CN111961317B - 用于制备辐射制冷制品的组合物、辐射制冷层的制备方法及应用 - Google Patents

用于制备辐射制冷制品的组合物、辐射制冷层的制备方法及应用 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种用于制备辐射制冷制品的组合物、辐射制冷层的制备方法及应用。该组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5‑10):(0.01‑5)。该组合物中，硅源配合基材以及显色组分，有效解决了传统的制冷剂难以在色彩丰富的情况下仍然具备良好的制冷效果的问题。在基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5‑10):(0.01‑5)的配比下，该组合物制备得到的制冷制品能够很好地满足色彩多样和制冷效果好的使用条件。

Description

用于制备辐射制冷制品的组合物、辐射制冷层的制备方法及 应用
技术领域
本发明涉及辐射制冷技术领域，尤其是涉及一种用于制备辐射制冷制品的组合物、辐射制冷层的制备方法及应用。
背景技术
目前，透明的设计越来越多，透明的设计能够提高采光效果，还能够提高美感。比如商场的顶部天窗、写字楼的透明外墙、普通住房的采光窗户以及汽车车窗等等。在实际应用中，通常是使用透明壳体(比如透明玻璃)来实现这些透明效果。然而这些壳体通常都需要长期暴露在太阳光下，长期大量的太阳光辐射会使室内或车内的温度升高，影响舒适程度。
发明内容
基于此，有必要提供一种用于制备辐射制冷制品的组合物、辐射制冷层的制备方法及应用。所述组合物制备得到的辐射制冷制品具有良好的辐射制冷效果，同时能够显示多样的色彩。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下：
一种用于制备辐射制冷制品的组合物，包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；所述基材、所述硅源以及所述显色组分的质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)。
在其中一个实施例中，所述基材、所述硅源以及所述显色组分的质量比为100:1:0.01；或，
所述基材、所述硅源以及所述显色组分的质量比为100:1:0.02。
在其中一个实施例中，所述基材为聚酯类基材、聚丙烯酸酯类基材、聚酰胺类基材、聚烯烃类基材、氟树脂基材以及丙烯腈-丁二烯-苯乙烯聚合物基材中的至少一种。
在其中一个实施例中，所述基材是粒径为250um-5mm的粒料。
在其中一个实施例中，所述硅源为SiO、SiO2、Si2O3、Si2N2O、Si3N4、SiN、SiC以及有机硅中的至少一种，所述硅源的粒径为3μm-10μm。
在其中一个实施例中，所述显色组分为有机色粉和/或无机色粉。
在其中一个实施例中，所述显色组分为有机荧光色粉和/或无机荧光色粉，所述显色组分的粒径为0.5μm-10μm。
一种辐射制冷层的制备方法，包括如下步骤：
将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)备料；
将所述基材与所述硅源混合造粒，得到混合料；
将所述混合料与所述显色组分混合，得到流延料；
将所述流延料挤出流延。
在其中一个实施例中，所述混合造粒的温度为180℃-300℃，所述挤出流延的温度为210℃-300℃。
一种辐射制冷膜，包括辐射制冷层；所述辐射制冷层采用上述任一实施例中所述的组合物制成；和/或，所述辐射制冷层采用上述任一实施例中所述的制备方法制备而成。
在其中一个实施例中，所述辐射制冷层的厚度为20μm-300μm；和/或，
所述辐射制冷层的可见光透射率不小于80％；和/或，
所述辐射制冷层在8μm-13μm波长范围内的辐射率不小于70％；和/或，
所述辐射制冷层的热吸收率不大于5％。
在其中一个实施例中，所述辐射制冷膜还包括反射层；所述反射层位于所述辐射制冷层的其中一个表面；所述反射层的材料包括金、银、铝、铜以及锌中的至少一种，所述反射层的厚度为0.01μm-0.3μm。
一种上述任一实施例中所述的辐射制冷膜的应用，包括如下步骤：将所述辐射制冷膜附着于待制冷基底的外表面。
上述用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)。采用合适质量比的基材、硅源以及显色组分能够显示出多样的色彩，同时能够制备得到具有良好制冷效果的辐射制冷制品。尤其是，相比于无色体系，彩色体系因为吸收了更多的太阳光而显示不一样的颜色，此时彩色体系的温度更容易升高，因此，传统的制冷制品难以在色彩丰富的情况下仍然具备良好的制冷效果。上述组合物中，硅源配合基材以及显色组分。在基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)的配比下得到的组合物能够使由其制备得到的辐射制冷制品很好地满足色彩多样和制冷效果好的使用条件。
上述辐射制冷层的制备方法中，首先将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)备料；然后将基材与硅源混合造粒，得到混合料；再将混合料与显色组分混合，得到流延料；再将流延料挤出流延。制备方法简单易行，适于大规模的工业化推广。
上述辐射制冷膜包括上述辐射制冷层。所述辐射制冷膜能够显示出多样的色彩，能够有效降低防护空间的温度，提高防护空间内的舒适程度。所述辐射制冷膜能够广泛应用于商场的顶部天窗、写字楼的透明外墙、普通住房的采光窗户以及汽车车窗等需要透明设计的应用场景。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关实施例对本发明进行更全面的描述。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
在本发明的描述中，由术语“中的至少一者”、“中的至少一个”、“中的至少一种”，或其他相似术语所连接的项目的列表可意味着所列项目的任何组合。例如，如果列出项目A及B，那么短语“A及B中的至少一种”意味着仅A、或仅B、或A及B。在另外的一些示例中，如果列出项目A、B及C，那么短语“A、B及C中的至少一种”意味着仅A、或仅B、或仅C、或A及B(排除C)、或A及C(排除B)、或B及C(排除A)、或A及B及C的全部。同时项目A可包含单个单元或多个单元。项目B可包含单个单元或多个单元。项目C可包含单个单元或多个单元。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本发明一实施例提供了一种用于制备辐射制冷制品的组合物，该组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)。
在本实施例中，采用合适质量比的基材、硅源以及显色组分制成用于制备辐射制冷制品的组合物，能够显示出多样的色彩，该组合物能够制备得到具有良好制冷效果的辐射制冷制品。尤其是，相比于无色体系，彩色体系因为吸收了更多的太阳光而显示不一样的颜色，此时彩色体系的温度更容易升高，因此，传统的制冷制品难以在色彩丰富的情况下仍然具备良好的制冷效果。本实施例中，在基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)的配比下得到的组合物能够使由其制备得到的辐射制冷制品很好地满足色彩多样和制冷效果好的使用条件。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:1:(0.01-5)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):0.02。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-2):(0.01-0.1)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:1:(0.01-0.1)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-2):0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-2):0.02。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-1.5):(0.01-0.05)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:1:(0.01-0.05)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-1.5):0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-1.5):0.02。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比可以是但不限定为100:1:0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物包括如下原料：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比可以是但不限定为100:1:0.02。
作为本发明的另一个实施例，本发明提供了一种用于制备辐射制冷制品的组合物，该组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:1:(0.01-5)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-10):0.02。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-2):(0.01-0.1)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:1:(0.01-0.1)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-2):0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-2):0.02。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-1.5):(0.01-0.05)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:1:(0.01-0.05)。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-1.5):0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比为100:(0.5-1.5):0.02。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比可以是但不限定为100:1:0.01。
在一个具体的示例中，用于制备辐射制冷制品的组合物的原料为：基材、硅源以及显色组分；基材、硅源以及显色组分的质量比可以是但不限定为100:1:0.02。
在一个具体的示例中，基材为聚酯类基材、聚丙烯酸酯类基材、聚酰胺类基材、聚烯烃类基材、氟树脂基材以及丙烯腈-丁二烯-苯乙烯聚合物基材中的至少一种。
在一个具体的示例中，基材是粒径为250μm-5mm的粒料。
优选地，基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚对苯二甲酸乙二醇-1,4-环己烷二甲醇酯(PCTG)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚己内酰胺(PA6)、聚己二酰己二胺(PA66)、聚十二内酰胺(PA12)、聚癸二酰癸二胺(PA1010)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚-4-甲基-1-戊烯(TPX)、聚偏氟乙烯(PVDF)、乙烯三氟氯乙烯共聚物(ECTFE)、氟乙烯丙烯共聚物(FEP)中的至少一种。
在一个具体的示例中，硅源为SiO、SiO2、Si2O3、Si2N2O、Si3N4、SiN、SiC以及有机硅中的至少一种。硅源能够有效提高组合物的辐射制冷效果。
优选地，硅源为粉料状硅源。具体地，硅源为SiO粉料、SiO2粉料、Si2O3粉料、Si2N2O粉料、Si3N4粉料、SiN粉料、SiC粉料以及有机硅粉料中的至少一种。粉料状的硅源更加便于与基材、显色组分进行均匀混合。进一步优选地，硅源的粒径为3μm-10μm。例如，硅源的粒径为3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm。
在一个具体的示例中，显色组分为有机色粉和/或无机色粉。显色组分可以是但不限定为荧光颜料、偶氮类颜料、酞菁类颜料、色啶类颜料、多环类颜料、金属氧化物颜料、咯酸盐颜料、碳酸盐颜料以及硫化物颜料等。
优选地，显色组分为有机荧光色粉和/或无机荧光色粉。有机荧光色粉和/或无机荧光色粉在实现彩色效果的同时，能够减少对太阳光的吸收，进一步提高制冷效果。
在一个具体的示例中，显色组分的粒径为0.5μm-10μm。例如，显色组分的粒径为0.5μm、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm。
本发明还有一实施例提供了一种辐射制冷层的制备方法，该辐射制冷层的制备方法包括如下步骤：
将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)备料；将基材与硅源混合造粒，得到混合料；将混合料与显色组分混合，得到流延料；将流延料挤出流延。
在一个具体的示例中，辐射制冷层的制备方法为：
将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-10):(0.01-5)备料；将基材与硅源混合造粒，得到混合料；将混合料与显色组分混合，得到流延料；将流延料挤出流延。
可以理解的是，在上述具体的示例中列出的用于制备辐射制冷制品的组合物的原料中基材、硅源以及显色组分的质量比均能够作为辐射制冷层中的备料原料，以用来制备辐射制冷膜。比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:1:(0.01-5)备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-10):0.01备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-10):0.02备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-10):0.02备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-2):(0.01-0.1)备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:1:(0.01-0.1)备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-2):0.01备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-2):0.02备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-1.5):(0.01-0.05)备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:1:(0.01-0.05)备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-1.5):0.01备料；比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:(0.5-1.5):0.02备料；再比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:1:0.01备料；再比如将基材、硅源以及显色组分按照质量比为100:1:0.02备料。
在一个具体的示例中，混合造粒的温度为180℃-300℃。
在一个具体的示例中，挤出流延的温度为210℃-300℃。
优选地，在备料前，对基材进行烘干处理，使基材的水分含量小于1000ppm，避免出现因水分含量过大而导致原料结块、混合不均匀等问题。
在一个具体的示例中，在将混合料与显色组分混合之前，将混合料在65℃-80℃下烘干3h-24h。
本发明另一实施例提供了一种辐射制冷膜，该辐射制冷膜包括辐射制冷层；辐射制冷层采用上述用于制备辐射制冷制品的组合物制成；和/或，采用上述辐射制冷层的制备方法制备而成。
优选地，辐射制冷层的厚度为20μm-300μm。在一些具体的示例中，辐射制冷层的厚度可以是但不限定为20μm、25μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、125μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm、210μm、220μm、230μm、240μm、250μm、260μm、270μm、280μm、290μm、300μm。辐射制冷层太薄难以充分表现出其显色效果；辐射制冷层太厚则会使其透过率受到一定的影响，同时，厚度太大还会给其后续的施工带来一定的难度。进一步优选地，辐射制冷层的厚度为25μm-125μm。
在一个具体的示例中，辐射制冷层的可见光透射率不小于80％。
在一个具体的示例中，辐射制冷层在8μm-13μm波长范围内的辐射率不小于70％。
在一个具体的示例中，辐射制冷层的热吸收率不大于5％。
在一个具体的示例中，辐射制冷膜还包括反射层，反射层位于辐射制冷层的其中一个表面。反射层的设置能够进一步提高辐射制冷膜的制冷效果。
优选地，反射层的材料包括金、银、铝、铜以及锌中的至少一种，反射层的厚度为0.01μm-0.3μm。进一步地，反射层的材料为金、银、铝、铜以及锌中的至少一种。
本发明还有一实施例提供了一种上述辐射制冷膜的应用，包括如下步骤：将辐射制冷膜附着于待制冷基底的外表面。待制冷基底可以是玻璃、金属、陶瓷、塑料等。进一步地，待制冷基底为透明基底。更进一步地，待制冷基底可以是商场的顶部天窗、写字楼的透明外墙、普通住房的采光窗户以及汽车车窗等。待制冷基底的外表面指的是接收太阳光辐射的表面。
以下为具体实施例：
以下实施例中有机红色色粉为汽巴固美特红A3B、有机黄色色粉为汽巴固美特黄2RLTS、有机蓝色色粉为汽巴艳佳丽蓝P.B、无机红色色粉为朗盛氧化铁红4130FM、无机黄色色粉为朗盛氧化铁黄4905、无机蓝色色粉为科莱恩B2G 131-CN、荧光蓝色色粉为MAB FF-19、荧光红色色粉为DAYGLO ZQ-13、荧光黄色色粉为DAYGLO ZQ-17。
实施例1
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与1g有机红色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例2
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与1g有机黄色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例3
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与1g有机蓝色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例4
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g有机红色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例5
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g有机黄色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例6
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g有机蓝色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例7
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g有机红色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为50μm的辐射制冷膜。
实施例8
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g有机黄色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为50μm的辐射制冷膜。
实施例9
本实施例中辐射制冷膜的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g有机蓝色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为50μm的辐射制冷膜。
实施例10
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g无机红色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例11
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g无机黄色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例12
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g无机蓝色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例13
本实施例中辐射制冷层的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与2g荧光蓝色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例14
本实施例中辐射制冷膜的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与100gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与3g荧光蓝色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例15
本实施例中辐射制冷膜的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与200gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与1g荧光红色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
实施例16
本实施例中辐射制冷膜的制备方法为：
S01，将聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)烘干至水分含量小于1000ppm；
S02，采用双螺杆挤出机将10kg烘干后的PETG树脂与150gSiO2粉料在250℃下混合造粒，得到混合料；
S03，将混合料在80℃下烘干5h，然后与1.5g荧光黄色色粉混合均匀，得到流延料；
S04，将流延料在260℃下流延挤出，得到厚度为75μm的辐射制冷膜。
对比例1
与实施例1相比，对比例1的不同之处在于，未添加有机红色色粉。
对比例2
与对比例1相比，对比例2的不同之处在于，辐射制冷膜的厚度为50μm。
对比例3
与实施例1相比，对比例3的不同之处在于，未添加SiO2粉料。
对比例4
与实施例1相比，对比例4的不同之处在于，SiO2粉料的质量为40g、有机红色色粉的质量为0.5g。
对比例5
与实施例1相比，对比例5的不同之处在于，SiO2粉料的质量为100g、有机红色色粉的质量为0.5g。
对比例6
与实施例13相比，对比例6的不同之处在于，SiO2粉料的质量为40g、荧光蓝色色粉的质量为0.5g。
对比例7
与实施例13相比，对比例7的不同之处在于，SiO2粉料的质量为100g、荧光蓝色色粉的质量为0.5g。
对比例8
本对比例模拟传统红色制冷层。与实施例4相比，对比例8的不同之处在于，未添加SiO2粉料，有机红色色粉的用量为20g。
对比例9
本对比例模拟传统黄色制冷层。与实施例5相比，对比例9的不同之处在于，未添加SiO2粉料，有机黄色色粉的用量为20g。
对比例10
本对比例模拟传统蓝色制冷层。与实施例6相比，对比例10的不同之处在于，未添加SiO2粉料，有机蓝色色粉的用量为20g。
测试例
对实施例1-16、对比例1-10中得到的辐射制冷层分别进行大气窗口平均发射率测试(测试光波长8000nm-13000nm)、太阳光波段平均吸收率测试、太阳光波段平均反射率测试以及太阳光波段平均透过率测试。测试结果如下：
Figure BDA0002641584350000191
Figure BDA0002641584350000201
由上表可以看出，与传统的彩色制冷层相比，本发明实施例1-16中制冷层的太阳波段平均吸收率更低，表明本发明中彩色制冷层在表现颜色多样性的同时具备良好的制冷效果。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种用于制备辐射制冷制品的组合物，其特征在于：由如下原料制备得到：基材、SiO2以及显色组分；所述基材、SiO2以及所述显色组分的质量比为100:1:0.01或100:1:0.02；
所述显色组分选自荧光颜料、偶氮类颜料、色淀类颜料、多环类颜料、金属氧化物颜料、铬酸盐颜料、碳酸盐颜料或硫化物颜料。
2.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：所述基材为聚酯类基材、聚丙烯酸酯类基材、聚酰胺类基材、聚烯烃类基材、氟树脂基材以及丙烯腈-丁二烯-苯乙烯聚合物基材中的至少一种。
3.如权利要求1-2中任一项所述的组合物，其特征在于：所述SiO2的粒径为3μm-10μm。
4.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：所述显色组分为有机荧光色粉和/或无机荧光色粉，所述显色组分的粒径为0.5μm-10μm。
5.一种辐射制冷层的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
将基材、SiO2以及显色组分按照质量比为100:1:0.01或100:1:0.02备料，所述显色组分选自荧光颜料、偶氮类颜料、色淀类颜料、多环类颜料、金属氧化物颜料、铬酸盐颜料、碳酸盐颜料或硫化物颜料；
将所述基材与所述SiO2混合造粒，得到混合料；
将所述混合料与所述显色组分混合，得到流延料；
将所述流延料挤出流延。
6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述混合造粒的温度为180℃-300℃，所述挤出流延的温度为210℃-300℃。
7.一种辐射制冷膜，其特征在于：包括辐射制冷层；所述辐射制冷层采用如权利要求1-4中任一项所述的组合物制成；和/或，所述辐射制冷层采用如权利要求5-6中任一项所述的制备方法制备而成。
8.如权利要求7所述的辐射制冷膜，其特征在于：所述辐射制冷层的厚度为20μm-300μm；和/或，
所述辐射制冷层的可见光透射率不小于80％；和/或，
所述辐射制冷层在8μm-13μm波长范围内的辐射率不小于70％；和/或，
所述辐射制冷层的热吸收率不大于5％。
9.如权利要求7-8中任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于：还包括反射层；所述反射层位于所述辐射制冷层的其中一个表面；所述反射层的材料包括金、银、铝、铜以及锌中的至少一种，所述反射层的厚度为0.01μm-0.3μm。
10.一种如权利要求7-9中任一项所述的辐射制冷膜的应用，其特征在于，包括如下步骤：将所述辐射制冷膜附着于待制冷基底的外表面。
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