CN112165671A - 一种扬声器使用的振膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种扬声器使用的振膜及其制备方法，包括基材薄膜层以及附加层，所述附加层，所述附加层设置于基材薄膜层的单面或者双面；附加层为纳米金层或者玻璃层，其单面均匀致密沉积在基材薄膜层表面，或者双面均匀致密沉积在基材薄膜表面。本发明的黄金振膜和玻璃振膜可以根据音质的需要，调整纳米金层和玻璃层的面积和厚度，便于满足扬声器的性能需求。

Description

一种扬声器使用的振膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种振膜，具体涉及一种扬声器使用的振膜及其制备方法。
背景技术
振膜是扬声器的一个重要组成部件，振膜对扬声器的放声性能有着至关重要的作用，它决定了扬声器由力到声的转换质量。决定着扬声器的承受功率和重放音质的优劣。
现在市场上应用的扬声器的振膜材料主要有PEEK、PET、PEN、PEI、PU等，这些材料各有优缺点，有的质量大，有的刚性不够好，普遍高频延伸不够，高频延伸比较好的材质声音又比较尖锐和刺耳，而且高频延伸好的材质同样会损失相应的低频，在这样的情况下需要开发新型更优质的振膜材料以满足人们对更高音质的追求。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是一种扬声器使用的振膜及其制备方法，能够有效解决现有技术中的不足。
本发明是通过以下技术方案来实现的：一种扬声器使用的振膜，包括基材薄膜层以及附加层，所述附加层设置于基材薄膜层的单面或者双面。
作为优选的技术方案，所述附加层为纳米金层或者玻璃层，其单面均匀致密沉积在基材薄膜层表面，或者双面均匀致密沉积在基材薄膜表面。
作为优选的技术方案，纳米金层和玻璃层均匀致密沉积在整个基材薄膜振膜的表面，或者均匀致密沉积在基材薄膜振膜的局部。
作为优选的技术方案，纳米金层和玻璃层的厚度范围是0.001mm-0.3mm。
作为优选的技术方案，基材薄膜层的顶面和底面均匀致密沉积不同的镀层。
作为优选的技术方案，基材薄膜的顶面均匀致密沉积一种镀层，底面均匀致密沉积另一种镀层。
作为优选的技术方案，基材薄膜层的顶面和底面均匀致密沉积两种及以上的不同镀层，不局限于纳米金层或者玻璃层。
一种玻璃振膜与黄金振膜的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：利用真空磁控溅射工艺在高分子薄膜(即基材层)上沉积均匀致密的纳米金层或玻璃层。
作为优选的技术方案，具体方法为：
步骤一、将基材薄膜和纯金靶材或玻璃靶材安装在卷对卷磁控溅射设备中，关闭真空室，通过多级抽真空达至镀膜所需高真空；
步骤二、在高真空环境下，通过电磁场加速的高能粒子轰击金靶或玻璃靶表面，金靶或玻璃靶表面的原子或分子与这些高能粒子交换动能，由金靶或玻璃靶表面飞溅出来并带着高能量撞击性沉积在基材表面，在基材薄膜上形成均匀致密的黄金或玻璃层。
本发明的有益效果是：本发明的黄金振膜和玻璃振膜可以根据音质的需要，调整纳米金层和玻璃层的面积和厚度，便于满足扬声器的性能需求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例1一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜的剖面图；
图2是本发明实施例2一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜的剖面图；
图3是本发明实施例3一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜的剖面图；
图4是本发明实施例4一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜的剖面图。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“一端”、“另一端”、“外侧”、“上”、“内侧”、“水平”、“同轴”、“中央”、“端部”、“长度”、“外端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
本发明使用的例如“上”、“上方”、“下”、“下方”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如，如果将图中的设备翻转，则被描述为位于其他单元或特征“下方”或“之下”的单元将位于其他单元或特征“上方”。因此，示例性术语“下方”可以囊括上方和下方这两种方位。设备可以以其他方式被定向(旋转90度或其他朝向)，并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“套接”、“连接”、“贯穿”、“插接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明实施例1
一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜的结构如图1所示，包括基材薄膜层1和纳米金层2，纳米金层2单面均匀致密沉积在整个表面A基材薄膜层1的顶面。
本发明实施例2
一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜如图2所示，包括基材薄膜层1和纳米金层2，纳米金层2单面均匀致密沉积在部分表面A基材薄膜层1的顶面。
本发明实施例3
一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜的结构如图3所示，包括基材薄膜层1和纳米金层2，纳米金层2双面均匀致密沉积在整个表面A基材薄膜层1的顶面和底面。
本发明实施例4
一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜的结构如图4所示，包括基材薄膜层1、纳米金层2以及其他镀层3，纳米金层2均匀致密沉积在整个表面A基材薄膜层1的顶面，其他镀层3均匀致密沉积在整个表面A基材薄膜层1的底面。
一种扬声器使用的黄金振膜和玻璃振膜具有质量轻、刚性好、抗疲劳等明显特点，直接改善扬声器的频率响应。本发明的黄金振膜和玻璃振膜不仅可以提高扬声器的音质，还可以根据音质的需要，调整纳米金层和玻璃层的面积和厚度，便于满足扬声器多样化的需求。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种扬声器使用的振膜，其特征在于：包括基材薄膜层以及附加层，所述附加层设置于基材薄膜层的单面或者双面。
2.根据权利要求1所述的扬声器使用的振膜，其特征在于：所述附加层为纳米金层或者玻璃层，其单面均匀致密沉积在基材薄膜层表面，或者双面均匀致密沉积在基材薄膜表面。
3.根据权利要求2所述的扬声器使用的振膜，其特征在于：纳米金层和玻璃层均匀致密沉积在整个基材薄膜振膜的表面，或者均匀致密沉积在基材薄膜振膜的局部。
4.根据权利要求2所述的扬声器使用的振膜，其特征在于：纳米金层和玻璃层的厚度范围是0.001mm-0.3mm。
5.根据权利要求1所述的扬声器使用的振膜，其特征在于：基材薄膜层的顶面和底面均匀致密沉积不同的镀层。
6.根据权利要求5所述的扬声器使用的振膜，其特征在于：基材薄膜的顶面均匀致密沉积一种镀层，底面均匀致密沉积另一种镀层。
7.根据权利要求6所述的扬声器使用的振膜，其特征在于：基材薄膜层的顶面和底面均匀致密沉积两种及以上的不同镀层。
8.一种玻璃振膜与黄金振膜的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：利用真空磁控溅射工艺在高分子薄膜(即基材层)上沉积均匀致密的纳米金层或玻璃层。
9.根据权利要求8所述的玻璃振膜与黄金振膜的制备方法，其特征在于，具体方法为：
步骤一、将基材薄膜和纯金靶材或玻璃靶材安装在卷对卷磁控溅射设备中，关闭真空室，通过多级抽真空达至镀膜所需高真空；
步骤二、在高真空环境下，通过电磁场加速的高能粒子轰击金靶或玻璃靶表面，金靶或玻璃靶表面的原子或分子与这些高能粒子交换动能，由金靶或玻璃靶表面飞溅出来并带着高能量撞击性沉积在基材表面，在基材薄膜上形成均匀致密的黄金或玻璃层。
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CN115589562A (zh) * 2022-10-19 2023-01-10 深圳市三诺数字科技有限公司 一种复合扬声器振膜的制备方法及其相关设备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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