CN112095995A - 防滑磁砖的制造方法及其防滑磁砖 - Google Patents

防滑磁砖的制造方法及其防滑磁砖 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种防滑磁砖的制造方法，依次包括以下步骤：制备步骤，为制备磁砖本体，使该磁砖本体成为成品前的磁砖；涂布步骤，为将纳米蚀刻液涂布于该制备步骤所制备出的该磁砖本体的上表面，使该纳米蚀刻液与该磁砖本体的上表面进行蚀刻反应，在该磁砖本体的上表面产生数个纳米等级微孔，使该磁砖本体的上表面形成防滑层；以及干燥步骤，为对于在涂布步骤中经涂布该纳米蚀刻液的该磁砖本体进行干燥处理，得到防滑磁砖。

Description

防滑磁砖的制造方法及其防滑磁砖
技术领域
本发明涉及一种磁砖，特别是指一种防滑磁砖的制造方法及其防滑磁砖。
背景技术
磁砖对于建筑物具有诸多功用，其不仅能够美化与装饰建筑物，也能因其具有不易变色与不易沾污等特性而达到帮助节省建筑物维护费用的益处。然而，在追求环境的美观与精致的同时，磁砖对于人们的行进安全也是选择建材时至关重要的考虑因素。
台湾因地处亚热带地区，气候长年潮湿，该地区的人民因地板湿滑而不慎滑倒的意外层出不穷，此外，现有技术中，利用磁砖的粗糙表面以达到防滑效果的技术除了造成磁砖容易藏污纳垢、清洁不易以外，其不能长期维持防滑效果也是市面上的磁砖亟待改善的地方。
发明内容
因此，本发明的一目的即是提供一种防滑磁砖的制造方法及其防滑磁砖，以改善防滑磁砖的防滑效果。
本发明为解决现有技术的问题所采用的技术手段为提供一种防滑磁砖的制造方法，依次包含下列步骤：制备步骤，为制备磁砖本体，使该磁砖本体成为成品前的磁砖；涂布步骤，为将纳米蚀刻液涂布于该制备步骤所制备出的该磁砖本体的上表面，使该纳米蚀刻液与该磁砖本体的上表面进行蚀刻反应，在该磁砖本体的上表面产生数个纳米等级微孔，使该磁砖本体的上表面形成防滑层；以及干燥步骤，为对于在涂布步骤中经涂布该纳米蚀刻液的该磁砖本体进行干燥处理，而得到防滑磁砖。
根据本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该纳米蚀刻液包括：体积百分浓度为0.5～1％的草酸；体积百分浓度为95～98％的水；以及体积百分浓度为1.5～4.5％的表面活性剂。
根据本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该涂布步骤中，以滚轮涂布方式将纳米蚀刻液均匀涂布于该磁砖本体的上表面。
根据本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该干燥步骤中，该干燥处理为将该磁砖本体静置自然风干的自然风干处理。
根据本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该制备步骤中，该磁砖本体为釉面磁砖，该制备步骤依次包括成型子步骤、干燥子步骤、施釉子步骤、印刷子步骤、烧成子步骤及选别子步骤。
根据本发明的实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该制备步骤中，该磁砖本体为一抛光砖，该制备步骤依次包括成型子步骤、烘干子步骤、喷水子步骤、印刷子步骤、烧成子步骤、粗削边子步骤、粗抛光子步骤、精抛光子步骤、精削边子步骤及烘干子步骤。
根据本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该制备步骤中，该磁砖本体为釉抛砖，该制备步骤依次包括成型子步骤、烘干子步骤、喷水子步骤、印刷子步骤、施釉子步骤、烧结子步骤及抛光子步骤。
根据本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该涂布步骤中，该数个纳米等级微孔为圆孔。
根据本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法，其中该涂布步骤中，将纳米蚀刻液涂布于该磁砖本体的上表面为将纳米蚀刻液涂布于该磁砖本体的整个上表面。
本发明同时提供了一种防滑磁砖，为根据上述的防滑磁砖的制造方法而得到的防滑磁砖。
通过本发明所采用的技术手段，能够使该防滑磁砖因其上表面的防滑层具有数个纳米等级微孔，使其在潮湿情况下，人们接触该数个纳米等级微孔得以产生类似吸盘原理的作用力，进而提升潮湿条件下的摩擦系数而达到防滑效果。此外，该防滑磁砖通过纳米蚀刻液的蚀刻作用使该防滑磁砖的结构改变，因此能够长期维持其防滑效果，该防滑磁砖易于清洁且其所呈现的色泽也不易改变。
本发明所采用的具体实施例，将通过以下的实施例及附呈图式作进一步的说明。
附图说明
图1为本发明的一实施例的防滑磁砖的制造方法的流程图。
图2a为一磁砖本体的立体示意图。
图2b为磁砖本体的俯视示意图。
图3a为依据本发明的一实施例的防滑磁砖的立体示意图。
图3b为依据本发明的实施例的防滑磁砖的俯视示意图。
附图标记
100 防滑磁砖
1 磁砖本体
11 防滑层
12 纳米等级微孔
S1 制备步骤
S2 涂布步骤
S3 干燥步骤
具体实施方式
以下根据图1至图3b，说明本发明的实施方式。该说明并非为限制本发明的实施方式，而为本发明的实施例的一种。
如图1所示，依据本发明的一实施例的一种防滑磁砖的制造方法包含以下步骤：制备步骤S1、涂布步骤S2以及干燥步骤S3。
该制备步骤S1：为制备磁砖本体1，使该磁砖本体1成为成品前的磁砖。当该磁砖本体1为釉面磁砖时，该制备步骤依次包括成型子步骤、干燥子步骤、施釉子步骤、印刷子步骤、烧成子步骤及选别子步骤。其中，该成型子步骤为依据所要生产的磁砖种类，以计算机控制，将储存塔内粉状原料依配比精准送入高压成型机，利用高压将原料粉成型为高密度素坯(生坯)；该干燥子步骤为以温度与速度控制素坯(生坯)的干燥；该施釉子步骤为将成型后的素坯(生坯)根据平板、滚筒、干粉或数字喷墨中的一种方式进行施釉；该印刷子步骤为将已施釉的素坯(生坯)表面印上纹路或图案；该烧成子步骤为将施釉后素坯(生坯)砖依次送入计算机控制的快速窑高温烧结；该选别子步骤为根据磁砖成品的花色质量加以选别分类。
当该磁砖本体1为抛光砖时，该制备步骤依次包括成型子步骤、烘干子步骤、喷水子步骤、印刷子步骤、烧成子步骤、粗削边子步骤、粗抛光子步骤、精抛光子步骤、精削边子步骤及烘干子步骤。其中，该成型子步骤为依据所要生产的磁砖种类，以计算机控制，将储存塔内粉状原料依配比精准送入高压成型机，利用高压将原料粉成型为高密度素坯(生坯)；该烘干子步骤为控制温度与速度使素坯(生坯)干燥；该喷水子步骤为针对素坯(生坯)去除其表面杂质；该印刷子步骤为将素坯(生坯)表面印上纹路或图案；该烧成子步骤为将素坯砖依次送入计算机控制的快速窑高温烧结；该粗削边子步骤为将素坯(生坯)通过计算机初步修边；该粗抛光子步骤为先进行粗磨、细磨，将砖面抛平并统一磁砖厚度，再经过粗抛程序抛光；该精抛光子步骤为先进行粗磨、细磨，将砖面抛平并统一磁砖厚度，再经过细抛程序抛光；该精削边子步骤为经过计算机精确修边，确保磁砖尺寸整齐画一，方便施作；该烘干子步骤的作用为磁砖在抛光过后会有水分附着在磁砖表面，因此须将其表面水分完全烘干。
当该磁砖本体1为釉抛砖时，该制备步骤依次包括成型子步骤、烘干子步骤、喷水子步骤、印刷子步骤、施釉子步骤、烧结子步骤及抛光子步骤。其中，该成型子步骤为依据所要生产的磁砖种类，以计算机控制，将储存塔内粉状原料依配比精准送入高压成型机，利用高压将原料粉成型为高密度素坯(生坯)；该烘干子步骤为控制温度与速度使素坯(生坯)干燥；该喷水子步骤为针对素坯(生坯)去除其表面杂质；该印刷子步骤为将素坯(生坯)表面印上纹路或图案；该施釉子步骤为将成型后的素坯(生坯)依平板、滚筒、干粉或数字喷墨中的一种方式进行施釉；该烧结子步骤为将施釉后素坯(生坯)砖，依次送入计算机控制的快速窑高温烧结；该抛光子步骤为先进行粗磨、细磨，将砖面抛平并统一磁砖厚度，再经过粗抛、细抛两道程序抛光。
依据上述制备步骤所制备出的磁砖本体1为尚未经由纳米蚀刻液与该磁砖上表面进行蚀刻作用的磁砖本体1，也就是说，该磁砖本体1为成为防滑磁砖100成品前的磁砖。
该涂布步骤S2：为将纳米蚀刻液涂布于制备步骤所制备出的磁砖本体1的上表面，使纳米蚀刻液与磁砖本体1的上表面进行蚀刻反应，而在磁砖本体1的上表面产生数个纳米等级微孔12，使磁砖本体1的上表面形成防滑层11。
较佳地，在本实施例中的涂布步骤为将纳米蚀刻液以滚轮涂布的方式涂布于该制备步骤所制备出的该磁砖本体1的整个上表面，使该纳米蚀刻液与该磁砖本体1的整个上表面进行蚀刻反应产生数个纳米等级微孔12，使该磁砖本体1的整个上表面形成防滑层11。当然，本发明有关于涂布纳米蚀刻液于该磁砖本体1的方式并不以此为限，该涂布方式也可为使用喷枪喷洒进行涂布，或是使用旋转涂布机进行涂布；该磁砖本体1与纳米蚀刻液进行蚀刻反应的地方也不仅限于其整个上表面，其也可为部分表面。
依据上述涂布步骤S2所述的纳米蚀刻液，该纳米蚀刻液包括：
体积百分浓度为0.5～1％的草酸、体积百分浓度为95～98％的水以及体积百分浓度为1.5～4.5％的表面活性剂。
该干燥步骤S3：为对于在涂布步骤中经涂布纳米蚀刻液的磁砖本体1进行干燥处理，而得到防滑磁砖100。
较佳地，在本实施例中的干燥步骤为对于在涂布步骤中经涂布该纳米蚀刻液的该磁砖本体1进行干燥处理，该干燥处理为将该磁砖本体1静置自然风干，而得到防滑磁砖100。当然，本发明有关于干燥步骤中的干燥处理方式并不以此为限，该干燥方式也可为烘干、烤干。
如图1至图3b所示，依据本发明的一实施例的一种防滑磁砖为以上述的防滑磁砖的制造方法制造得到的防滑磁砖，该防滑磁砖100包含磁砖本体1，该磁砖本体1为成为成品前的磁砖；以及防滑层11，形成在该磁砖本体1的上表面，防滑层11具有数个纳米等级微孔12，该数个纳米等级微孔12为将纳米蚀刻液以滚轮涂布的方式涂布于该磁砖本体1的上表面而使该纳米蚀刻液与该磁砖本体1的上表面进行反应所产生的蚀刻反应生成的微孔，且该数个纳米等级微孔12的孔径大小取决于纳米蚀刻液的浓度且必须与磁砖本体1表层的材质做搭配。
较佳地，在本实施例中，该磁砖本体1的上表面与纳米蚀刻液进行蚀刻作用历时约30秒的作用时间而形成防滑层11，防滑层11具有数个纳米等级微孔12，该数个纳米等级微孔12为圆孔。当然，本发明有关于该数个纳米等级微孔12并不以圆孔为限，该数个纳米等级微孔也可为不规则形状的孔洞。
通过上述方式所得到的该防滑磁砖100，因其上表面的防滑层11具有数个纳米等级微孔12，使其在潮湿情况下，人们接触该数个纳米等级微孔12得以产生类似吸盘原理的作用力，进而提升潮湿条件下的摩擦系数而达到防滑效果。此外该防滑磁砖100通过纳米蚀刻液的蚀刻作用使该防滑磁砖100的结构改变，因此能够长期维持其防滑效果，该防滑磁砖100易于清洁且其所呈现的色泽也不易改变。
以上的叙述以及说明仅为本发明的较佳实施例的说明，本领域技术人员当可依据以下所界定的保护范围以及上述的说明而作其他的修改，同时，这些修改仍应是为本发明的发明精神而在本发明的保护范围中。

Claims (10)

1.一种防滑磁砖的制造方法，其特征在于，依次包括以下步骤：
制备步骤，为制备磁砖本体，使所述的磁砖本体成为成品前的磁砖；
涂布步骤，为将纳米蚀刻液涂布于所述的制备步骤所制备出的所述的磁砖本体的上表面，使所述的纳米蚀刻液与所述的磁砖本体的上表面进行蚀刻反应，在所述的磁砖本体的上表面产生数个纳米等级微孔，使所述的磁砖本体的上表面形成防滑层；以及
干燥步骤，为对于在涂布步骤中经涂布所述的纳米蚀刻液的所述的磁砖本体进行干燥处理，而得到防滑磁砖。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的涂布步骤中，所述的纳米蚀刻液包括：
体积百分浓度为0.5～1％的草酸；
体积百分浓度为95～98％的水；以及
体积百分浓度为1.5～4.5％的表面活性剂。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的涂布步骤中，以滚轮涂布方式将所述的纳米蚀刻液均匀涂布于所述的磁砖本体的上表面。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的干燥步骤中，所述的干燥处理为将所述的磁砖本体静置自然风干的自然风干处理。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的制备步骤中，所述的磁砖本体为釉面磁砖，所述的制备步骤依次包括成型子步骤、干燥子步骤、施釉子步骤、印刷子步骤、烧成子步骤及选别子步骤。
6.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的制备步骤中，所述的磁砖本体为抛光砖，所述的制备步骤依次包括成型子步骤、烘干子步骤、喷水子步骤、印刷子步骤、烧成子步骤、粗削边子步骤、粗抛光子步骤、精抛光子步骤、精削边子步骤及烘干子步骤。
7.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的制备步骤中，所述的磁砖本体为釉抛砖，所述的制备步骤依次包括成型子步骤、烘干子步骤、喷水子步骤、印刷子步骤、施釉子步骤、烧结子步骤及抛光子步骤。
8.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的涂布步骤中，所述的数个纳米等级微孔为圆孔。
9.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述的涂布步骤中，将所述的纳米蚀刻液涂布于所述的磁砖本体的上表面为将所述的纳米蚀刻液涂布于所述的磁砖本体的整个上表面。
10.一种防滑磁砖，其特征在于，所述的防滑磁砖为根据权利要求1至10中任一项所述的制造方法而得到的防滑磁砖。
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