CN111999306A - 一种荧光渗透探伤预检装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种荧光渗透探伤预检装置，用于检查经清洗之后，待检测工件表面是否残存有荧光渗透液，其特征在于，包括：暗箱、待检料架及CCD摄像机，所述暗箱内部设有紫外光源，所述CCD摄像机设于所述暗箱内；所述待检料架置于所述暗箱内，用于承载待测工件；所述紫外光源照射待测工件；所述CCD摄像机获取紫外光照射下的待测工件图像，基于图像处理技术判断待测工件表面是否有超过设定阈值的荧光，并向外界发出代表判断结果的电信号。由此，本发明的荧光渗透探伤预检装置自动检测初次清洗后的零件表面是仍有参与的荧光渗透液，判定标准统一，工作效率高。
Description
技术领域
本发明涉及荧光探伤领域，尤其涉及一种荧光渗透探伤预检装置。
背景技术
机械零部件在工作中会出现裂纹、腐蚀、气孔等不连续性缺陷，这类缺陷严重威胁着现有机械装备的安全性和可靠性，因表面缺陷导致零部件失效断裂的事故数不胜数，荧光渗透探伤是用于检测和揭示工程材料表面不连续性缺陷的一种无损探伤方法，其原理为：在待检工件表面施加一层荧光渗透液，荧光渗透液借助毛细管作用渗入工件表面的开口缺陷中，用清洗剂去除待检工件表面多余的渗透剂后，施加一层显像剂使缺陷内的荧光渗透液反渗到工件表面，在暗室环境下用紫外线灯照射工件表面，缺陷处将会产生明亮的荧光显示。
荧光渗透探伤已发展成为一种成熟的无损检测方法，广泛应用于航空航天、国防军工、轨道交通等领域。
但是由于复杂的渗透探伤工艺特性，现有的荧光渗透探伤设备为半自动化型检测设备，主要由超声波清洗槽、渗透槽、乳化槽、清洗槽及烘干箱等多个功能槽体组成。零件经渗透槽处理后，检测人员需在紫外线照明环境下进行人工目视观察，若零件表面截留较多的荧光渗透液，则该零件会产生明显的黄绿色荧光显示，检测人员会手持水枪对该部位进行适度清洗，直至荧光显示消失，在工程实践过程中发现，采用这种人工清洗方式时，零件表面的清洗效果受检测人员视力敏锐度影响较大，存在清洗质量不一致性风险，在大批量零件的探伤检测时，这种人工清洗方式会大幅度降低生产效率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：提供一种荧光渗透探伤预检装置，提高检测清洗的一致性并提高工作效率。
为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：
一种荧光渗透探伤预检装置，设于荧光渗透探伤线清洗工序之后，乳化工序之前，用于检查经清洗之后，待检测工件表面是否残存有荧光渗透液，包括：暗箱、待检料架及CCD摄像机，所述暗箱内部设有紫外光源，所述CCD摄像机设于所述暗箱内；
所述待检料架置于所述暗箱内，用于承载待测工件；
所述紫外光源照射待测工件；
所述CCD摄像机获取紫外光照射下的待测工件图像，基于图像处理技术判断待测工件表面是否有超过设定阈值的荧光，并向外界发出代表判断结果的电信号。
与现有技术相比，本发明具有如下技术效果：
通过预设CCD摄像机的阈值，利用CCD摄像机对待测工件表面进行检查，判断是否有多余的荧光渗透液，评判标准统一，解决了传统依赖人工检查的标准不统一的问题。
在上述技术方案的基础上，本发明还可以做如下改进。
优选地，所述暗箱可滑动的固定在暗箱导轨上，所述暗箱导轨上设有工作位与非工作位，当所述暗箱位于工作位时，所述待检料架位于所述暗箱内，当所述暗箱位于非工作位时，所述待检料架位于所述暗箱之外。
优选地，所述待检料架可滑动的固定在料架导轨上，所述料架导轨上设有工作位与非工作位，当所述待检料架位于工作位时，所述待检料架位于所述暗箱内，当所述待检料架位于非工作位时，所述待检料架位于所述暗箱之外。
优选地，所述待检料架为穿过所述暗箱的传送带；
采用上述进一步方案的有益效果是可以方便的将待检工件从暗箱内移出，便于工作人员对待检工件做进一步检查或处理。
优选地，所述暗箱内设有喷枪，所述喷枪与所述CCD摄像机电连接，所述CCD摄像机根据对工件表面的检查结果，向所述喷枪下发启动或停止指令；所述喷枪用于对工件表面进行冲洗。
采用上述进一步方案的有益效果是若工件表面检测有超过阈值的荧光信号，则认为工件表面残留有过多的荧光渗透液，则向喷枪下发清洗指令，喷枪启动，对工件表面进行清洗，实现了对工件的检测及冲洗一步到位，无需再人工进行清洗，缩短了对工件的检查清洗时间。
优选地，所述喷枪通过导轨固定在所述暗箱的内壁上，所述喷枪可以沿轨道移动，所述CCD摄像机根据对工件的检查结果，给喷枪下发移动到特定位置的指令。
采用上述进一步方案的有益效果是，喷枪可以根据CCD摄像机的检查结果，移动到有荧光的位置，进行定点清洗，提高了清洗的效率。
进一步地，所述待检料架为圆形，所述待检料架下方设有旋转驱动装置，驱动待检料架旋转。
采用上述进一步方案的有益效果是，方便承载着待检工件进行旋转，无需移动CCD摄像机即可实现对工件不同角度的检查，同时若发现工件表面有过多残余的荧光渗透液时，通过旋转待检料架，可以将工件移动到最佳冲洗位置进行重新。
附图说明
图1为本发明的荧光渗透探伤预检装置的结构示意图；
图2为本发明的荧光渗透探伤预检装置隐藏暗箱外壳后的结构示意图；
在附图中，各标号所表示的部件名称列表如下：
1、底座；2、待检料架；3、暗箱；4、CCD摄像机；5、自动喷枪；6、紫外灯灯管；7、电动气缸。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。
请参照图1所示，其为本发明的荧光渗透探伤预检装置的结构示意图。所述荧光渗透探伤预检装置包括底座及固定在底座1上的待检料架2和暗箱3，以及CCD摄像机4、自动喷枪5，暗箱3内悬置5支紫外线灯管6用来提供紫外线照射环境，所述待检料架2为一台圆形料架，用来放置待清洗的零件。暗箱3可通过两侧的电动气缸7进行前后滑动，当零件放置到圆形料架时，由检测人员开启自动前移按钮，暗箱3会自动前移至待检料架2上方，使待检料架2上的零件处于暗箱3内。当零件清洗结束后，检测人员开启自动后移按钮，暗箱3向后移动，使待检料架2脱离暗箱3的遮罩，便于检测人员取放检测完毕的零件。
CCD摄像机4固定在暗箱3顶部，可对零件表面状态进行拍摄及进行智能评估。当零件置于暗箱3的紫外线照射环境下时，CCD摄像机4对零件表面的荧光显示状态进行拍照并基于图像处理技术判断零件表面是否有超过设定阈值的荧光信号若识别到荧光显示信号，CCD摄像机4将控制喷枪对该区域进行清洗处理。
在暗箱3左右侧壁上端各配置一套导轨式自动喷枪5，喷枪可根据CCD摄像机4的指令进行前后滑动。当CCD摄像机4识别到零件表面存在荧光显示时，CCD摄像机4控制两侧的喷枪滑动到零件具有荧光显示的位置，并对该零件表面实施清洗，同时CCD摄像机4将持续监测该零件表面的荧光显示状态，若荧光显示消失，CCD摄像机4控制喷枪停止清洗操作。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种荧光渗透探伤预检装置，用于检查经清洗之后，待检测工件表面是否残存有荧光渗透液，其特征在于，包括：暗箱、待检料架及CCD摄像机，所述暗箱内部设有紫外光源，所述CCD摄像机设于所述暗箱内；
所述待检料架置于所述暗箱内，用于承载待测工件；
所述紫外光源照射待测工件；
所述CCD摄像机获取紫外光照射下的待测工件图像，基于图像处理技术判断待测工件表面是否有超过设定阈值的荧光，并向外界发出代表判断结果的电信号。
2.根据权利要求1所述的荧光渗透探伤预检装置，其特征在于，所述暗箱可滑动的固定在暗箱导轨上，所述暗箱导轨上设有工作位与非工作位，当所述暗箱位于工作位时，所述待检料架位于所述暗箱内，当所述暗箱位于非工作位时，所述待检料架位于所述暗箱之外。
3.根据权利要求1所述的荧光渗透探伤预检装置，其特征在于，所述待检料架可滑动的固定在料架导轨上，所述料架导轨上设有工作位与非工作位，当所述待检料架位于工作位时，所述待检料架位于所述暗箱内，当所述待检料架位于非工作位时，所述待检料架位于所述暗箱之外。
4.根据权利要求1所述的荧光渗透探伤预检装置，其特征在于，所述待检料架为穿过所述暗箱的传送带。
5.根据权利要求1-4任一项所述的荧光渗透探伤预检装置，其特征在于，所述暗箱内设有喷枪，所述喷枪与所述CCD摄像机电连接，所述CCD摄像机根据对工件表面的检查结果，向所述喷枪下发启动或停止指令；所述喷枪用于对工件表面进行冲洗。
6.根据权利要求5所述的荧光渗透探伤预检装置，其特征在于，所述喷枪通过导轨固定在所述暗箱的内壁上，所述喷枪可以沿轨道移动，所述CCD摄像机根据对工件的检查结果，给喷枪下发移动到特定位置的指令。
7.根据权利要求2或3所述的荧光渗透探伤预检装置，其特征在于，所述待检料架为圆形，还设有旋转驱动装置，所述旋转驱动装置驱动所述待检料架旋转。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20201127 |
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |