CN111969025A - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，该显示基板能够减轻咖啡环效应，从而提高显示效果。该显示基板包括：衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元，所述发光单元包括：平坦层，所述平坦层包括阵列排布的多个开口，所述开口贯穿所述平坦层；阳极，所述阳极包括与多个所述开口对应的多个子电极，所述子电极填满所述开口，且所述子电极沿垂直于所述平坦层方向的最大厚度等于所述开口的深度；发光功能层，所述发光功能层至少覆盖所述阳极。本发明适用于显示基板的制作。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

OLED(Organic Light-emitting Diode，有机电致发光二极管)裸眼3D(3-Dimensional)显示装置无须佩戴3D眼镜，就可以使人们观看到形象逼真的立体影像。在OLED裸眼3D显示装置中，为了提高分辨率，通常将红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B分别分割为多个亚像素；子像素(即红色、绿色和蓝色子像素)的阳极被分割为如图1所示的多个子电极1，相邻两个子电极1之间存在空隙2(Space)。

使用喷墨打印工艺在阳极上形成发光功能层时，发光功能材料的液滴在干燥后易出现咖啡环效应(参考图2所示，即子电极1上的发光功能层3出现中心薄、边缘厚的膜厚不均匀现象)，进而导致子像素中各亚像素的发光颜色和亮度不均，严重降低显示效果。目前，亟需设计一种新的显示装置，以解决上述问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，该显示基板能够减轻咖啡环效应，从而提高显示效果。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供了一种显示基板，包括衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元，所述发光单元包括：平坦层，所述平坦层包括阵列排布的多个开口，所述开口贯穿所述平坦层；阳极，所述阳极包括与多个所述开口对应的多个子电极，所述子电极填满所述开口，且所述子电极沿垂直于所述平坦层方向的最大厚度等于所述开口的深度；发光功能层，所述发光功能层至少覆盖所述阳极。

可选的，所述平坦层还包括第一平坦层和第二平坦层，所述第一平坦层位于所述第二平坦层和所述衬底之间；

所述第二平坦层在所述衬底上的正投影位于所述第一平坦层在所述衬底上的正投影以内；所述第二平坦层在所述衬底上的正投影和所述阳极在所述衬底上的正投影互不交叠。

可选的，所述发光单元还包括围绕所述发光功能层的隔挡层；所述隔挡层位于所述阳极外围的所述第二平坦层上；所述第二平坦层位于所述第一平坦层上未设置所述阳极的区域。

可选的，所述发光单元还包括围绕所述发光功能层和所述第二平坦层的隔挡层；所述隔挡层位于所述阳极外围的所述第一平坦层上；所述第二平坦层位于所述第一平坦层上未设置所述阳极和所述隔档层的区域。

可选的，所述发光单元还包括围绕所述发光功能层的隔挡层；所述发光功能层沿垂直于所述平坦层方向的厚度小于所述隔挡层沿垂直于所述平坦层方向的厚度。

可选的，所述开口沿平行于所述平坦层方向的截面形状为矩形、菱形、圆形中的任一种；所述子电极沿平行于所述平坦层方向的截面形状和所述开口沿平行于所述平坦层方向的截面形状相同。

另一方面，提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

又一方面，提供了一种上述显示基板的制作方法，所述方法包括：

形成平坦层；所述平坦层包括阵列排布的多个开口，所述开口贯穿所述平坦层。

形成阳极；所述阳极包括与多个所述开口对应的多个子电极，所述子电极填满所述开口，且所述子电极沿垂直于所述平坦层方向的最大厚度等于所述开口的深度。

形成发光功能层；所述发光功能层至少覆盖所述阳极。

可选的，所述形成平坦层包括：

形成平坦层薄膜。

采用溅射工艺，在所述平坦层薄膜之上形成金属层薄膜。

采用湿法刻蚀工艺，对所述金属薄膜进行图案化处理，形成金属层。

以所述金属层为掩膜版，采用刻蚀工艺，对所述平坦层薄膜进行图案化处理，形成所述平坦层。

去除所述金属层。

可选的，所述平坦层包括第一平坦层和第二平坦层。

所述形成平坦层包括：

在衬底上形成第一平坦层薄膜。

在所述第一平坦层薄膜之上形成第二平坦层薄膜。

在所述第二平坦层薄膜之上形成图案化的光刻胶。

采用干法刻蚀工艺，以所述图案化的光刻胶为掩膜版对所述第二平坦层薄膜进行图案化处理，形成所述第二平坦层；所述第二平坦层位于所述第一平坦层上且未设置所述阳极的区域。

去除所述图案化的光刻胶。

以所述第二平坦层为掩膜版，采用干法刻蚀工艺，对所述第一平坦层薄膜图案化处理，形成所述第一平坦层；所述第一平坦层位于所述第二平坦层和所述衬底之间。

可选的，在所述形成阳极之后、且在所述形成发光功能层之前，所述方法还包括：

在所述第二平坦层上形成隔挡层；所述隔挡层位于所述阳极外围且围绕所述发光功能层。

可选的，所述形成平坦层包括：

在衬底上形成第一平坦层。

在所述形成阳极之后，所述形成发光功能层之前，所述形成平坦层还包括：

在所述阳极外围的所述第一平坦层上形成隔档层；所述隔挡层位于所述阳极外围的所述第一平坦层上。

采用喷墨打印工艺在所述第一平坦层上未设置所述阳极和所述隔档层的区域，形成所述第二平坦层。

本发明的实施例提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，该显示基板包括衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元，所述发光单元包括：平坦层，所述平坦层包括阵列排布的多个开口，所述开口贯穿所述平坦层；阳极，所述阳极包括与多个所述开口对应的多个子电极，所述子电极填满所述开口，且所述子电极沿垂直于所述平坦层方向的最大厚度等于所述开口的深度；发光功能层，所述发光功能层至少覆盖所述阳极。

上述显示基板的子电极沿垂直于平坦层方向的高度等于开口的深度，这样，多个子电极和平坦层不存在高度差，从而可以形成平坦的表面；在该平坦的表面上采用喷墨打印工艺制作发光功能层时，发光功能层材料的液滴在干燥过程中不易发生咖啡环效应，进而提高显示装置的显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的现有技术中的一种显示基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的现有技术中的另一种显示基板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的第一种显示基板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的第二种显示基板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的第三种显示基板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的显示基板的多个开口沿平行于平坦层方向的截面图；

图7为本发明实施例提供的一种显示装置结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种3D显示原理示意图；

图9为本发明实施例提供的另一种3D显示原理示意图；

图10为本发明实施例提供的第四种显示基板的结构示意图；

图11为本发明实施例提供的第五种显示基板的结构示意图；

图12为本发明实施例提供的第六种显示基板的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的第七种显示基板的结构示意图；

图14为本发明实施例提供的第八种显示基板的结构示意图；

图15为本发明实施例提供的第九种显示基板的结构示意图；

图16为本发明实施例提供的第十种显示基板的结构示意图；

图17为本发明实施例提供的第十一种显示基板的结构示意图；

图18为本发明实施例提供的第十二种显示基板的结构示意图；

图19为本发明实施例提供的第十三种显示基板的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的实施例中，采用“第一”、“第二”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分，仅为了清楚描述本发明实施例的技术方案，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。

在本发明的实施例中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明的实施例中，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

实施例一

本发明实施例提供了一种显示基板，包括衬底以及位于衬底上的多个发光单元，发光单元包括如图3所示的平坦层(PLN)4，平坦层4包括阵列排布的多个开口(图3中未标记)，开口贯穿平坦层4；阳极(图3中未标记)，阳极包括与多个开口对应的多个子电极5，子电极5填满与其对应的开口，且子电极5沿垂直于平坦层4方向的最大厚度等于开口的深度；发光功能层(图3中未示出)，发光功能层至少覆盖阳极。

这里对于显示基板包括的多个发光单元的发光颜色不做限定；上述发光单元可以是红色发光单元、绿色发光单元或者蓝色发光单元中的任一种。由于该显示基板同时包括多个发光单元，则该显示基板可以同时包括红色发光单元、绿色发光单元或者蓝色发光单元三种颜色的发光单元；当然，也可以仅包括一种颜色的发光单元，例如：仅包括多个红色发光单元，或者仅包括多个绿色发光单元，或者仅包括多个蓝色发光单元。具体可以根据实际要求确定。

这里对于上述平坦层包括的膜层的数量不作限定；上述平坦层可以是如图3所示的单层结构，也可以是如图4或者图5中的双层膜结构，或者还可以是三层或者三层以上的多层膜结构。具体可以根据实际要求确定。

这里对于上述开口沿垂直于平坦层方向的截面形状不做限定，可以是如图3所示的T字形，也可以是倒梯形、倒三角形、矩形或者其他形状。具体可以根据实际要求确定。需要说明的是，上述子电极填满与其对应的开口，故上述子电极沿垂直于平坦层方向的截面形状与开口沿垂直于平坦层方向的截面形状相同。

这里对于上述开口沿平行于平坦层方向的截面形状不做限定，可以是如图6中A图所示的阵列排布的正方形，或者，可以是如图6中B图所示的阵列排布的长方形，又或者，还可以是如图6中C图所示的阵列排布的圆形，当然还可以是菱形、多边形或其它形状。具体可以根据实际要求确定。这里对于上述阵列排布的多个开口的行数和列数不进行限定，具体的行数和列数可以根据实际要求确定。

上述开口沿平坦层上表面的截面形状的边长或者直径的尺寸范围为1.5-15um；示例的，若其截面形状为长方形，该长方形的长可以为6um，宽可以为1um；若其截面形状为正方形，其边长可以为2um或者4um；若为圆形，其直径可以为3um或者4um。具体尺寸可以根据实际要求确定。

上述阳极包括多个子阳极，子阳极填满与其对应的开口(又称作阳极井)，且子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度等于开口的深度，此时，上述多个子阳极的上表面与平坦层的上表面共面，即多个子电极和平坦层不存在高度差，从而可以形成平坦的表面。以利于后续制作厚度均匀的发光功能层。

上述子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度的含义是指：子电极沿垂直于平坦层方向的最高点与最低点之间的距离。示例的，如图3所示的子电极沿垂直于平坦层方向的截面为T字形时，子电极的最大厚度H即为T字形上表面至下表面的距离；若其沿垂直于平坦层方向的截面为倒梯形，则最大厚度即为倒梯形的高。

上述阳极若采用具有反射功能的不透明材料形成，则该显示基板可用于顶发射型的OLED显示面板中，顶发射型的OLED显示面板即光线从阴极侧射出的显示面板。上述阳极若采用透明材料形成，则该显示基板可用于双面显示的OLED显示面板中，双面显示的OLED显示面板即光线从阴极和阳极两侧同时射出的显示面板。

上述发光功能层至少覆盖阳极的含义是指：发光功能层仅覆盖阳极；或者，发光功能层覆盖阳极，还覆盖如图3所示的子电极5之间的平坦层4；又或者，发光功能层覆盖阳极，覆盖如图3所示的子电极5之间的平坦层4，还覆盖阳极外围的平坦层。

上述发光功能层可以包括多个膜层，例如包括：空穴注入层(HIL层)、空穴传输层(HTL层)、电子阻挡层(EBL层)、发光层(EML层)、空穴阻挡层(HBL层)、电子注入层(EIL)。

本发明的实施例提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，该显示基板包括衬底以及位于衬底上的多个发光单元，发光单元包括：平坦层，平坦层包括阵列排布的多个开口，开口贯穿平坦层；阳极，阳极包括与多个开口对应的多个子电极，子电极填满开口，且子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度等于开口的深度；发光功能层，发光功能层至少覆盖阳极。

上述子电极沿垂直于平坦层方向的高度等于开口的深度，这样，多个子电极和平坦层不存在高度差，从而可以形成平坦的表面；在该平坦的表面上采用喷墨打印工艺制作发光功能层时，发光功能层材料的液滴在干燥过程中不易发生咖啡环效应，发光功能层膜厚均一性高，进而提高显示基板的显示效果。

可选的，参考图4和图5所示，平坦层还包括第一平坦层41和第二平坦层(第二平坦层可以是如图4所示的沉积型第二平坦层42，也可以是如图5所示的填充型第二平坦层43)，第一平坦层41位于第二平坦层和衬底(图4和图5中均未示出)之间；第二平坦层在衬底上的正投影位于第一平坦层在衬底上的正投影以内；第二平坦层在衬底上的正投影和阳极在衬底上的正投影互不交叠。需要说明的是，上述沉积型第二平坦层是采用沉积工艺，使用无机材料制作；上述填充型第二平坦层是采用打印工艺，使用有机材料制作。

上述第二平坦层在衬底上的正投影位于第一平坦层在衬底上的正投影以内的含义是第二平坦层在衬底上的正投影与第一平坦层在衬底上的正投影有重叠区域且第二平坦层在衬底上的正投影的面积大于第一平坦层在衬底上的正投影的面积。

上述第二平坦层在衬底上的正投影和阳极在衬底上的正投影互不交叠的含义是第二平坦层在衬底上的正投影和阳极在衬底上的正投影没有重叠区域。

通过设置上述第二平坦层，填平了第一平坦层与多个子电极之间的高度差，从而可以形成平坦的表面，以利于后续制作厚度均匀的发光功能层。

可选的，发光单元还包括如图4所示的围绕发光功能层(图4中未示出)的隔挡层6；隔挡层6位于阳极外围的第二平坦层(沉积型第二平坦层42)上；第二平坦层位于第一平坦层上未设置阳极的区域。

上述围绕发光功能层的隔挡层的含义是指：沿发光功能层的周围设置一圈隔挡层。上述每一个发光单元均包括围绕发光功能层的隔挡层，相邻两个发光单元的隔挡层相连接。

这里对于上述隔档层沿垂直于平坦层方向的截面形状不做限定，可以是如图4所示的等腰梯形，还可以是直角梯形、矩形、正三角形、半椭圆形等其它形状，具体可以根据实际要求确定。

如图4所示的第二平坦层为沉积型第二平坦层，沉积型第二平坦层可以采用无机材料制作，示例的，可以选择氧化硅(SiOx)或者氮化硅(SiNx)。

可选的，发光单元还包括如图5所示的围绕发光功能层(图5中未示出)和第二平坦层(填充型第二平坦层43)的隔挡层6；隔挡层6位于阳极外围的第一平坦层41上；第二平坦层位于第一平坦层上未设置阳极和隔档层的区域。

上述发光单元还包括围绕发光功能层和第二平坦层的隔挡层的含义是指：沿发光功能层和第二平坦层的周围设置一圈隔挡层。

如图5所示的第二平坦层为填充型第二平坦层，填充型第二平坦层可以采用有机材料制作，示例的，可以选择光阻材料，具体的，光阻材料的成分包括聚酰亚胺胶或者亚克力胶。

可选的，发光单元还包括围绕发光功能层的隔挡层；如图7所示，发光功能层7沿垂直于平坦层4方向的厚度小于隔挡层6沿垂直于平坦层4方向的厚度。上述发光功能层的厚度小于隔档层的厚度，可以避免相邻两个发光单元之间的混色。

可选的，开口沿平行于平坦层方向的截面形状为矩形、菱形、圆形中的任一种；子电极沿平行于平坦层方向的截面形状和开口沿平行于平坦层方向的截面形状相同。

上述多个开口沿平行于平坦层方向的截面形状可以是如图6中A图的阵列排布的正方形，或者，可以是如图6中B图的阵列排布的长方形，又或者，还可以是如图6中C图的阵列排布的圆形，当然还可以是菱形、多边形或其它形状。具体可以根据实际要求确定。

上述子电极沿平行于平坦层方向的截面形状和开口沿平行于平坦层方向的截面形状相同，其形状可以是正方形、长方形、圆形、菱形多边形或其它形状。具体可以根据实际要求确定。

实施例二

本发明实施例提供了一种显示装置，包括实施例一中的显示基板。

上述显示装置可以是OLED显示器等显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。

上述显示装置还可以是OLED裸眼3D显示装置，当上述显示装置是OLED裸眼3D显示装置时，该显示装置包括的如实施例一中的显示基板包括平坦层4、子电极5、隔档层6、发光功能层7，该显示基板还包括衬底9、阵列电路层8(TFT层)，其中，TFT层包括源极或漏极81(SD)；上述OLED裸眼3D显示装置还包括薄膜封装层10(TFE)、圆偏光片11、透镜阵列18和保护膜12。当然，上述OLED裸眼3D显示装置还包括其它结构或者膜层，本领域技术人员可以通过现有技术和公知常识获知OLED裸眼3D显示装置包括的其它结构或者膜层，这里不再赘述。需要说明的是，上述图7中的OLED裸眼3D显示装置是一种透镜裸眼3D显示装置。

裸眼3D(3-Dimensional)显示装置无须佩戴3D眼镜，就可以使人们观看到形象逼真的立体影像。它将佩戴者从传统的3D眼镜的束缚中解脱出来，从根本上解决了长时间佩戴3D眼镜所出现的头晕目眩的问题，极大的提高了人们的观看舒适度。

根据显示原理的不同，裸眼3D显示装置可以分为光栅式裸眼3D显示装置和柱状透镜3D显示装置；其中，基于光栅式裸眼3D显示装置以其制程简单，串扰小和生产成本低的优势，受到显示行业的广泛关注。参考图8所示的显示原理示意图，这种光栅式显示装置是利用设在背光模块和显示屏100(Screen)之间设置类似光栅的视差障壁101(ParallaxBarrier)，以产生明暗相间的条纹，亮条纹通过显示屏进入观看者的左眼和右眼。由于进入左眼102的亮条纹和进入右眼103的亮条纹是从两个角度发出的光线，观看者的两只眼睛所看到的图像是具有视差的两幅图像；具有时差的两幅图像在观看者大脑中叠加后，就能够使观看者在裸眼的情况下观看到3D化的显示图像。

上述类似光栅的视差障壁通常由液晶(LC)单元形成，液晶(LC)单元的工作模式与液晶显示屏(Liquid Crystal Display，LCD)的工作模式类似，在裸眼3D显示装置处于3D模式时，通过控制液晶单元形成类似光栅的图案用作视差障壁，实现裸眼3D的显示效果。在裸眼3D显示装置处于2D(2-Dimensional)模式时，LC单元被切换到透明状态，使得视差屏障不存在，从而实现普通的2D显示屏的显示效果。

柱状透镜3D显示装置的显示原理如图9所示，本领域技术人员可以通过现有技术和公知常识获知柱状透镜3D显示装置的显示原理以及包括的其它结构，这里不再赘述。

由实施例一中的显示基板制备得到的裸眼3D显示装置，提高了RGB SDS(红色、绿色、蓝色像素并置)全彩OLED显示装置的发光均匀性，结合透镜结构或者光栅结构，进一步提高了中大尺寸OLED裸眼3D显示装置的显示效果。该显示装置3D视角大、显示效果好，提升了用户体验。

实施例三

本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，方法包括：

S1、形成平坦层。

其中，平坦层包括阵列排布的多个开口，开口贯穿平坦层。

这里对于上述平坦层包括的膜层的数量不作限定；上述平坦层可以是如图3所示的单层结构，也可以是如图4或者图5中的双层膜结构，或者还可以是三层或者三层以上的多层膜结构。具体可以根据实际要求确定。上述开口沿平坦层上表面的截面形状的边长或者直径的尺寸范围为1.5-15um；示例的，若其截面形状为长方形，该长方形的长可以为6um，宽可以为1um；若其截面形状为正方形，其边长可以为2um或者4um；若为圆形，其直径可以为3um或者4um。具体尺寸可以根据实际要求确定。

S2、采用沉积工艺形成阳极薄膜，经过图案化处理形成阳极。

其中，阳极包括与多个开口对应的多个子电极，子电极填满开口，且子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度等于开口的深度。上述子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度的含义是指：子电极沿垂直于平坦层方向的最高点与最低点之间的距离。示例的，如图3所示的子电极沿垂直于平坦层方向的截面为T字形时，子电极的最大厚度即为T字形上表面至下表面的距离；若其沿垂直于平坦层方向的截面为倒梯形，则最大厚度即为倒梯形的高。

S3、采用喷墨打印工艺(IJP)形成发光功能层。

其中，发光功能层至少覆盖阳极。

上述发光功能层至少覆盖阳极的含义是指：发光功能层仅覆盖阳极；或者，发光功能层覆盖阳极，还覆盖如图3所示的子电极5之间的平坦层4；又或者，发光功能层覆盖阳极，覆盖如图3所示的子电极5之间的平坦层4，还覆盖阳极外围的平坦层。

上述发光功能层可以是蓝色发光功能层，或者绿色发光功能层，或者红色发光功能层。

上述发光功能层可以包括多个膜层，例如包括：空穴注入层(HTL层)、空穴传输层(HTL层)、电子阻挡层(EBL层)、发光层(EML层)、空穴阻挡层(HBL层)、电子注入层。

上述发光功能层包括的多个膜层均采用喷墨打印工艺制作而成。

采用上述方法制备的显示基板，在开口尺寸(边长或者直径的尺寸范围为1.5-8um)较小的情况下，可以制备高尺寸精度的开口，且在子电极填满对应开口时，子电极的形状与开口形状可以准确契合，能够确保形成的子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度等于开口的深度，这样，多个子电极和平坦层不存在高度差，从而可以形成平坦的表面；在后续制作发光功能层时，不易产生咖啡环效应，进而提高显示装置的显示效果。

在实际制作工艺过程中，针对平坦层结构的差异，该显示基板有不同的制作方法。

下面以如图3所示的显示基板的结构为例，说明平坦层的制作方法。

具体如下：S1、形成平坦层的方法包括：

S11、采用涂布、固化工艺形成如图10所示的平坦层薄膜21。

S12、采用溅射(Sputter)工艺，在平坦层薄膜21之上沉积形成如图10所示的金属层薄膜20。其中，溅射工艺的温度范围为20-100℃，示例的，可以在室温(25℃)、50℃或者80℃下溅射沉积金属层薄膜。

上述金属层薄膜可以采用金属或者金属氧化物制作。若采用金属，示例的，可以采用铝(Al)、钛(Ti)或者钼(Mo)制作；若采用金属氧化物，示例的，可以采用氧化铟锡(ITO)制作。

S13、采用湿法刻蚀工艺，对如图10所示的金属层薄膜20进行图案化处理，形成如图11所示的金属层22。

S14、以金属层为掩膜版，采用刻蚀工艺，对平坦层薄膜进行图案化处理，形成如图12所示的平坦层4。

其中，平坦层包括阵列排布的多个开口，开口贯穿平坦层。

这里对于上述开口沿平行于平坦层方向的截面形状不做限定，可以是如图6中A图所示的阵列排布的正方形，或者，可以是如图6中B图所示的阵列排布的长方形，又或者，还可以是如图6中C图所示的阵列排布的圆形，当然还可以是菱形、多边形或其它形状。具体可以根据实际要求确定。这里对于上述阵列排布的多个开口的行数和列数不进行限定，具体的行数和列数可以根据实际要求确定。

上述开口沿平坦层上表面的截面形状的尺寸范围为1.5-15um；示例的，若其截面形状为长方形，该长方形的长为6um，宽为1um；若其截面形状为正方形，其边长为2um或者4um；若为圆形，其直径为3um或者4um。具体尺寸可以根据实际要求确定。

上述湿法刻蚀工艺包括RIE工艺(Reactive Ion Etching，反应离子刻蚀)或者ICP刻蚀工艺(Inductive Coupled Plasma，电感耦合等离子体)。

S15、采用湿法刻蚀工艺去除金属层。

上述方法采用金属层为掩膜版，可以制备出具有高尺寸精度开口的平坦层，尤其在开口尺寸较小的情况下，其制备精度更高；平坦层制备完成后可以去除金属层，在后续形成阳极时，避免金属层可能对阳极造成的电性能的影响。使用该方法制备的显示基板，膜层结构简单，且其平坦层的开口尺寸精度高，在子电极填满对应开口时，子电极的形状可以与开口形状准确契合，能够确保形成的子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度等于开口的深度，这样，可以形成平坦的表面；在后续制作发光功能层时，不易产生咖啡环效应，进而提高显示装置的显示效果。

可选的，若平坦层包括第一平坦层和第二平坦层时，形成平坦层的方法包括两种，当第二平坦层为沉积型第二平坦层时，第一种制备平坦层的方法如下：

S21、在衬底上采用涂布、固化工艺形成如图13所示的第一平坦层薄膜21。

S22、采用沉积工艺在第一平坦层薄膜之上形成如图13所示第二平坦层薄膜23。

S23、在第二平坦层薄膜之上形成如图14所示图案化的光刻胶25。

S24、采用干法刻蚀工艺，以图案化的光刻胶为掩膜版对第二平坦层薄膜进行图案化处理，形成如图14所示的第二平坦层(涂布型第二平坦层42)。

其中，参考图4所示，第二平坦层位于第一平坦层上未设置阳极的区域。

采用上述沉积工艺形成的第二平坦层为沉积型第二平坦层，沉积型第二平坦层可以采用无机材料制作，示例的，可以选择氧化硅(SiOx)或者氮化硅(SiNx)。

S25、去除图案化的光刻胶(PR)。

S26、以图15所示的第二平坦层(沉积型第二平坦层42)为掩膜版，采用干法刻蚀工艺，对第一平坦层薄膜图案化处理，形成图16所示的第一平坦层41。

其中，第一平坦层位于第二平坦层和衬底之间。

上述方法采用第二平坦层(沉积型第二平坦层)作为第一平坦层的掩膜版，第二平坦层和第一平坦层形成的平坦层具有高尺寸精度的开口，在子电极填满对应开口时，子电极的形状可以与开口形状准确契合，能够确保形成的子电极沿垂直于平坦层方向的最大厚度等于开口的深度，这样，多个子电极和平坦层不存在高度差，从而可以形成平坦的表面；在后续制作发光功能层时，不易产生咖啡环效应，进而提高显示装置的显示效果。

进一步可选的，在S2、形成阳极之后、且在S3、形成发光功能层之前，该方法还包括：

在第二平坦层上形成隔挡层；隔挡层位于阳极外围且围绕发光功能层。

上述围绕发光功能层的隔挡层的含义是指：沿发光功能层的周围设置一圈隔挡层。上述每一个发光单元均包括围绕发光功能层的隔挡层，相邻两个发光单元的隔挡层相连接。

这里对于上述隔档层沿垂直于平坦层方向的截面形状不做限定，可以是如图4所示的等腰梯形，还可以是直角梯形、矩形、正三角形等其它形状，具体可以根据实际要求确定。

可选的，若平坦层包括第一平坦层和第二平坦层时，当第二平坦层为填充型第二平坦层时，第二种制备平坦层的方法具体如下：

S31、在衬底上形成第一平坦层。进一步可选的，S31、形成第一平坦层具体包括：

S311、在衬底上形成如图17的第一平坦层薄膜21。

S312、对第一平坦层薄膜图案化处理形成如图18所示的第一平坦层41。

在形成阳极之后，形成发光功能层之前，形成平坦层还包括：

S32、在阳极外围的第一平坦层上形成如图19的隔档层；隔挡层位于阳极外围的第一平坦层上。

S33、采用喷墨打印工艺在第一平坦层上未设置阳极和隔档层的区域，打印形成如图5所示的第二平坦层(填充型第二平坦层43)。

其中，上述填充型第二平坦层可以采用有机材料制作，示例的，可以选择光阻材料，具体的，光阻材料的成分包括聚酰亚胺胶或者亚克力胶。

上述通过喷墨打印形成第二平坦层的方法，使多个子电极和平坦层之间不存在高度差，从而可以形成平坦的表面；在后续制作发光功能层时，不易产生咖啡环效应，使得发光功能层成膜厚度均匀，发光颜色和亮度均匀，进而提高显示装置的显示效果。上述采用喷墨打印工艺形成的填充型第二平坦层结构精度高，制作方法简单，无需经过形成整层第二平坦层薄膜再图案化的步骤，使用原料少，成本低廉、灵活快速等优点。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元，所述发光单元包括：

平坦层，所述平坦层包括阵列排布的多个开口，所述开口贯穿所述平坦层；

阳极，所述阳极包括与多个所述开口对应的多个子电极，所述子电极填满所述开口，且所述子电极沿垂直于所述平坦层方向的最大厚度等于所述开口的深度；

发光功能层，所述发光功能层至少覆盖所述阳极。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层还包括第一平坦层和第二平坦层，所述第一平坦层位于所述第二平坦层和所述衬底之间；

所述第二平坦层在所述衬底上的正投影位于所述第一平坦层在所述衬底上的正投影以内；所述第二平坦层在所述衬底上的正投影和所述阳极在所述衬底上的正投影互不交叠。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元还包括围绕所述发光功能层的隔挡层；所述隔挡层位于所述阳极外围的所述第二平坦层上；所述第二平坦层位于所述第一平坦层上未设置所述阳极的区域。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元还包括围绕所述发光功能层和所述第二平坦层的隔挡层；所述隔挡层位于所述阳极外围的所述第一平坦层上；所述第二平坦层位于所述第一平坦层上未设置所述阳极和所述隔档层的区域。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元还包括围绕所述发光功能层的隔挡层；所述发光功能层沿垂直于所述平坦层方向的厚度小于所述隔挡层沿垂直于所述平坦层方向的厚度。

6.根据权利要求1-5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述开口沿平行于所述平坦层方向的截面形状为矩形、菱形、圆形中的任一种；所述子电极沿平行于所述平坦层方向的截面形状和所述开口沿平行于所述平坦层方向的截面形状相同。

7.一种显示装置，包括如权利要求1-6中任一项所述的显示基板。

8.一种如权利要求1-6任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

形成平坦层；所述平坦层包括阵列排布的多个开口，所述开口贯穿所述平坦层；

形成阳极；所述阳极包括与多个所述开口对应的多个子电极，所述子电极填满所述开口，且所述子电极沿垂直于所述平坦层方向的最大厚度等于所述开口的深度；

形成发光功能层；所述发光功能层至少覆盖所述阳极。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述形成平坦层包括：

形成平坦层薄膜；

采用溅射工艺，在所述平坦层薄膜之上形成金属层薄膜；

采用湿法刻蚀工艺，对所述金属薄膜进行图案化处理，形成金属层；

以所述金属层为掩膜版，采用刻蚀工艺，对所述平坦层薄膜进行图案化处理，形成所述平坦层；

去除所述金属层。

10.根据权利要8所述的方法，其特征在于，所述平坦层包括第一平坦层和第二平坦层；

所述形成平坦层包括：

在衬底上形成第一平坦层薄膜；

在所述第一平坦层薄膜之上形成第二平坦层薄膜；

在所述第二平坦层薄膜之上形成图案化的光刻胶；

采用干法刻蚀工艺，以所述图案化的光刻胶为掩膜版对所述第二平坦层薄膜进行图案化处理，形成所述第二平坦层；所述第二平坦层位于所述第一平坦层上且未设置所述阳极的区域；

去除所述图案化的光刻胶；

以所述第二平坦层为掩膜版，采用干法刻蚀工艺，对所述第一平坦层薄膜图案化处理，形成所述第一平坦层；所述第一平坦层位于所述第二平坦层和所述衬底之间。

11.根据权利要10所述的方法，其特征在于，在所述形成阳极之后、且在所述形成发光功能层之前，所述方法还包括：

在所述第二平坦层上形成隔挡层；所述隔挡层位于所述阳极外围且围绕所述发光功能层。

12.根据权利要8所述的方法，其特征在于，

所述形成平坦层包括：

在衬底上形成第一平坦层；

在所述形成阳极之后，所述形成发光功能层之前，所述形成平坦层还包括：

在所述阳极外围的所述第一平坦层上形成隔档层；所述隔挡层位于所述阳极外围的所述第一平坦层上；

采用喷墨打印工艺在所述第一平坦层上未设置所述阳极和所述隔档层的区域，形成所述第二平坦层。

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