CN112148041A - 恒温温育装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种恒温温育装置。本发明提供的一种恒温温育装置，包括：装置架体、散热板、风扇、均温板、支撑腿、隔热板以及帕尔贴，均温板位于试剂卡放置槽正下方，直接对试剂卡进行温度控制，可以降低仪器的功率，减小不必要的损耗。使用半导体元件帕尔贴对均温板进行制冷和加热，均温板通过温度梯度将热量传递给试剂卡或者带走，当进行制冷时，帕尔贴反面的热量通过散热板进行散热，这时风扇开启，将散热板的热量带走，可实现良好的恒温效果。

Description

恒温温育装置

技术领域

本发明涉及自动化控制技术领域，具体涉及一种恒温温育装置。

背景技术

试剂卡在检测前需要恒温温育一定时间，在恒温不变的条件下，检测精度更高。目前市面上的试剂卡没有有效的直接温控装置，功耗较高。因此，有必要提出一种恒温温育装置，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是针对上述不足，提供一种恒温温育装置，解决目前市面上的试剂卡没有有效的直接温控装置，功耗较高的问题。

本发明提供一种恒温温育装置，包括：装置架体、散热板、风扇、均温板、支撑腿、隔热板以及帕尔贴；

所述装置架体的两端设置有风扇，所述装置架体上设置有依次平行排列的数个试剂卡放置槽，所述试剂卡放置槽用于放置试剂卡，所述散热板设置于所述装置架体底部，所述装置架体上在所述散热板上方区域设置有镂空部，所述均温板垂直设置于所述试剂卡放置槽底部且位于所述试剂卡下方，所述散热板与所述均温板之间对应每个试剂卡放置槽下方设置有帕尔贴，所述均温板的一侧设置有隔热板。

进一步地，所述风扇的数量为6个，所述装置架体的两端分别设置有两个风扇。

进一步地，所述风扇的轴线与所述散热板上表面平行。

进一步地，所述试剂卡放置槽的端部设置有U型凹陷部。

进一步地，所述散热板的上表面设置有散热鳍片。

进一步地，所述均温板下表面设置有数个凸起部，相邻两个凸起部之间构成帕尔贴容置槽，所述帕尔贴容置槽的位置位于所述试剂卡放置槽下方，所述帕尔贴设置于所述帕尔贴容置槽内。

本发明具有以下有益效果：本发明提供的一种恒温温育装置，包括：装置架体、散热板、风扇、均温板、支撑腿、隔热板以及帕尔贴，装置架体的两端设置有风扇，装置架体上设置有依次平行排列的数个试剂卡放置槽，试剂卡放置槽用于放置试剂卡，散热板设置于装置架体底部，装置架体上在散热板上方区域设置有镂空部，均温板垂直设置于试剂卡放置槽底部且位于试剂卡下方，散热板与均温板之间对应每个试剂卡放置槽下方设置有帕尔贴，均温板的一侧设置有隔热板，均温板位于试剂卡放置槽正下方，直接对试剂卡进行温度控制，可以降低仪器的功率，减小不必要的损耗。使用半导体元件帕尔贴对均温板进行制冷和加热，均温板通过温度梯度将热量传递给试剂卡或者带走，当进行制冷时，帕尔贴反面的热量通过散热板进行散热，这时风扇开启，将散热板的热量带走，可实现良好的恒温效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明提供的恒温温育装置的俯视示意图。

图2为本发明提供的恒温温育装置的立体示意图。

图3为本发明提供的恒温温育装置在试剂卡放置槽区域的截面示意图。

图示说明：1-装置架体；2-散热板；3-风扇；4-试剂卡放置槽；5-均温板；6-镂空部；7-支撑腿；8-隔热板；9-帕尔贴；21-散热鳍片；41-U型凹陷部；51-凸起部；52-帕尔贴容置槽；100-试剂卡。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

现在，将参照附图更详细地描述根据本申请的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员，在附图中，为了清楚起见，扩大了层和区域的厚度，并且使用相同的附图标记表示相同的器件，因而将省略对它们的描述。

请参阅图1至图3，本发明实施例提供一种恒温温育装置，包括：装置架体1、散热板2、风扇3、均温板5、支撑腿7、隔热板8以及帕尔贴9。

其中，装置架体1的两端设置有风扇3，风扇3的数量可以为6个，装置架体1的两端分别设置有两个风扇3，风扇3的轴线与散热板2上表面平行。装置架体1上设置有依次平行排列的数个试剂卡放置槽4，试剂卡放置槽4用于放置试剂卡100，试剂卡放置槽4的端部设置有U型凹陷部41，便于取放试剂卡100。

散热板2设置于装置架体1底部，散热板2的上表面设置有散热鳍片21，装置架体 1上在散热板2上方区域设置有镂空部6，均温板5垂直设置于试剂卡放置槽4底部且位于试剂卡100下方，散热板2与均温板5之间对应每个试剂卡放置槽4下方设置有帕尔贴9，均温板5的一侧设置有隔热板8。

具体地，均温板5下表面设置有数个凸起部51，相邻两个凸起部51之间构成帕尔贴容置槽52，帕尔贴容置槽52的位置位于试剂卡放置槽4下方，帕尔贴9设置于帕尔贴容置槽52内。

综上所述，本发明的恒温温育装置，均温板5位于试剂卡放置槽4正下方，直接对试剂卡100进行温度控制，可以降低仪器的功率，减小不必要的损耗。使用半导体元件帕尔贴9对均温板5进行制冷和加热，均温板5通过温度梯度将热量传递给试剂卡 100或者带走，当进行制冷时，帕尔贴9反面的热量通过散热板2进行散热，这时风扇3 开启，将散热板2的热量带走，可实现良好的恒温效果。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种恒温温育装置，其特征在于，包括：装置架体(1)、散热板(2)、风扇(3)、均温板(5)、支撑腿(7)、隔热板(8)以及帕尔贴(9)；

所述装置架体(1)的两端设置有风扇(3)，所述装置架体(1)上设置有依次平行排列的数个试剂卡放置槽(4)，所述试剂卡放置槽(4)用于放置试剂卡(100)，所述散热板(2)设置于所述装置架体(1)底部，所述装置架体(1)上在所述散热板(2)上方区域设置有镂空部(6)，所述均温板(5)垂直设置于所述试剂卡放置槽(4)底部且位于所述试剂卡(100)下方，所述散热板(2)与所述均温板(5)之间对应每个试剂卡放置槽(4)下方设置有帕尔贴(9)，所述均温板(5)的一侧设置有隔热板(8)。

2.根据权利要求1所述的恒温温育装置，其特征在于，所述风扇(3)的数量为6个，所述装置架体(1)的两端分别设置有两个风扇(3)。

3.根据权利要求2所述的恒温温育装置，其特征在于，所述风扇(3)的轴线与所述散热板(2)上表面平行。

4.根据权利要求1所述的恒温温育装置，其特征在于，所述试剂卡放置槽(4)的端部设置有U型凹陷部(41)。

5.根据权利要求1所述的恒温温育装置，其特征在于，所述散热板(2)的上表面设置有散热鳍片(21)。

6.根据权利要求1所述的恒温温育装置，其特征在于，所述均温板(5)下表面设置有数个凸起部(51)，相邻两个凸起部(51)之间构成帕尔贴容置槽(52)，所述帕尔贴容置槽(52)的位置位于所述试剂卡放置槽(4)下方，所述帕尔贴(9)设置于所述帕尔贴容置槽(52)内。

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