CN111996509A - 一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法 - Google Patents
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 21
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000002513 implantation Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910001432 tin ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 6
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000797 Ultra-high-strength steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
Images
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/48—Ion implantation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法，包括以下步骤；A、采用N离子对刀具表面氧化层进行离子清洗；B、通过离子注入N的方法在刀刃近表面和表面形成注入层；C、在注入层的表面同时进行氮离子注入和TiN离子溅射，沉积一层硬质TiN沉积层。本发明先采用离子注入的方法在刀具基体表面形成注入层，增加刀刃的硬度、强度及耐摩擦性能的同时，改善刀具表面与后续涂层间的物理、化学匹配性能，为获得高结合强度刀具涂层奠定基础。然后通过离子注入法辅助离子溅射沉积方法制备较厚涂层，可以进一步提高涂层的结合强度，使得刀具在生产加工时涂层不会因冲击导致脱落而影响加工效率和效果，可满足更高、更苛刻的环境要求。
Description
技术领域
本发明涉及刀具加工领域，更具体地说，涉及一种刀具涂层制造方法。
背景技术
随着现代制造业的快速发展，多种新型制造工艺、新材料得到广泛应用，如：高速切削、干式/准干式切削、高温合金、钛合金和超高强度钢等，在其切削过程中都有切削力大、切削温度高、刀具磨损严重等问题，严重影响刀具的使用寿命。为实现制造业的高效、低成本生产，制备具有高硬度、高结合强度、高耐磨等良好综合切削性能的刀具具有很好的工程实际应用价值。现有技术中，常通过物理沉积和化学沉积的方法在刀具上涂制硬质涂层，这种方法在一定程度上能够提高刀具的强度、硬度、耐摩擦磨损性能以及使用寿命，然而，这类涂层疏松多孔，力学性能稍差，与刀体结合强度低，容易出现涂层脱落，影响刀具的使用寿命。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法。本发明使用离子注入与离子溅射沉积技术，充分发挥离子注入强化层结合强度高和溅射沉积效率高、可形成较厚涂层的优点，制备具有高结合强度和高硬度的刀具涂层。
本发明的技术方案。一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法，其特征在于：包括以下步骤；
A、采用N离子对刀具表面氧化层进行离子清洗；
B、通过离子注入N的方法在刀刃近表面和表面形成注入层；
C、在所述注入层的表面同时进行氮离子注入和TiN离子溅射，沉积一层硬质TiN沉积层。
前述的离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法中，步骤A的离子清洗的参数为：离子源通过气体为氮气，加速电压为10Kv，清洗时间为10min。
前述的离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法中，步骤B的离子注入的参数为：离子源通入气体为氮气，加速电压为60kv，注入时间为60～120min。
前述的离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法中，步骤C的溅射沉积参数为：溅射靶材TiN，加速电压2～3kV，溅射时间30-90min。
与现有技术相比，本发明先采用离子注入的方法在刀具基体表面形成注入层，增加刀刃的硬度、强度及耐摩擦性能的同时，改善刀具表面与后续涂层间的物理、化学匹配性能，为获得高结合强度刀具涂层奠定基础。然后通过离子注入法辅助离子溅射沉积方法制备较厚涂层，可以进一步提高涂层的结合强度，使得刀具在生产加工时涂层不会因冲击导致脱落而影响加工效率和效果，可满足更高、更苛刻的环境要求。
使用离子注入与离子溅射沉积技术，充分发挥离子注入强化层结合强度高和溅射沉积效率高、可形成较厚涂层的优点，制备具有高结合强度和高硬度的刀具涂层。通俗的讲即是充分发挥离子注入的“楔钉”的作用，利用其所产生高能离子如“楔钉”般可将溅射沉积的强化层牢牢固定于刀具表面，进而形成高硬度、高结合强度刀具涂层，达到提高刀具的综合切削性能、延长其使用寿命的目的。
附图说明
图1是本发明的加工示意图。
附图中的标记为：1-刀刃，2-沉积层，3-注入层，10-刀刃界面，111-刀刃近表面，112-刀刃表面。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明，但并不作为对本发明限制的依据。
实施例1。一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法，如图1所示，包括以下步骤；
A、采用N离子对刀具表面氧化层进行离子清洗；离子清洗的参数为：离子源通过气体为氮气，加速电压为10Kv，清洗时间为10min。
B、通过离子注入N的方法在刀刃1的刀刃界面10的近表面111和表面112形成注入层3；离子注入的参数为：离子源通入气体为氮气，加速电压为60kv，注入时间为100min。
C、在所述注入层的表面同时进行氮离子注入和TiN离子溅射，沉积一层硬质TiN沉积层2；溅射沉积参数为：溅射靶材TiN，加速电压2.5kV，溅射时间60min。
Claims (4)
1.一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法，其特征在于：包括以下步骤；
A、采用N离子对刀具表面氧化层进行离子清洗；
B、通过离子注入N的方法在刀刃近表面和表面形成注入层；
C、在所述注入层的表面同时进行氮离子注入和TiN离子溅射，沉积一层硬质TiN沉积层。
2.根据权利要求1所述的离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法，其特征在于，步骤A中，离子清洗的参数为：离子源通过气体为氮气，加速电压为10Kv，清洗时间为10min。
3.根据权利要求1所述的离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法，其特征在于，步骤B中，离子注入的参数为：离子源通入气体为氮气，加速电压为60kv，注入时间为60～120min。
4.根据权利要求1所述的离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法，其特征在于，步骤C中，溅射沉积参数为：溅射靶材TiN，加速电压2～3kV，溅射时间30-90min。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010940998.9A CN111996509A (zh) | 2020-09-09 | 2020-09-09 | 一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010940998.9A CN111996509A (zh) | 2020-09-09 | 2020-09-09 | 一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111996509A true CN111996509A (zh) | 2020-11-27 |
Family
ID=73469093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010940998.9A Pending CN111996509A (zh) | 2020-09-09 | 2020-09-09 | 一种离子辅助溅射沉积制备TiN刀具涂层方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111996509A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117845180A (zh) * | 2024-03-07 | 2024-04-09 | 湖南沃尔博精密工具有限公司 | 一种刀具及其镀膜方法 |
-
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- 2020-09-09 CN CN202010940998.9A patent/CN111996509A/zh active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117845180A (zh) * | 2024-03-07 | 2024-04-09 | 湖南沃尔博精密工具有限公司 | 一种刀具及其镀膜方法 |
| CN117845180B (zh) * | 2024-03-07 | 2024-05-28 | 湖南沃尔博精密工具有限公司 | 一种刀具及其镀膜方法 |
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| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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