不限于在此说明的实施例。
为了清楚地说明本发明,省略了与说明无关的部分,贯穿说明书整体对相同或类似的构成要件标注相同的附图标记。
另外,在多个实施例中,对具有相同结构的构成要件,使用相同的附图标记来仅说明代表性实施例,在其余的其它实施例中仅说明与代表性实施例不同的结构。
在说明书整体中,当表述某部分与其它部分“连接”时,其不仅是“直接连接”的情况,还包括将其它部件置于中间“间接连接”的情况。另外,当表述某部分“包括”某构成要件时,只要没有特别相反记载,其意指可以还包括其它构成要件而不是排除其它构成要件。
只要没有不同地定义,包括技术或科学术语在内在此使用的所有术语具有与本发明所属技术领域中具有通常知识的人一般所理解的含义相同的含义。在通常使用的词典中定义的术语之类的术语应解释为具有与相关技术文脉上具有的含义一致的含义,只要在本申请中没有明确定义,不会理想性或过度地解释为形式性含义。
参照图1以及图2,本发明的一实施例的基板100包括基底层110、间隔壁120以及图案130。
基底层110可以是基板的基础部。作为一例,这种基底层110可以是玻璃。与此不同,在基板100用于制造柔性显示面板的情况下,基底层110也可以是透明膜。
间隔壁120可以位于所述基底层110上并将所述基底层110上方划分成多个像素区域。另一方面,相邻的3个像素区域可以成为一个组而构成一个像素(pixel)来显示各种颜色。3个像素区域可以分别是红色(R)、绿色(G)以及蓝色(B)。这种像素区域的组合可以根据平板显示面板的设计在所述组中追加白色(W)颜色,不限于特定组合。
间隔壁120界定填充液滴K的空间。这种间隔壁120的厚度和高度可以根据基板100的设计来变更,因此不限于特定数值。间隔壁120由无极性的有机物或无机物构成,可以使得顺畅地进行液滴K的涂布。
这种间隔壁120和基底层110可以是包含在普通基板中的,因此省略对其的详细说明。
图案130在所述基底层110中位于所述像素区域,可以引导向所述基底层110喷出的液滴K扩散。图案130可以构成为线(line)状。
所述图案130的上下端面的形状可以重复存在沟槽和凸起。作为一例,在基板100生成这种图案130的方法可以是基于光刻(Lithography)、压印(Imprinting)、喷墨打印(inkjet printing)或滚筒印压(Roll Printing)工艺或者利用激光及化学物质的蚀刻的方法。
例如,在基板100生成图案130的方法可以使用利用光刻方法将玻璃和折射率小于10%且透明度90%以上的物质在基底层110进行图案化的方法。与此不同,在基板100生成图案130的方法也可以使用将基底层110局部性熔化的方法。在基板100生成图案130的方法并不限定于仅使用前述的方法。
如图2所示,若液滴K从包括在普通喷墨打印系统中的喷头H向彼此相邻的间隔壁120之间喷出,则喷出到像素区域的液滴K可以沿着所述图案130移动而均匀地涂布于像素区域。
本发明的一实施例的基板100包括位于基底层110上的图案130。因此,在液滴K喷出到基底层110的情况下,生成图案130的基板100与液滴K的附着力会比液滴K的凝聚力相对更大,液滴K会沿着图案130的模样扩散。如此喷出到像素区域的液滴K会沿着图案130移动而能够均匀地涂布于像素区域。即,与不具备图案130的基板100相比,本发明的一实施例的基板100可以显著提高液滴K的扩散性。
如此,本发明的一实施例的基板100即使不实施液滴K的粘度、表面能调整,或者对像素区域照射紫外线或用等离子体进行处理等后处理工艺,仅通过在基底层110生成图案130能够提高液滴K的扩散性。
以往的基板由于在基底层不存在图案,反射从包括在普通显示面板中的背光单元(back light unit)照射的光而光提取效率可能降低。但是,如图3所示,本发明的基板100可以使从背光单元照射的光L沿着图案130的模样以及尺寸散射而增加向外部发出的光提取效率。
虽附图中未示出,具备前述的基板的本发明的一实施例的显示面板可以依次层叠基板、玻璃以及偏光片。但是,显示面板并不限于如此构成,可以根据显示面板的设计而改变除基板以外的其它部分。例如,也可以在显示面板追加触摸传感器。
以下,参照附图,说明用于制造前述的本发明的一实施例的基板100的基板制造方法。
参照图4以及图5,本发明的一实施例的基板制造方法(S100)包括基底层布置步骤(S110)、图案形成步骤(S120)、间隔壁形成步骤(S130)以及液滴喷出步骤(S140)。
基底层布置步骤(S110)可以准备所述基底层110(参照图5的(a))。虽附图中未示出,基底层110可以通过移送单元移送而位于包括在基板处理装置中的腔室内部的静电卡盘等之类工作台。
图案形成步骤(S120)可以在所述基底层110形成图案130(参照图5的(b))。在所述图案形成步骤(S120)中,可以使用光刻、压印或滚筒印压方法或者利用激光以及化学物质的蚀刻方法来形成图案。通过这种图案形成步骤(S120)生成的图案的间隔、高度等整体形状可以根据设计而进行各种变更,因此不限于特定形状。
例如,如图6的(a)所示,图案130A的形状可以比像素区域的中心在与间隔壁相邻的部分多少密集地形成。与此不同,如图6的(b)所示,图案130B也可以是点线形状。
在间隔壁形成步骤(S130)中,可以在所述基底层110形成间隔壁120(参照图5的(c))。在基底层110形成间隔壁120的方法可以使用普通基板制造方法中所使用的公知方法,因此省略对其的详细说明。
在液滴喷出步骤(S140)中,可以向所述基底层110喷出液滴K。可以是液滴K从包括在普通喷墨打印系统中的喷头向彼此相邻的间隔壁120之间喷出。
若喷头位于基底层110上,则实施喷头的位置排列,喷头可以将定量的液滴在各个像素区域中喷出到作为目标的准确位置。如图5的(d)所示,在喷出步骤(S140)中,喷出的液滴K沿着所述图案130移动而能够均匀地涂布于像素区域。
这种本发明的一实施例的基板制造方法(S100)即使不考虑基板100和液滴K的综合性因素,只要实施在基底层110形成图案130的图案形成步骤(S120),能够以与以往基板制造方法相比低廉的费用制造高质量及高分辨率的显示模组。
以上,说明了本发明的各种实施例,到此为止参照的附图和记载的发明的详细说明只是本发明的示例,其仅用作用于说明本发明的目的,并不是用于意义限定或限制权利要求书中记载的本发明的范围。因而本技术领域的具有通常知识的人可以理解根据其进行各种变形及等同的其它实施例。因此,本发明的真实技术保护范围应通过权利要求书的技术构思来定。
Claims (20)
1.一种基板,包括:
基底层;
间隔壁,位于所述基底层上并将所述基底层上方划分成多个像素区域;以及
图案,在所述基底层位于所述像素区域,并引导喷出到所述基底层的液滴扩散。
2.根据权利要求1所述的基板,其中,
所述图案构成为线状。
3.根据权利要求1所述的基板,其中,
所述图案的上下端面的形状是重复存在沟槽和凸起。
4.根据权利要求1所述的基板,其中,
喷出到所述像素区域的液滴沿着所述图案移动。
5.根据权利要求4所述的基板,其中,
喷出到所述像素区域的液滴均匀地涂布于所述像素区域。
6.根据权利要求1所述的基板,其中,
所述图案通过光刻、压印、喷墨打印、滚筒印压而生成。
7.根据权利要求1所述的基板,其中,
所述图案通过利用激光及化学物质的蚀刻而生成。
8.一种显示面板,包括基板来制造,其中,
所述基板包括:
基底层;
间隔壁,位于所述基底层上并将所述基底层上方划分成多个像素区域;以及
图案,在所述基底层位于所述像素区域,并引导喷出到所述基底层的液滴扩散。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其中,
所述图案构成为线状。
10.根据权利要求8所述的显示面板,其中,
所述图案的上下端面的形状是重复存在沟槽和凸起。
11.根据权利要求8所述的显示面板,其中,
喷出到所述像素区域的液滴沿着所述图案移动。
12.根据权利要求11所述的显示面板,其中,
喷出到所述像素区域的液滴均匀地涂布于所述像素区域。
13.根据权利要求8所述的显示面板,其中,
所述图案通过光刻、压印、喷墨打印、滚筒印压而生成。
14.根据权利要求8所述的显示面板,其中,
所述图案通过利用激光及化学物质的蚀刻而生成。
15.一种基板制造方法,用于制造基板,所述基板包括:基底层;间隔壁,位于所述基底层上并将所述基底层上方划分成多个像素区域;以及图案,在所述基底层位于所述像素区域,并引导喷出到所述基底层的液滴扩散,其中,
所述基板制造方法包括:
准备所述基底层的基底层布置步骤;
在所述基底层形成图案的图案形成步骤;
在所述基底层形成间隔壁的间隔壁形成步骤;以及
向所述基底层喷出液滴的液滴喷出步骤。
16.根据权利要求15所述的基板制造方法,其中,
所述图案构成为线状。
17.根据权利要求15所述的基板制造方法,其中,
所述图案的上下端面的形状是重复存在沟槽和凸起。
18.根据权利要求15所述的基板制造方法,其中,
喷出到所述像素区域的液滴沿着所述图案移动。
19.根据权利要求15所述的基板制造方法,其中,
喷出到所述像素区域的液滴均匀地涂布于所述像素区域。
20.根据权利要求15所述的基板制造方法,其中,
所述图案通过光刻、压印、喷墨打印、滚筒印压方法或者利用激光及化学物质的蚀刻而生成。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020018620A1 (en) * | 2000-06-16 | 2002-02-14 | Seiko Epson Corporation | Surface emitting device |
CN1662112A (zh) * | 2004-02-26 | 2005-08-31 | 精工爱普生株式会社 | 有机电致发光装置及其制造方法和电子机器 |
JP2006088091A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Seiko Epson Corp | 液状体の描画方法、液状体の描画装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の駆動方法及び電子機器 |
CN101989648A (zh) * | 2009-07-31 | 2011-03-23 | 卡西欧计算机株式会社 | 发光装置、显示装置以及发光装置的制造方法 |
CN103367391A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-10-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制作方法、显示基板及显示装置 |
CN107331681A (zh) * | 2017-06-21 | 2017-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板及其制作方法、显示器件 |
US20180314097A1 (en) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | Mitsubishi Electric Corporation | Liquid crystal display and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4059231B2 (ja) * | 2004-07-07 | 2008-03-12 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 |
JP4096933B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2008-06-04 | セイコーエプソン株式会社 | パターンの形成方法 |
JP4240018B2 (ja) * | 2005-02-04 | 2009-03-18 | セイコーエプソン株式会社 | 膜パターンの形成方法、デバイス及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 |
KR100647701B1 (ko) | 2005-09-15 | 2006-11-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를구비한 평판 디스플레이 장치 |
JP2007115464A (ja) | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Toppan Printing Co Ltd | 表示素子の製造方法 |
KR101042106B1 (ko) * | 2008-11-06 | 2011-06-16 | 서울대학교산학협력단 | 액적 충돌을 이용한 마이크로액체 패터닝 방법 |
KR20100065615A (ko) * | 2008-12-08 | 2010-06-17 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시장치, 이를 위한 표시판 및 그 제조 방법 |
KR101567186B1 (ko) * | 2014-01-06 | 2015-11-06 | 서울대학교산학협력단 | 마이크로 액체 패터닝 방법 및 장치 |
US10468247B2 (en) | 2016-12-12 | 2019-11-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography |
-
2019
- 2019-07-10 KR KR1020190083203A patent/KR102268603B1/ko active IP Right Grant
-
2020
- 2020-06-30 CN CN202010619526.3A patent/CN112213877A/zh active Pending
- 2020-07-08 US US16/924,088 patent/US11789305B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020018620A1 (en) * | 2000-06-16 | 2002-02-14 | Seiko Epson Corporation | Surface emitting device |
CN1662112A (zh) * | 2004-02-26 | 2005-08-31 | 精工爱普生株式会社 | 有机电致发光装置及其制造方法和电子机器 |
JP2006088091A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Seiko Epson Corp | 液状体の描画方法、液状体の描画装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の駆動方法及び電子機器 |
CN101989648A (zh) * | 2009-07-31 | 2011-03-23 | 卡西欧计算机株式会社 | 发光装置、显示装置以及发光装置的制造方法 |
CN103367391A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-10-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制作方法、显示基板及显示装置 |
US20180314097A1 (en) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | Mitsubishi Electric Corporation | Liquid crystal display and method for manufacturing the same |
CN107331681A (zh) * | 2017-06-21 | 2017-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板及其制作方法、显示器件 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11789305B2 (en) | 2023-10-17 |
KR102268603B1 (ko) | 2021-06-22 |
KR20210007204A (ko) | 2021-01-20 |
US20210011328A1 (en) | 2021-01-14 |
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