CN112018271B - 显示面板的制作方法及显示面板 - Google Patents

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CN112018271B CN202010818442.2A CN202010818442A CN112018271B CN 112018271 B CN112018271 B CN 112018271B CN 202010818442 A CN202010818442 A CN 202010818442A CN 112018271 B CN112018271 B CN 112018271B
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Abstract

在本申请公开的显示面板的制作方法及显示面板中，制作方法包括提供一基板；在基板上设有阳极层；在基板上设有像素定义层；在阳极层远离基板的一面设有发光功能层；若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层等。通过在显示面板存在亮点不良的现象时，改变位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素的发光功能层的膜层结构，从而使位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素无法发光，达到使这些异常亮点可以转换为暗点的效果，进而达到提高显示面板生产良率的目的。

Description

显示面板的制作方法及显示面板
技术领域
本申请涉及显示领域，尤其涉及一种显示面板的制作方法及显示面板。
背景技术
目前，有机发光二极管是一种利用多层有机薄膜结构产生电致发光的器件，它很容易制作，而且只需要低的驱动电压，这些主要的特征使得有机发光二极管在满足平面显示器的应用上显得非常突出。有机发光二极管显示屏比液晶显示屏更轻薄、亮度高、功耗低、响应快、清晰度高、柔性好、发光效率高，能满足消费者对显示技术的新需求。全球越来越多的显示器厂家纷纷投入研发，大大的推动了有机发光二极管的产业化进程。
但是，但是有机发光二极管显示面板在生产过程中，极易出现亮点不良，表现为暗态画面下一个或多个像素呈现亮态，无法关断，该不良严重影响了有机发光二极管显示面板的生产良率。
因此，怎样解决有机发光二极管显示面板在生产过程中出现的亮点不良的技术问题是全世界面板厂家正在努力攻克的难关。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板的制作方法及显示面板，可以解决有机发光二极管显示面板在生产过程中出现的亮点不良的技术问题。
本申请实施例提供一种显示面板的制作方法，制作方法包括：
提供一基板；
在所述基板上设有阳极层；
在所述基板上设有像素定义层，所述像素定义层具有间隔，且所述阳极层位于所述间隔内；
在所述阳极层远离所述基板的一面设有发光功能层；
若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述在所述基板上设有阳极层的步骤之后，还包括：
对基板和阳极层进行检测，确定所述基板和/或阳极层是否存在缺陷；
若所述基板和/或阳极层存在缺陷，确定所述基板和/或阳极层存在缺陷的位置对应的缺陷区域。
在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述对基板和阳极层进行检测，确定所述基板和/或阳极层进行是否存在缺陷的具体步骤，包括：
获取所述基板和阳极层的显微照片；
基于所述基板和阳极层的显微照片判断所述基板和/或阳极层中是否存在线路断线现象或细微颗粒；
若所述基板和/或阳极层中存在线路断线现象或细微颗粒，则所述基板和/或阳极层存在缺陷。
在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层的具体步骤，包括：
在所述缺陷区域对应的阳极层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；
在所述空穴传输层上注入发光层材料，以形成发光层。
在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层的具体步骤，包括：
在所述缺陷区域对应的阳极层上注入发光层材料，以形成发光层；
在所述发光层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层。
在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层的具体步骤，包括：
在所述缺陷区域对应的阳极层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；
在所述空穴传输层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层。
在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层的具体步骤，包括：
在所述缺陷区域对应的阳极层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；
在所述空穴传输层上注入绝缘层材料，以形成绝缘层；
在所述绝缘层上注入发光层材料，以形成发光层；
在所述发光层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层。
在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述在所述阳极层远离所述基板的一面设有发光功能层的步骤之后，还包括：
在所述发光功能层远离所述基板的一面设有阴极层，且所述阴极层还位于所述像素定义层远离所述基板的一面。
本申请还提供一种显示面板，包括：
基板；
阳极层，所述阳极层设置在所述基板上；
像素定义层，所述像素定义层设置在所述基板上，且所述像素定义层具有间隔，所述阳极层位于所述间隔内；
发光功能层，所述发光功能层设置在所述阳极层远离所述基板的一面上；
若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
在本申请实施例所提供的显示面板中，所述显示面板还包括阴极层，所述阴极层设置在所述发光功能层远离所述基板的一面，且所述阴极层还位于所述像素定义层远离所述基板的一面。
在本申请实施例提供的显示面板的制作方法及显示显示面板中，当显示面板在生产过程中存在亮点不良的现象时，改变位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素的发光功能层的膜层结构，使位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素无法发光，从而使这些异常亮点可以转换为暗点，达到提高显示面板生产良率的目的。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第一流程示意图。
图2为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第一子流程示意图。
图3为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第二子流程示意图。
图4为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第三子流程示意图。
图5为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第四子流程示意图。
图6为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第二流程示意图。
图7为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第五子流程示意图。
图8为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第三流程示意图。
图9为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。
图10为本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。
本申请提供一种显示面板，图1为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第一流程示意图，如图1所示，本申请实施例提供的显示面板的制作方法包括以下步骤：
101、提供一基板。
102、在所述基板上设有阳极层。
103、在所述基板上设有像素定义层，所述像素定义层具有间隔，且所述阳极层位于所述间隔内。
其中，可以理解的，在一种实施方式中，像素定义层具有间隔，且阳极层位于间隔中，另外，像素定义层的厚度大于阳极层的厚度。
104、在所述阳极层远离所述基板的一面设有发光功能层。
其中，在一种实施方式中，像素定义层具有间隔，且发光功能层位于间隔中，像素定义层的厚度大于等于阳极层与发光功能层的厚度之和。
105、若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
其中，可以理解的，缺陷区域对应的像素一直呈现亮态，无法关断，因此会使显示面板出现亮点，从而影响到显示面板的良率。而改变缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，可以使得缺陷区域对应的发光功能层无法发光，那样缺陷区域对应的像素就会呈现暗态，显示面板不会出现亮点，从而提高了显示面板的良率。
具体地，请参阅图1、图2，图2为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第一子流程示意图。结合图1、图2所示，步骤105具体包括：
1051a、若基板和/或阳极层存在缺陷区域，在所述缺陷区域对应的阳极层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；
1052a、在所述空穴传输层上注入发光层材料，以形成发光层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
其中，可以理解的，缺陷区域对应的发光功能层以及其他区域对应的发光功能层是一起形成的；而不是在形成其他区域对应的发光功能层之后，再形成缺陷区域对应的发光功能层。因此，缺陷区域对应的发光功能层和其他区域对应的发光功能层的构成膜层相同，但构成膜层分布的位置不同这一设置是不可能达到的。因此，只能够通过改变缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，来使缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
其中，可以理解的，在形成发光功能层时；首先在阳极层上注入空穴传输层材料，形成空穴传输层；接着在空穴传输层上注入发光材料，形成发光层；最后在发光层上注入电子传输层材料，形成电子传输层，完成发光功能层的制作，其中，未在缺陷区域的对应的发光层上注入电子传输层材料，而在其他区域对应的发光层上注入了电子传输层材料，从而使得缺陷区域对应的发光功能层与其他区域对应的发光功能层相比，缺少了电子传输层。
其中，可以理解的，此时，缺陷区域对应的发光功能层由发光层以及空穴传输层构成；与其他区域对应的发光功能层相比，缺少了电子传输层；因此在缺陷区域对应的发光功能层中，因缺少电子传输层，发光电子无法传输，发光电子和空穴的传输通道被截断；因此空穴无法和发光电子复合发光，从而导致缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
具体地，请参阅图1、图3，图3为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第二子流程示意图。结合图1、图3所示，步骤105具体包括：
1051b、若基板和/或阳极层存在缺陷区域，在所述缺陷区域对应的阳极层上注入发光层材料，以形成发光层；
1052b、在所述发光层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
其中，可以理解的，缺陷区域对应的发光功能层以及其他区域对应的发光功能层是一起形成的；而不是在形成其他区域对应的发光功能层之后，再形成缺陷区域对应的发光功能层。因此，缺陷区域对应的发光功能层和其他区域对应的发光功能层的构成膜层相同，但构成膜层分布的位置不同这一设置是不可能达到的。因此，只能够通过改变缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，来使缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
其中，可以理解的，在形成发光功能层时，首先在阳极层上注入空穴传输层材料，形成空穴传输层，其中，未在缺陷区域的对应的阳极层上注入空穴传输层材料，而在其他区域对应的阳极层上注入了空穴传输层材料，从而使得缺陷区域对应的发光功能层与其他区域对应的发光功能层相比，缺少了空穴传输层；接着注入发光材料，形成发光层；最后注入电子传输层材料，形成电子传输层，完成发光功能层的制作。
其中，可以理解的，此时，缺陷区域对应的发光功能层由发光层以及电子传输层构成；与其他区域对应的发光功能层相比，缺少了空穴传输层；因此在缺陷区域对应的发光功能层中，因缺少空穴传输层，空穴无法传输，发光电子和空穴的传输通道被截断；因此空穴无法和电子复合发光，从而导致缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
具体地，请参阅图1、图4，图4为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第三子流程示意图。结合图1、图4所示，步骤105具体包括：
1051c、若基板和/或阳极层存在缺陷区域，在所述缺陷区域对应的阳极层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；
1052c、在所述空穴传输层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
其中，可以理解的，缺陷区域对应的发光功能层以及其他区域对应的发光功能层是一起形成的；而不是在形成其他区域对应的发光功能层之后，再形成缺陷区域对应的发光功能层。因此，缺陷区域对应的发光功能层和其他区域对应的发光功能层的构成膜层相同，但构成膜层分布的位置不同这一设置是不可能达到的。因此，只能够通过改变缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，来使缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
其中，可以理解的，在形成发光功能层时，首先在阳极层上注入空穴传输层材料，形成空穴传输层；接着在空穴传输层上注入发光材料，形成发光层，其中，未在缺陷区域的对应的空穴传输层上注入发光层材料，而在其他区域对应的空穴传输层上注入了发光层材料，从而使得缺陷区域对应的发光功能层与其他区域对应的发光功能层相比，缺少了发光层；最后注入电子传输层材料，形成电子传输层，完成发光功能层的制作。
其中，可以理解的，此时，缺陷区域对应的发光功能层由空穴传输层以及电子传输层构成；与其他区域对应的发光功能层相比，缺少了发光层；因此在缺陷区域对应的发光功能层中，因缺少发光层，虽然发光电子和空穴的传输通道没有被截断；但是由于没有发光层的存在，缺陷区域对应的发光功能层无法被点亮，从而导致缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
具体地，请参阅图1、图5，图5为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第四子流程示意图。结合图1、图5所示，步骤105具体包括：
1051d、若基板和/或阳极层存在缺陷区域，在所述缺陷区域对应的阳极层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；
1052d、在所述空穴传输层上注入绝缘层材料，以形成绝缘层。
1053d、在所述绝缘层上注入发光层材料，以形成发光层。
1054d、在所述发光层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
其中，可以理解的，缺陷区域对应的发光功能层以及其他区域对应的发光功能层是一起形成的；而不是在形成其他区域对应的发光功能层之后，再形成缺陷区域对应的发光功能层。因此，缺陷区域对应的发光功能层和其他区域对应的发光功能层的构成膜层相同，但构成膜层分布的位置不同这一设置是不可能达到的。因此，只能够通过改变缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，来使缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
其中，可以理解的，在形成发光功能层时，首先在阳极层上注入空穴传输层材料，形成空穴传输层，在空穴传输层上注入绝缘层材料，形成绝缘层，其中，在缺陷区域对应的空穴传输层上注入了绝缘层材料，而未在其他区域对应的空穴传输层上注入绝缘层材料，从而使得缺陷区域对应的发光功能层与其他区域对应的发光功能层相比，多了绝缘层层；接着注入发光材料，形成发光层；最后注入电子传输层材料，形成电子传输层，完成发光功能层的制作。
其中，可以理解的，此时，缺陷区域对应的发光功能层由空穴传输层、绝缘层、发光层以及电子传输层构成；与其他区域对应的发光功能层相比，增加了绝缘层；因此在缺陷区域对应的发光功能层中，因增加了绝缘层，绝缘层无法传输发光电子以及空穴，发光电子和空穴的传输通道被截断；因此空穴无法和电子复合发光，从而导致缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
其中，在一种实施方式中，还可以在缺陷区域对应的发光层以及电子传输层之间增加绝缘层。
其中，可以理解的，当在缺陷区域对应的发光层以及电子传输层之间增加绝缘层时，发光电子和空穴的传输通道还会被截断，空穴无法和电子复合发光，从而导致缺陷区域对应的发光功能层无法发光。
具体地，请参阅图1、图6，图6为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第二流程示意图。结合图1、图6所示，本申请实施例提供的显示面板的制作方法包括以下步骤：
201、提供一基板。
202、在所述基板上设有阳极层。
203、对基板和阳极层进行检测，确定所述基板和/或阳极层是否存在缺陷。
204、若所述基板和/或阳极层存在缺陷，确定所述基板和/或阳极层存在缺陷的位置对应的缺陷区域。
205、在所述基板上设有像素定义层，所述像素定义层具有间隔，且所述阳极层位于所述间隔内。
206、在所述阳极层远离所述基板的一面设有发光功能层。
207、若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
具体地，请参阅图6、图7，图7为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第五子流程示意图。结合图6、图7所示，步骤203具体包括：
2031、获取所述基板和阳极层的显微照片。
其中，在一种实施方式中，基板和阳极层的显微照片是通过光学设备获取的，在形成了基板以及阳极层后，通过光学设备可以获取基板和阳极层的显微照片。
2032、基于所述基板和阳极层的显微照片判断所述基板和/或阳极层中是否存在线路断线现象或细微颗粒。
2033、若所述基板和/或阳极层中存在线路断线现象或细微颗粒，则所述基板和/或阳极层存在缺陷。
其中，可以理解的，判断基板和/或阳极层是否存在缺陷，就是判断基板和/或阳极层中是否存在某些因素会使显示面板存在亮点，其中，显示面板存在亮点指的是在显示面板的某些区域的像素会一直呈现亮态，无法关断，以至于形成了亮点。而像素一直呈现亮态的原因是走线的某些位置出现了断线现象，或者由于细微颗粒的存在导致无法控制像素的开断。因此，通过检查基板和/或阳极层是否存在线路断线或细微颗粒就可以确定在显示面板制成后，会不会存在亮点现象，且基板和/或阳极层存在线路断线或细微颗粒的位置就是显示面板中出现亮点的位置。
其中，可以理解的，因阳极层是最后一层可能存在线路断线或细微颗粒的膜层，因此，判断基板和/或阳极层是否存在缺陷就相当于判断显示面板是否存在亮点。
其中，在一种实施方式中，可以在形成基板后，检测基板中是否存在线路断线或细微颗粒，然后在形成阳极层后，再检测阳极层中是否存在线路断线或细微颗粒。
其中，在一种实施方式中，可以在形成像素定义层后，再基板以及阳极层中是否存在线路断线或细微颗粒。
其中，可以理解的，因为像素定义层是透明的，因此不会影响到判断基板和/或阳极层中是否存在线路断线或细微颗粒。
具体地，请参阅图1、图8，图8为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第三流程示意图。结合图1、图8所示，本申请实施例提供的显示面板的制作方法包括以下步骤：
301、提供一基板。
302、在所述基板上设有阳极层。
303、在所述基板上设有像素定义层，所述像素定义层具有间隔，且所述阳极层位于所述间隔内。
304、在所述阳极层远离所述基板的一面设有发光功能层。
305、在所述发光功能层远离所述基板的一面设有阴极层，且所述阴极层还位于所述像素定义层远离所述基板的一面。
其中，可以理解的，阴极层覆盖发光功能层以及像素定义层。
306、若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则改变所述缺陷区域对应的发光功能层的构成膜层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
在本申请提供的显示面板的制作方法中，当显示面板在生产过程中存在亮点不良的现象时，改变位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素的发光功能层的膜层结构，使位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素无法发光，从而使这些异常亮点可以转换为暗点，达到提高显示面板生产良率的目的。
具体地，请参阅图9，图9为本申请实施例提供的显示面板的第一结构示意图。如图9所示，本申请实施例提供的显示面板40包括：基板401、阳极层402、像素定义层403以及发光功能层404；其中，
阳极层402设置在基板401上；像素定义层403设置在基板401上，且像素定义层403具有间隔4031，阳极层402位于所述间隔4031内；发光功能层404设置在阳极层402远离基板401的一面上；若基板401和/或阳极层402存在缺陷区域405，则改变所述缺陷区域405对应的发光功能层404的构成膜层，使所述缺陷区域405对应的发光功能层404无法发光，以使所述缺陷区域405对应的亮点转换为暗点。
具体地，请参阅图10，图10为本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。如图10所示，本申请实施例提供的显示面板50包括：基板501、阳极层502、像素定义层503、发光功能层504以及阴极层505；其中，
阳极层502设置在基板501上；像素定义层503设置在基板501上，且像素定义层503具有间隔5031，阳极层502位于所述间隔5031内；发光功能层04设置在阳极层502远离基板501的一面上；阴极层505设置在发光功能层504远离基板501的一面，且阴极层505还位于像素定义层503远离基板501的一面；若基板501和/或阳极层502存在缺陷区域506，则改变所述缺陷区域506对应的发光功能层504的构成膜层，使所述缺陷区域506对应的发光功能层504无法发光，以使缺陷区域506对应的亮点转换为暗点。
在本申请提供的显示面板中，当显示面板在生产过程中存在亮点不良的现象时，改变位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素的发光功能层的膜层结构，使位于出现亮点不良现象的缺陷区域内像素无法发光，从而使这些异常亮点可以转换为暗点，达到提高显示面板生产良率的目的。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板的制作方法及显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (6)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
提供一基板；
在所述基板上设有阳极层；
在所述基板上设有像素定义层，所述像素定义层具有间隔，且所述阳极层位于所述间隔内；
在所述阳极层远离所述基板的一面设有发光功能层；
若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则在位于所述缺陷区域对应的所述阳极
层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；直接在所述空穴传输层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层，而不形成发光层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上设有阳极层的步骤之后，还包括：
对基板和阳极层进行检测，确定所述基板和/或阳极层是否存在缺陷；
若所述基板和/或阳极层存在缺陷，确定所述基板和/或阳极层存在缺陷的位置对应的缺陷区域。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述对基板和阳极层进行检测，确定所述基板和/或阳极层是否存在缺陷的具体步骤，包括：
获取所述基板和阳极层的显微照片；
基于所述基板和阳极层的显微照片判断所述基板和/或阳极层中是否存在线路断线现象或细微颗粒；
若所述基板和/或阳极层中存在线路断线现象或细微颗粒，则所述基板和/或阳极层存在缺陷。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述阳极层远离所述基板的一面设有发光功能层的步骤之后，还包括：
在所述发光功能层远离所述基板的一面设有阴极层，且所述阴极层还位于所述像素定义层远离所述基板的一面。
5.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
阳极层，所述阳极层设置在所述基板上；
像素定义层，所述像素定义层设置在所述基板上，且所述像素定义层具有间隔，所述阳极层位于所述间隔内；
发光功能层，所述发光功能层设置在所述阳极层远离所述基板的一面上；
若基板和/或阳极层存在缺陷区域，则在位于所述缺陷区域对应的所述阳极
层上注入空穴传输层材料，以形成空穴传输层；直接在所述空穴传输层上注入电子传输层材料，以形成电子传输层，而不形成发光层，使所述缺陷区域对应的发光功能层无法发光，以使所述缺陷区域对应的亮点转换为暗点。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括阴极层，所述阴极层设置在所述发光功能层远离所述基板的一面，且所述阴极层还位于所述像素定义层远离所述基板的一面。
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