CN107579102A - 显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板及显示装置，具有透视区域和像素显示区域，由于至少部分透视区域具有透明辅助电极，且透明辅助电极与相邻的像素显示区域内的阴极电连接，且透明辅助电极延伸至阴极辅助走线的上方与阴极辅助走线电连接，即阴极通过透明辅助电极与阴极辅助走线实现电连接，从而利用透明辅助电极降低阴极的电阻。并且，由于透明辅助电极是设置在透视区域内，因此既不会降低像素显示区域的面积，又不会影响透视区域的透视功能。另外由于透明辅助电极设置在面积比较大的透视区域内，因此透明辅助电极的面积也可以做的较大，从而大幅度减小透明辅助电极自身的电阻，从而避免由于透明辅助电极电阻过大导致的亮度不均匀的问题。

Description

显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤指一种显示面板及显示装置。
背景技术
有机发光显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)是当今平板显示器研究领域的热点之一，与液晶显示器相比，OLED具有低能耗、生产成本低、自发光、宽视角及响应速度快等优点，目前，在手机、PDA、数码相机等平板显示领域，OLED已经开始取代传统的液晶显示屏(Liquid Crystal Display，LCD)。
由于有机发光显示器不需要单独的光源，因此厚度比较薄，可用作透明且能够显示图像的透视显示装置。透视有机发光显示装置如图1所示，图1为现有的透视有机发光显示装置的结构示意图，包括：阵列基板1，阵列基板1具有像素显示区域A2和透视区域A1。透视区域A1被配置成通过有机发光显示装置透射背景视图。像素显示区域A2依次设置有阳极01、发光层02和阴极03，发光层02发出的光从阴极03侧射出。在像素显示区域A2中，为了增加阴极03的透射率，阴极03的厚度需要非常薄。但是，阴极03厚度减小会引起阴极03电阻增加，从而产生显示亮度不均匀的问题。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板及显示装置，用于在保证像素开口率的基础上降低阴极的电阻，从而解决现有有机发光显示装置存在的亮度不均匀的问题。
本发明实施例提供一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板，所述阵列基板具有呈矩阵排列的多个透视区域以及分布在相邻透视区域之间的像素显示区域；其中，
所述像素显示区域具有依次位于所述阵列基板上的阳极、发光层和阴极，还具有用于限定所述发光层的像素限定层；
至少部分所述透视区域具有位于所述阵列基板上的透明辅助电极，且所述透明辅助电极与相邻的所述像素显示区域内的阴极电连接；
所述像素显示区域还设置有位于所述阵列基板上且与所述阳极相互绝缘的阴极辅助走线；
所述透明辅助电极延伸至所述阴极辅助走线的上方与所述阴极辅助走线电连接。
相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的一种显示面板及显示装置，具有透视区域和像素显示区域，由于至少部分透视区域具有透明辅助电极，且透明辅助电极与相邻的像素显示区域内的阴极电连接，且透明辅助电极延伸至阴极辅助走线的上方与阴极辅助走线电连接，即阴极通过透明辅助电极与阴极辅助走线实现电连接，从而利用透明辅助电极降低阴极的电阻。并且，由于透明辅助电极是设置在透视区域内，因此既不会降低像素显示区域的面积，又不会影响透视区域的透视功能。另外由于透明辅助电极设置在面积比较大的透视区域内，因此透明辅助电极的面积也可以做的较大，从而大幅度减小透明辅助电极自身的电阻，从而避免由于透明辅助电极电阻过大导致的亮度不均匀的问题。
附图说明
图1为现有的透视有机发光显示装置的剖面结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图4为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图6为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图8为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图9为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图10为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；
图11为本发明实施例提供的又一种显示面板的俯视结构示意图；
图12为本发明实施例提供的又一种显示面板的俯视结构示意图；
图13为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
本发明实施例提供的一种显示面板，如图2所示，图2为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；包括阵列基板10，阵列基板10具有呈矩阵排列的多个透视区域A1以及分布在相邻透视区域A1之间的像素显示区域A2；其中，
像素显示区域A2具有依次位于阵列基板10上的阳极11、发光层12和阴极13，还具有用于限定发光层12的像素限定层14；
至少部分透视区域A1具有位于阵列基板10上的透明辅助电极20，且透明辅助电极20与相邻的像素显示区域A2内的阴极13电连接；
像素显示区域A2还设置有位于阵列基板10上且与阳极11相互绝缘的阴极辅助走线15；
透明辅助电极20延伸至阴极辅助走线15的上方与阴极辅助走线15电连接。
本发明实施例提供的显示面板，具有透视区域和像素显示区域，由于至少部分透视区域具有透明辅助电极，且透明辅助电极与相邻的像素显示区域内的阴极电连接，且透明辅助电极延伸至阴极辅助走线的上方与阴极辅助走线电连接，即阴极通过透明辅助电极与阴极辅助走线实现电连接，从而利用透明辅助电极降低阴极的电阻。并且，由于透明辅助电极是设置在透视区域内，因此既不会降低像素显示区域的面积，又不会影响透视区域的透视功能。另外由于透明辅助电极设置在面积比较大的透视区域内，因此透明辅助电极的面积也可以做的较大，从而大幅度减小透明辅助电极自身的电阻，从而避免由于透明辅助电极电阻过大导致的亮度不均匀的问题。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，透明辅助电极与阴极辅助走线之间一般还设置有绝缘材料的膜材，因此透明辅助电极与阴极辅助走线一般通过过孔电连接。
具体地，由于阵列基板上设置有薄膜晶体管阵列，表面不平整，如果直接在不平整的表面上依次形成阳极、发光层和阴极会降低产品的良率，因此，在本发明实施例提供的显示面板中，如图2所示，还包括位于阵列基板10与阳极11之间的平坦化层16；
阴极辅助走线15位于平坦化层16与阵列基板10之间，透明辅助电极20通过贯穿平坦化层16的过孔V1与阴极辅助走线15电连接。
可选地，在本发明实施例提供的显示面板中，在透视区域内，透明辅助电极与阵列基板之间可以设置平坦化层，当然也可以不设置平坦化层，在此不做限定。
可选地，本发明实施例提供的显示面板为顶发射有机发光显示面板，即阳极为反射电极，阴极为透明电极，发光层发出的光经阴极侧射出。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，反射电极一般是由反射层和透明导电层组成，反射层可由具有优良反射率的银、镍、金、铂、铝、铜、钼/铝钕或其合金形成。由于阳极需要将空穴提供至发光层，因此透明导电层可由具有高功函数的透明导电氧化物诸如氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟锡锌、氧化锌或氧化锡形成。
可选地，本发明实施例提供的显示面板中，如图3所示，图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；透明辅助电极20与相邻的像素显示区域A2内的阴极13为一体结构。
这样在制备显示面板时，成膜次序为：形成阴极辅助走线；形成平坦化层；形成阳极；形成发光层；同时形成阴极和透明辅助电极。这样可以省去单独制作透明辅助电极的工艺，降低制作成本。
具体地，在OLED显示面板中，发光层一般包括空穴注入层、空穴传输层、发光功能层、电子传输层和电子注入层等。在制备发光层时，发光功能层是不同颜色的像素对应不同的材料，除了发光功能层，其它膜层可以是共用膜层，因此是整层形成的。而发光层的形成目前一般是采用蒸镀的方法形成的，即在不要形成的地方需要采用掩膜版进行遮挡。因此，对于形成发光层中的共用膜层采用的掩膜版的开口对应一整个面板，而对于形成发光功能层，采用的掩膜版是高精度金属掩膜版(FFM)，FFM自身形成工艺很复杂，并且成本高，另外采用高精度金属掩膜版对位精度难以控制，容易造成良率的降低，在制备OLED显示面板，高精度金属掩膜版用的越少越好。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，当透明辅助电极与相邻的像素显示区域内的阴极为一体结构时，如图3所示，可以不在透视区域A1设置发光层和阳极。
由于发光层一般为透光的，当然也可以如图4所示，图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；保留透视区域A1的发光层12，透明辅助电极20通过贯穿发光层12和平坦化层16的过孔V1与阴极辅助走线15电连接，这样不要改变现有显示面板形成发光层12的工艺，仅需在透视区域A1内形成发光层12之后在发光层12中形成过孔。按照本实施例的方法，无需增加FFM。在具体实施时，保留透视区域A1的发光层12与像素显示区域内的发光层不完全相同，像素显示区域内的发光层除了包括共用膜层还包括发光功能层，例如空穴注入层、空穴传输层、发光功能层、电子传输层和电子注入层等；而透视区域内的发光层仅包括共用膜层，例如空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层等。为了进一步降低透明辅助电极的电阻，本发明实施例提供的显示面板中，如图5所示，图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；透明辅助电极20包括：依次层叠设置于阵列基板10上的第一电极21和第二电极22；其中，
第二电极22与相邻的像素显示区域A2内的阴极13为一体结构；
第一电极21通过过孔V1与阴极辅助走线15电连接。
这样，透明辅助电极由第一电极和第二电极组成，通过增加透明辅助电极中的电极层数可以进一步降低透明辅助电极的自身电阻。并且第二电极与阴极为一体结构，在制备显示面板的阴极时，在像素显示区域和透视区域均保留阴极膜层，这样可以省去单独制作透明辅助电极中第二电极的工艺，降低制作成本。
具体地，在制备显示面板时，第一电极可以在形成平坦化层之前形成，这时成膜次序为：形成阴极辅助走线；形成第一电极；形成平坦化层；形成阳极；形成发光层；形成阴极和第二电极。当然第一电极也可以在形成平坦化层之后，形成阳极层之前形成，这时成膜次序为：形成阴极辅助走线；形成平坦化层；形成第一电极；形成阳极；形成发光层；形成阴极和第二电极。
具体地，由于有机发光显示面板在制作时，阳极、发光层的共用膜层、阴极等膜层都是整层形成的，而在本发明实施例提供的显示面板中，在透视区域内的透明辅助电极是导电的，而发光层本身是有机材料，导电性能是比较差的。因此在本发明实施例提供的显示面板中，可以在蒸镀时不在透视区域内形成发光层，保留位于透视区域内的阴极，以及阳极中透明导电层作为透明辅助电极。
可选地，本发明实施例提供的显示面板中，如图6所示，图6为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；阳极11包括层叠设置的至少一层反射层111和至少一层透明导电层112，例如在图5中阳极11为包括一层反射层111和两层透明导电层112的三明治结构；
第一电极21与阳极11中的至少一层透明导电层112设置为同层同材质。这样在制作显示面板时，这时成膜次序为：形成阴极辅助走线；形成平坦化层；形成阳极和第一电极；形成发光层；同时形成阴极和第二电极。这样仅需改变掩膜图形就可以将第一电极与阳极中的透明导电层采用一次构图工艺形成，不需要单独增加制作第一电极的工艺，可以降低制作成本。
在本发明实施例提供的显示面板中，第二电极与阳极中的透明导电层同层制作时虽然可以减少构图工艺。但是在制作时就需要将位于透视区域的反射层刻蚀掉，但是刻蚀反射层很容易刻蚀掉作为第二电极的透明导电层，从而影响透明辅助电极的导电性能，因此，第二电极单独制作可以避免这种影响，但是第二电极单独制作优惠增加构图工艺。因此可以根据实际情况决定第二电极的制作工艺。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，考虑到不在透视区域内形成发光层会增加FFM的使用次数，并且会降低产品良率和增加成本，因此在本发明实施例提供的显示面板中，如图7所示，图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；透明辅助电极20还包括位于第一电极21和第二电极22之间的经过导电化处理后的导电发光层23；
且导电发光层23在经过导电化处理之前的材质与像素显示区域A2内的发光层12的材质部分相同。
这样不需要过多的使用FFM，仅需要对位于透视区域内的发光层进行导电化处理就能实现第一电极和第二电极的导通。
在具体实施时，只要对发光层进行导电化处理使发光层变为导电发光层的任何一种方式均属于本发明保护的范围。下面以图8所示的实施例为例进行说明。
具体地，本发明实施例提供的显示面板中，如图8所示，图8为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；发光层12包括依次设置于阳极11上的第一有机层121、发光功能层122以及第二有机层123；
导电发光层23包括依次设置于第一电极21上的第三有机层231、载流子产生层232和第四有机层233；
其中，第三有机层231与第一有机层121设置为同层同材质，第四有机层233与第二有机层123设置为同层同材质。
这样导电发光层的步骤包括：通过一次构图工艺形成第三有机层和第一有机层的图形；形成像素显示区域内的发光功能层的图形；形成透视区域内的载流子产生层的图形；通过一次构图工艺形成第二有机层和第四有机层的图形。这样不在透视区域内蒸镀发光功能层，增加了一道在透视区域内蒸镀载流子产生层用的FFM，与不在透视区域内形成发光层需要多次采用FFM相比，该实施例仅增加了一次使用FFM的次数，可以降低成本和提高良率。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，发光功能层是指电子与空穴发生复合的膜层。第一有机层至少包括空穴传输层，第二有机层至少包括电子传输层。
可选地，在本发明实施例提供的显示面板中，为了提高发光效率，第一有机层中还包括空穴注入层，第二有机层中还包括电子注入层。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，载流子产生层的材料为：三氧化钼、三氧化钼和镁的复合物、铝和氟化锂的复合物或HAT-CN。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，阵列基板包括衬底基板、位于衬底基板上的至少一层金属电极，例如数据线、栅线、薄膜晶体管的源极、漏极或栅极等；
阴极辅助走线与距离衬底基板最远的一层金属电极设置为同层同材质。这样阴极辅助走线距离衬底基板远意味着离透明辅助电极就近，即阴极辅助走线与透明辅助电极之间的膜层厚度就小，这样就能减小电连接阴极辅助走线与透明辅助电极的过孔的深度。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，如图9所示，图9为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；透视区域A1阵列分布，每一透视区域A1均设置有透明辅助电极20，从而增加透明辅助电极20的面积，以尽可能的降低阴极13的电阻值。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，可以在每一像素显示区域内设置连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔，当然也可以在部分像素显示区域内设置连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔，在此不作限定。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，如图9所示，当透明辅助电极20通过过孔V1与阴极辅助走线15电连接时，每一像素显示区域A2内均设置有连接透明辅助电极20与阴极辅助走线15的过孔V1，从而进一步降低阴极13与阴极辅助走线15之间的电阻。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，如图10所示，图10为本发明实施例提供的又一种显示面板的俯视结构示意图；相邻像素显示区域A2共用一个过孔V1电连接透明辅助电极20与阴极辅助走线15。这样可以减少过孔V1数量，从而降低工艺复杂度。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，显示面板包括至少三种不同颜色的像素显示区域，例如包括红色的像素显示区域、蓝色的像素显示区域和蓝色的像素显示区域，当然还可以包括白色的像素显示区域、或黄色的像素显示区域等，在此不作限定。
可选地，在本发明实施例提供的显示面板中，仅在其中一种颜色的像素显示区域内设置有连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔，例如在红色的像素显示区域内设置有连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔；或者在绿色的像素显示区域内设置有连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔；或者在蓝色的像素显示区域内设置有连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔，在此不作限定。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，可以根据不同颜色的像素显示区域的面积或发光效率确定要将过孔设置在哪一种颜色的像素显示区域内。
可选地，在本发明实施例提供的显示面板中，如图11所示，图11为本发明实施例提供的又一种显示面板的俯视结构示意图；面积最大的像素显示区域A2内设置有贯穿平坦化层16的过孔V1。
具体地，显示面板中，由于蓝色的像素的发光效率一般是最差的，一般将蓝色的像素显示区域的面积设置成大于红色的像素显示区域的面积，以及大于绿色的像素显示区域的面积，因此，可以仅在面积最大的蓝色的像素显示区域内设置连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔，在此不作限定。
或者，可选地，在本发明实施例提供的显示面板中，在发光效率最高的像素显示区域内设置有连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔。显示面板中一般绿色的像素显示区域的发光效率最高，因此可以仅在绿色的像素显示区域内设置连接透明辅助电极与阴极辅助走线的过孔，在此不作限定。
具体地，本发明实施例提供的显示面板中，如图9至图11所示，像素显示区域A2位于相邻的沿第一方向延伸的两列透视区域A1之间，且沿第二方向相邻的两个透视区域A1之间具有多个像素显示区域A2；第一方向为行方向，第二方向为列方向；或者第一方向为列方向，第二方向为行方向；其中图9至图11是以第一方向为行方向，第二方向为列方向为例进行说明的。
具体地，例如在图9和图10中，在每一行透视区域A1中，相邻两个透视区域A1之间设置有3个像素显示区域A2，在图11中，在每一行透视区域A1中，相邻两个透视区域A1之间设置有6个像素显示区域A2，当然不限于该种排布方式。
具体地，在显示面板中，一般规定栅线的延伸方向为行方向，数据线的延伸方向为列方向，在此不作限定。
具体地，在本发明实施例提供的显示面板中，如图12所示，图12为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；显示面板包括显示区域和包围显示区域的边框区域，阴极辅助走线15与位于显示面板的边框区域的IC芯片30连接，用于向阴极13提供阴极信号。
需要说明的是，图9至图12所示的俯视图中，均是以所有透明辅助电极20与所有阴极13为一体结构即为一整层膜层为例进行示意说明的，如前边所述，本发明不限于此。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，如图13所示，图13为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图包括本发明实施例提供的上述任一种显示面板。由于该显示装置解决问题的原理与前述一种显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见前述显示面板的实施，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种显示面板及显示装置，具有透视区域和像素显示区域，由于至少部分透视区域具有透明辅助电极，且透明辅助电极与相邻的像素显示区域内的阴极电连接，且透明辅助电极延伸至阴极辅助走线的上方与阴极辅助走线电连接，即阴极通过透明辅助电极与阴极辅助走线实现电连接，从而利用透明辅助电极降低阴极的电阻。并且，由于透明辅助电极是设置在透视区域内，因此既不会降低像素显示区域的面积，又不会影响透视区域的透视功能。另外由于透明辅助电极设置在面积比较大的透视区域内，因此透明辅助电极的面积也可以做的较大，从而大幅度减小透明辅助电极自身的电阻，从而避免由于透明辅助电极电阻过大导致的亮度不均匀的问题。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (18)

1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板，所述阵列基板具有呈矩阵排列的多个透视区域以及分布在相邻透视区域之间的像素显示区域；其中，
所述像素显示区域具有依次位于所述阵列基板上的阳极、发光层和阴极，还具有用于限定所述发光层的像素限定层；
至少部分所述透视区域具有位于所述阵列基板上的透明辅助电极，且所述透明辅助电极与相邻的所述像素显示区域内的阴极电连接；
所述像素显示区域还设置有位于所述阵列基板上且与所述阳极相互绝缘的阴极辅助走线；
所述透明辅助电极延伸至所述阴极辅助走线的上方与所述阴极辅助走线电连接。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述透明辅助电极与所述阴极辅助走线通过过孔电连接。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，还包括位于所述阵列基板与所述阳极之间的平坦化层；
所述阴极辅助走线位于所述平坦化层与所述阵列基板之间，所述透明辅助电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与所述阴极辅助走线电连接。
4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述阳极为反射电极，所述阴极为透明电极。
5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述透明辅助电极与相邻的所述像素显示区域内的阴极为一体结构。
6.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述透明辅助电极包括：依次层叠设置于所述阵列基板上的第一电极和第二电极；其中，
所述第二电极与相邻的所述像素显示区域内的阴极为一体结构；
所述第一电极通过过孔与所述阴极辅助走线电连接。
7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述阳极包括层叠设置的至少一层反射层和至少一层透明导电层；
所述第一电极与所述阳极中的至少一层透明导电层设置为同层同材质。
8.如权利要求6或7所述的显示面板，其特征在于，所述透明辅助电极还包括位于所述第一电极和所述第二电极之间的经过导电化处理后的导电发光层；
且所述导电发光层在经过导电化处理之前的材质与所述像素显示区域内的发光层的材质部分相同。
9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述发光层包括依次设置于所述阳极上的第一有机层、发光功能层以及第二有机层；
所述导电发光层包括依次设置于所述第一电极上的第三有机层、载流子产生层和第四有机层；
其中，所述第三有机层与所述第一有机层设置为同层同材质，所述第四有机层与所述第二有机层设置为同层同材质。
10.如权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述载流子产生层的材料为：三氧化钼、三氧化钼和镁的复合物、铝和氟化锂的复合物或HAT-CN。
11.如权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机层至少包括空穴传输层，所述第二有机层至少包括电子传输层。
12.如权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板、位于所述衬底基板上的至少一层金属电极；
所述阴极辅助走线与距离所述衬底基板最远的一层所述金属电极设置为同层同材质。
13.如权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，每一所述透视区域均设置有所述透明辅助电极。
14.如权利要求13所述的显示面板，其特征在于，当所述透明辅助电极通过过孔与所述阴极辅助走线电连接时，每一所述像素显示区域内均设置有所述过孔。
15.如权利要求2-7任一项所述的显示面板，其特征在于，相邻像素显示区域共用一个所述过孔电连接所述透明辅助电极与所述阴极辅助走线。
16.如权利要求2-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括至少三种不同颜色的像素显示区域，面积最大的所述像素显示区域内设置有所述过孔，或者发光效率最高的所述像素显示区域内设置有所述过孔。
17.如权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述像素显示区域位于相邻的沿第一方向延伸的两列透视区域之间，且沿第二方向相邻的两个所述透视区域之间具有多个所述像素显示区域；
所述第一方向为行方向，所述第二方向为列方向；或者所述第一方向为列方向，所述第二方向为行方向。
18.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-17任一项所述的显示面板。
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