CN112023865A - 一种半导体石墨反应釜 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种半导体石墨反应釜，包括石墨反应釜体，所述石墨反应釜体外侧的底部位置处设置有出料管，所述出料管顶部的中间位置处设置有出料阀门，且出料阀门的输出端延伸至出料管的内部，所述出料管的内侧均匀设置有弧形挡板，所述石墨反应釜体顶部的一侧设置有进料口，所述进料口的顶部位置处设置有仓盖，所述进料口的内侧设置有滑槽，且滑槽延伸至进料口的内壁；本发明装置通过增加活塞和滑动杆，在反应釜产生气体时，气压推动活塞，从而使得气体能够从出气口排出，维持内部压强平衡；通过设置螺旋搅拌叶，且在搅拌叶外侧增加挡板，使得搅拌叶在搅拌时，能够减缓反应物的离心作用，减少对反应釜内壁的撞击。

Description

一种半导体石墨反应釜
技术领域
本发明涉及反应釜设备技术领域，具体为一种半导体石墨反应釜。
背景技术
化工生产中，很多行业都使用防腐反应釜，现市场中使用最多的防腐反应釜有搪瓷反应釜、塑料反应釜及不锈钢反应釜等，石墨的导热系数比其他几种材料都大很多，导热效果较好，在现有的反应釜中经常被用于各种化工反应。
现有现有石墨反应釜多种多样，但是仍存在较为明显的问题：1、常规的反应釜内的化学物质在反应过程中，经常产生二氧化碳、二氧化硫等气体，产生的气体无法排出，使得反应釜内的压强增大，对反应釜产生较大的压力；2、反应物质在反应过程中，需要进行搅拌使其搅拌均匀，搅拌过程产生的离心力，容易使得反应物甩向反应釜内壁，产生撞击，存在破坏反应釜内壁的可能性；3、在放料过程中，反应物因受重力作用在放料时产生较大的冲击力，容易出现喷溅的现象。
发明内容
本发明的目的在于提供一种半导体石墨反应釜，以解决上述背景技术中提出现有现有石墨反应釜多种多样，但是仍存在较为明显的问题：常规的反应釜内的化学物质在反应过程中，经常产生二氧化碳、二氧化硫等气体，产生的气体无法排出，使得反应釜内的压强增大，对反应釜产生较大的压力；反应物质在反应过程中，需要进行搅拌使其搅拌均匀，搅拌过程产生的离心力，容易使得反应物甩向反应釜内壁，产生撞击，存在破坏反应釜内壁的可能性；在放料过程中，反应物因受重力作用在放料时产生较大的冲击力，容易出现喷溅的现象的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体石墨反应釜，包括石墨反应釜体，所述石墨反应釜体外侧的底部位置处设置有出料管，所述出料管顶部的中间位置处设置有出料阀门，且出料阀门的输出端延伸至出料管的内部，所述出料管的内侧均匀设置有弧形挡板，所述石墨反应釜体顶部的一侧设置有进料口，所述进料口的顶部位置处设置有仓盖，所述进料口的内侧设置有滑槽，且滑槽延伸至进料口的内壁，所述滑槽的外侧设置有出气口，所述滑槽的底部位置处设置有弹簧，所述弹簧远离滑槽的一端设置有T型滑杆，所述T型滑杆远离弹簧的一端设置有活塞，所述石墨反应釜体顶部的中间位置处设置有电机底座，所述电机底座的顶部设置有驱动电机，所述驱动电机的输出端设置有传动杆，所述传动杆的外侧设置有螺旋搅拌叶，所述石墨反应釜体外侧的顶端位置处设置有控制面板，所述控制面板通过导线与驱动电机电连接。
优选的，所述石墨反应釜体外侧的中间位置处设置有观察窗。
优选的，所述石墨反应釜体外侧远离出料管一侧的中间位置处设置有温度计。
优选的，所述石墨反应釜体内侧顶部的中间位置处和底部的中间位置处均设置有轴承座。
优选的，所述石墨反应釜体的底部均匀设置有支撑座。
优选的，所述驱动电机与电机底座之间设置有减震片。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该半导体石墨反应釜通过增加安全气阀的排气装置，使得反应釜内部的压强维持一定的平衡，使得反应釜更加安全；
1、通过增加活塞和滑动杆，在反应釜产生气体时，气压推动活塞，从而使得气体能够从出气口排出，维持内部压强平衡；
2、通过设置螺旋搅拌叶，且在搅拌叶外侧增加挡板，使得搅拌叶在搅拌时，能够减缓反应物的离心作用，减少对反应釜内壁的撞击；
3、通过在出料管内壁增加的弧形挡板，使得反应物在出料的过程中，受到挡板的阻力，减缓出料的冲击力，防止喷溅现象的发生。
附图说明
图1为本发明的主视图；
图2为本发明的主视剖视图；
图3为本发明的俯视剖视图；
图4为本发明的图2的B-B处剖视图；
图5为本发明的图2的A处结构放大示意图。
图中：1、石墨反应釜体；2、观察窗；3、出料阀门；4、出料管；5、进料口；6、仓盖；7、驱动电机；8、电机底座；9、控制面板；10、温度计；11、传动杆；12、螺旋搅拌叶；13、弧形挡板；14、滑槽；15、活塞；16、出气口；17、T型滑杆；18、弹簧。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-5，本发明提供的实施例：一种半导体石墨反应釜，包括石墨反应釜体1，石墨反应釜体1外侧的底部位置处设置有出料管4，出料管4顶部的中间位置处设置有出料阀门3，且出料阀门3的输出端延伸至出料管4的内部，出料管4的内侧均匀设置有弧形挡板13，石墨反应釜体1顶部的一侧设置有进料口5，进料口5的顶部位置处设置有仓盖6，进料口5的内侧设置有滑槽14，且滑槽14延伸至进料口5的内壁，滑槽14的外侧设置有出气口16，滑槽14的底部位置处设置有弹簧18，弹簧18远离滑槽14的一端设置有T型滑杆17，T型滑杆17远离弹簧18的一端设置有活塞15，石墨反应釜体1顶部的中间位置处设置有电机底座8，电机底座8的顶部设置有驱动电机7，驱动电机7的输出端设置有传动杆11，传动杆11的外侧设置有螺旋搅拌叶12，石墨反应釜体1外侧的顶端位置处设置有控制面板9，控制面板9通过导线与驱动电机7电连接。
装置中的控制面板9和驱动电机7为现有技术，其组成结构和连接方式与现有装置完全相同。
进一步的，石墨反应釜体1外侧的中间位置处设置有观察窗2，便于观察反应过程和进度。
进一步的，石墨反应釜体1外侧远离出料管4一侧的中间位置处设置有温度计10，能够有效了解反应釜内部温度，进行控制和防范。
进一步的，石墨反应釜体1内侧顶部的中间位置处和底部的中间位置处均设置有轴承座，能够对传动杆起到支撑作用，并稳定支撑杆的位置。
进一步的，石墨反应釜体1的底部均匀设置有支撑座，能够加强反应釜结构的稳定性，稳定支撑。
进一步的，驱动电机7与电机底座8之间设置有减震片，减少驱动电机运动过程中产生的震动，对结构起到保护和稳定的作用。
工作原理：该装置在工作时，接通电源打开控制面板9 当驱动电机7转动时带动传动杆11从而带动螺旋搅拌叶12对反应釜内的反应物进行搅拌，在反应过程中，反应物产生大量气体，产生的气体推动滑槽14从而推动T型滑杆17带动弹簧18收缩，当滑槽14处于出气口16的下方时，气体从出气口16排出到反应釜外，当内部气体压强减少时，由弹簧18反作用于T型滑杆17从而带动滑槽14将出气口16进行关闭，维持反应釜内部压强的平衡，当完成反应时，打开出料阀门3，反应物流出时受到弧形挡板13的阻力，减缓出料的冲击力，从而起到缓冲的作用，防止反应物喷溅现象发生。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

Claims (6)

1.一种半导体石墨反应釜，包括石墨反应釜体（1），其特征在于：所述石墨反应釜体（1）外侧的底部位置处设置有出料管（4），所述出料管（4）顶部的中间位置处设置有出料阀门（3），且出料阀门（3）的输出端延伸至出料管（4）的内部，所述出料管（4）的内侧均匀设置有弧形挡板（13），所述石墨反应釜体（1）顶部的一侧设置有进料口（5），所述进料口（5）的顶部位置处设置有仓盖（6），所述进料口（5）的内侧设置有滑槽（14），且滑槽（14）延伸至进料口（5）的内壁，所述滑槽（14）的外侧设置有出气口（16），所述滑槽（14）的底部位置处设置有弹簧（18），所述弹簧（18）远离滑槽（14）的一端设置有T型滑杆（17），所述T型滑杆（17）远离弹簧（18）的一端设置有活塞（15），所述石墨反应釜体（1）顶部的中间位置处设置有电机底座（8），所述电机底座（8）的顶部设置有驱动电机（7），所述驱动电机（7）的输出端设置有传动杆（11），所述传动杆（11）的外侧设置有螺旋搅拌叶（12），所述石墨反应釜体（1）外侧的顶端位置处设置有控制面板（9），所述控制面板（9）通过导线与驱动电机（7）电连接。
2.根据权利要求1所述的一种半导体石墨反应釜，其特征在于：所述石墨反应釜体（1）外侧的中间位置处设置有观察窗（2）。
3.根据权利要求1所述的一种半导体石墨反应釜，其特征在于：所述石墨反应釜体（1）外侧远离出料管（4）一侧的中间位置处设置有温度计（10）。
4.根据权利要求1所述的一种半导体石墨反应釜，其特征在于：所述石墨反应釜体（1）内侧顶部的中间位置处和底部的中间位置处均设置有轴承座。
5.根据权利要求1所述的一种半导体石墨反应釜，其特征在于：所述石墨反应釜体（1）的底部均匀设置有支撑座。
6.根据权利要求1所述的一种半导体石墨反应釜，其特征在于：所述驱动电机（7）与电机底座（8）之间设置有减震片。
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